特表2021-517905(P2021-517905A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2021-517905原子層蒸着用(ALD)、化学気相蒸着用(CVD)前駆体化合物およびこれを用いたALD/CVD蒸着法
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