(81)【指定国】
AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT
(a)長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備える第1の壁であって、前記主要部分が、任意選択で前記突出部分に垂直に延在し、前記第1の壁の前記突出部分に対する前記第1の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約1000:1〜約1:1である、第1の壁と、
(b)長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第2の壁と、を組み立てることであって、
前記組み立てが、前記第1の壁の前記突出部分と前記第2の壁とによって画定される第1のベントを画定するように行われる、組み立てることと、
前記第1の壁と前記第2の壁との間の空間をシールするように前記第1のベントをシールすることと、を含む、方法。
前記第2の壁が、前記第1のベントが開かれるように、有効な条件が前記第1の壁に対する前記第2の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、請求項19〜27のいずれかに記載の断熱構成要素。
前記断熱空間をシールするように前記第1のベントをシールするシーラントをさらに含み、前記シーラントが、任意選択で前記第1のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、請求項19〜31のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
前記熱膨張が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、請求項37〜40のいずれか一項に記載の方法。
前記加熱が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の前記空間および/もしくは前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の前記空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、請求項37〜41のいずれか一項に記載の方法。
第2のキャップをさらに備え、前記第2のキャップが、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、請求項43または44に記載の断熱構成要素。
(a)前記第1のキャップの前記第1のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、(b)前記第1のキャップの前記第2のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、または(a)および(b)である、請求項43〜50のいずれか一項に記載の断熱構成要素。
前記1つ以上の情報の項目が、前記構成要素の第1の表面から受け取られ、前記さらすことが前記構成要素の第2の表面上でもたらされる、請求項60〜65のいずれかに記載の試験方法。
前記構成要素を、前記構成要素の第1の表面で固定することをさらに含み、前記さらすことが前記構成要素の第2の表面上でもたらされる、請求項60〜66のいずれかに記載の試験方法。
前記構成要素の前記打撃、振動、またはその両方への前記さらすことの間、前記構成要素をある方向に維持することをさらに含む、請求項60〜67のいずれかに記載の試験方法。
前記システムは、前記トランスデューサが、前記バイブレータ装置から振動を受け取る前記構成要素の表面とは異なる前記構成要素の表面に配設されるように構成されている、請求項74に記載の試験システム。
前記システムが、前記構成要素を前記振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する前記構成要素から発した1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記1つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、請求項73〜75のいずれかに記載の試験システム。
前記トランスデューサが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突時に前記構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、請求項77に記載の試験システム。
前記システムが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突に関連する1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記1つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、請求項77または78に記載の試験システム。
前記調整が、前記第1の境界構成要素の前記調整された領域、前記第2の境界構成要素の前記調整された領域、またはその両方の不純物を低減するように行われる、請求項81に記載の方法。
スペーサ材料が前記シールされた排気領域内に留まるように、前記第1の境界構成要素と前記第2の境界構成要素との間に前記スペーサ材料を配設することをさらに含む、請求項81〜84のいずれかに記載の方法。
前記調整が、前記スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、前記スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方を含む、請求項85〜87のいずれかに記載の方法。
前記処理が、前記第1の境界構成要素および前記第2の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、請求項80〜91のいずれかに記載の方法。
【発明を実施するための形態】
【0026】
本開示は、本開示の一部を形成する添付の図および例に関連して取られた以下の詳細な説明を参照することによって、より容易に理解され得る。本発明は、本明細書に記載および/もしくは示される特定のデバイス、方法、用途、条件またはパラメータに限定されず、本明細書で使用される用語は、例としてのみ特定の実施形態を説明することを目的としており、請求された発明を限定することを意図するものではないことを理解されたい。
【0027】
また、添付の特許請求の範囲を含めて明細書で使用されるように、単数形「ある(a)」、「ある(an)」、および「その(the)」は複数形を含み、特定の数値への言及は、文脈が明確に指示しない限り、少なくともその特定の値を含む。本明細書で使用される「複数(plurality)」という用語は、1つより多いことを意味する。値の範囲が表される場合、もう一つの実施形態は、1つの特定の値からおよび/もしくは他の特定の値までを含む。同様に、値が近似値として表される場合、先行詞「約」を使用することにより、特定の値がもう一つの実施形態を形成することが理解されるであろう。すべての範囲は包括的で組み合わせ可能であり、ステップは任意の順序で実行できることを理解されたい。
【0028】
明確にするために、別個の実施形態の文脈で本明細書に記載されている本発明の特定の特徴はまた、単一の実施形態で組み合わせて提供されてもよいことが理解されるべきである。逆に、簡潔にするために、単一の実施形態の文脈で説明される本発明の様々な特徴はまた、別個にまたは任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。本書に引用されているすべての文書は、あらゆる目的のためにその全体が本書に組み込まれている。
【0029】
さらに、範囲に記載されている値への参照には、その範囲内のすべての値が含まれる。加えて、「備える(comprising)」という用語は、その標準的な制限のない意味を有すると理解されるべきであるが、「からなる(consisting)」も同じように包含すると理解されるべきである。例えば、パートAおよびパートBを備えるデバイスは、パートAおよびパートBに加えてパーツを含み得るが、パートAおよびパートBからのみ形成されてもよい。
【0030】
例示的な壁、シーリングプロセス、および断熱スペースは、例えば、US2018/0106414、US2017/0253416、US2017/0225276、US2017/0120362、US2017/0062774、US2017/0043938、US2016/0084425、US2015/0260332、US2015/0110548、US2014/0090737、US2012/0090817、US2011/0264084、US2008/0121642、US2005/0211711、WO/2019/014463、WO/2019/010385、WO/2018/093781、WO/2018/093773、WO/2018/093776、PCT/US2018/047974、WO/2017/152045、US62/773,816およびUS6,139,571、に見いだすことができ、これらの文書の全体は、あらゆる目的のために本明細書に組み込まれる。
【0031】
図
添付の非限定的な図は、開示された技術の様々な態様を図示している。これらの図は単なる例示であり、本開示の範囲または添付の特許請求の範囲を限定するものではないことを理解されたい。
【0032】
図1は、本開示による構成要素10の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素10は、第1の壁100を含み、その第1の壁は、主要部分102を画定することができる。第1の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これは必須ではない。突出部分は長さ104を定義することができる。第1の壁はまた、ランド部分106を含むことができる。
【0033】
示されるように、ベント118は、第1の壁100と第2の壁110との間に画定することができる。第2の壁110は、主要部分(ラベル付けされていない)を含むことができ、第2の壁110はまた、例えば、第2の壁110が構成において管状である場合、その中の容積を画定することができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、ランド部分114を含むことができる。第2のベント116は、第1の壁と第2の壁との間に画定することができる。示されるように、第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間の主軸に平行な線150を引くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、第1のベント116および第2のベント118の両方と交差しない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。(「第1の壁」および「第2の壁」という用語は、単に便宜上のものであり、限定するものではないことを理解されたい。一例として、「第1の壁」は、二重壁管構成要素の内壁またはその二重壁管構成要素の外壁であることができる。)
【0034】
壁100および110の一方または両方は、構成において円筒形であり得ることを理解されたい。このようにして、壁は、壁110内に容積(102c)を画定することができ、その容積102cは、形状が円筒形であり得、中心線を有することができる(
図1に示される)。壁100および110のいずれかまたは両方が、そこから延在する1つ以上のフィンを含むことができることも理解されたい。フィンは、ヒートシンクとしておよび/もしくは熱交換面として機能することができる。
【0035】
図2は、本開示による構成要素の代替の実施形態の描写を提供する。示されるように、第1の壁100は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むが、これは必須ではない。第2の壁110は、主要部分(ラベル付けされていない)を含むことができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、ランド部分114を含むことができる。第2のベント116は、第1の壁と第2の壁との間に画定することができる。示されるように、
図2の実施形態は、単一のベント、すなわちベント114のみを含む。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができ、これは、排気することができる。
【0036】
図3は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合は
図1のシールされたバージョンである。より具体的には、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これは必須ではない。第1の壁はまた、ランド部分106を含むことができ、そのランド部分は、第2の壁110にシールすることができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、第1の壁100にシールすることができるランド部分114を含むことができる。第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド106および114での第1の壁と第2の壁との間のシールと交差しない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0037】
図4は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合は
図1のシールされたバージョンである。より具体的には、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これは必須ではない。第1の壁はまた、ランド部分106を含むことができ、そのランド部分は、シーラント154によって第2の壁110にシールすることができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、シーラント152によって第1の壁100にシールすることができるランド部分114を含むことができる。第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド106および114での第1の壁と第2の壁との間のシールと交差しない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0038】
添付の図は、ある場合には壁の間の空間/ベントが開いていることを示しているが、これらのベントのすべてをシールすることができることを理解すべきである。
【0039】
図5は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供し、この場合、
図5の構成要素のバージョンは完全に組み立てられていない。より具体的には、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これは必須ではない。第1の壁はまた、ランド部分106を含むことができ、そのランド部分は、シーラント154によって第2の壁110にシールすることができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、シーラント152によって第1の壁100にシールすることができるランド部分114を含むことができる。第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間の主軸に平行線を描くことができる。いくつかの実施形態では、そのような平行線は、ランド106および114での第1の壁と第2の壁との間のシールと交差しない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0040】
図6は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、第1の壁100からある角度θ1で突出することができる突出部分108を含むことができる。角度θ1は、約90度〜約1度までであることができ、すなわち、壁100を折り返して角度付けられた突出部分108を有する。示されているように、ランド106は、突出部分108から延在することができる。ランド106は、突出部分108から角度θ2であることができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約1度〜約180度までであることができる。示されるように、ランド106および壁110は、それらの間に開口部またはベントを画定することができる。壁100は、特徴部160を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
【0041】
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁100と壁110との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁110は、特徴部162を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁100と壁110との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁110は、第2の壁110からある角度θ3で突出することができる突出部分112を含むことができる。角度θ3は、約90度〜約1度までであることができ、すなわち、第2の壁110を折り返して角度付けられた突出部分112を有する。第2の壁110はまた、ランド106を含むことができる。ランド106は、突出部分112から角度θ4で突出することができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約1度〜約180度までであることができる。示されるように、壁100およびランド114は、それらの間に開口部(またはベント)を画定することができる。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0042】
図7は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁100は、特徴部160を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
【0043】
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁100と壁110との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁110は、特徴部162を含むことができ、その特徴部は、例えば、リッジ、バンプ、リングなどであり得る。
【0044】
特定の理論に拘束されることなく、そのような特徴部は、壁100と壁110との間に画定された空間内の分子の動きを妨げるように作用することができる。壁110は、第2の壁110からある角度θ3で突出することができる突出部分112を含むことができる。角度θ3は、約90度〜約1度までであることができ、すなわち、第2の壁110を折り返して角度付けられた突出部分112を有する。第2の壁110はまた、ランド106を含むことができる。ランド106は、突出部分112から角度θ4で突出することができ、その角度は、すべての中間値および値の範囲を含めて、約1度〜約180度までであることができる。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0045】
図8は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁110は、突出部分112を含むことができる。示されるように、経路170は、第1の壁100および第2の壁110に衝突する分子がたどるジグザグ経路を示し、中心線172は、構成要素の中心線にほぼ沿って移動する分子の経路を示すために使用されている。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0046】
図9は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁110は、突出部分112を含むことができる。示されるように、経路170は、第1の壁100および第2の壁110に衝突する分子がたどるジグザグ経路を示し、中心線172は、構成要素の中心線にほぼ沿って移動する分子の経路を示すために使用されている。
【0047】
示されるように、経路170および経路172は、経路のそれぞれの分子が位置178で衝突するときに交差し、示されるように、衝突する分子の経路は、衝突によって変えられ、経路172は、軌道174に沿ってわずかに上方に偏向されており、経路170は、経路176に偏向されている。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0048】
図10は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁110は、突出部分112を含むことができる。示されるように、経路180および182は、壁100と壁110との間に画定された容積内の分子がたどる線形の平行な経路を示す。
【0049】
示されているように、平行な分子経路は互いに交差せず、容積からの出口がないため、分子はそれらの経路上に残る。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0050】
図11は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁110は、突出部分112を含むことができる。示されるように、経路180および182は、ここでベント118を指し、このベントは、ランド106と第1の壁100との間に画定されている。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0051】
図12は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、突出部分108を含むことができる。壁110は、突出部分112を含むことができる。示されるように、経路180および182は、ここでベント118を指し、このベントは、ランド106と第1の壁100との間に画定されている。
【0052】
第2のベント116は、第1の壁100のランド(図示せず)と第2の壁110との間に画定されており、第1のベントは、第2の壁110のランド106と第1の壁100との間に画定されている。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0053】
図13は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。より具体的には、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、第1の壁の主要部分からある角度θaで突出することができる突出部分108を含むことができる。角度θaは、約1度〜約180度までであることができ、その中のすべての値および範囲であることができる。
【0054】
壁110は、第2の壁110からある角度θbで突出することができる突出部分112を含むことができる。角度θbは約1度〜約180度であることができる。特定の理論に拘束されることなく、角度θaおよび角度θbは、突出部分108および112が、壁100と壁110との間に画定された空間内を移動する分子を、突出部分の反対側に位置するベントに向かって偏向させるように作用するように選択することができる。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0055】
図14は、開示された技術の実施形態のさらなる描写を提供する。より具体的には、描写された構成要素は、第1の壁100を含む。第1の壁は、第1の壁の主要部分からある角度θa(図示せず)で突出することができる突出部分108を含むことができる。角度θaは、約1度〜約180度までであることができ、その中のすべての値および範囲であることができる。
【0056】
壁110は、第2の壁110からある角度θbで突出することができる突出部分112を含むことができる。角度θbは約1度〜約180度であることができる。特定の理論に拘束されることなく、角度θaおよび角度θbは、突出部分108および112が、壁100と壁110との間に画定された空間内を移動する分子を、突出部分の反対側に位置するベントに向かって偏向させるように作用するように選択することができる。
【0057】
示されるように、経路180aをたどる分子は、突出部分108または112によって少なくとも部分的に画定されるベントに向けることができる。同様に、経路180bをたどる分子は、突出部分108または112によって少なくとも部分的に画定されるベントに向けることができる。領域182は、従来の技法を使用してシールされた容積を排気するときに最も効率的に排気されない「デッドスペース」の領域を説明するために示されている。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0058】
図15A、
図15B、および
図15Cは、様々な壁の実施形態の描写を提供する。
図15Aに示されるように、壁200は、壁の端部で外向きにフレアすることができる第1の発散性部分200aを含むことができる。壁はまた、端部部分200bを含むことができ、その部分は、発散性部分200aから内側にテーパすることができる。壁はまた、端部部分200bからカールして戻ることができるカール部分200cを含むことができる。
【0059】
図15Bは、壁の実施形態の描写を提供する。示されるように、壁200は、端部部分200bおよびカール部分200dを含み、そのカール部分は、壁200に対して(例えば、ピンチングによって)カールして戻る。
【0060】
図15Cは、壁の実施形態のさらなる描写を提供する。示されるように、壁200は、端部部分200bおよびカール部分200dを含む。第2の壁210は、壁210から角度θxを付けて外向きにフレアするフレア部分210aを含む。(角度θxは、1度から180度であり得るが、好ましくは約90度である。
【0061】
示されるように、壁210は、壁200とカール部分200dとの間の空間に挿入することができるシール部分210bを含むことができ、続いて、カール部分200dをシール部分210aに対して挟むか、さもなければ行使して、壁200と壁210との間に画定されるシール空間を作ることができる。特定の実施形態に拘束されることなく、壁200および210は、互いに摩擦嵌合することができる。そのような一実施形態では、壁210は、カール部分200dに対してスプリングバックを及ぼすことができる。
【0062】
図16は、本開示による、シールされた環状空間を含む構成要素の断面図を提供する。
【0063】
図17は、
図16からの領域「B」の拡大断面を提供する。示されるように、第1の壁100は、第2の壁110のカール部分110aにシールすることができ、カール部分110aは、端部部分112から適切に延在する。高さ112aは、カール部分110aと壁110との間に定義することができる。高さ112aは、適切には、壁100と110との間に画定された空間102aの長さの約1:1000〜約1:2である。
【0064】
いくつかの実施形態では、カール部分110aは、壁100に対してスプリングバックを及ぼすことができる。他の実施形態では、壁100は、例えば、壁100の内径がカール部分110aの外径よりも小さいときに、カール部分110aに対して圧縮を及ぼすことができる。
【0065】
図18は、
図16からの領域「C」の拡大断面を提供する。示されるように、第1の壁100は、「ランド」と呼ばれることもできる突出108およびカール部分110aを含むことができる。壁110は、カール部分108aに適切にシールされている。高さ108aは、カール部分108aと壁110との間に定義することができる。高さ108aは、適切には、壁100と110との間に画定された空間102aの長さの約1:1000〜約1:2である。
【0066】
いくつかの実施形態では、カール部分110aは、壁110に対してスプリングバックを及ぼすことができる。他の実施形態では、壁110は、例えば、壁100の内径がカール部分110aの外径よりも小さいときに、カール部分110aに対して圧縮を及ぼすことができる。
【0067】
図19は、本開示による、シールされた環状空間を含む構成要素の断面図を提供する。
【0068】
図20は、
図19からの領域「E」の拡大断面を提供する。示されるように、第1の壁100は、第2の壁110のカール部分110aにシールすることができ、カール部分110aは、端部部分112から適切に延在する。
【0069】
高さ112aは、カール部分110aと壁110との間に定義することができる。高さ112aは、適切には、壁100と110との間に画定された空間102aの長さの約1:1000〜約1:2である。
【0070】
いくつかの実施形態では、壁100は、カール部分110aに対してスプリングバックすることができる。他の実施形態では、カール部分110aは、例えば、カール部分110aの内径が壁100の外径よりも小さいときに、壁100に対して圧縮を及ぼすことができる。
【0071】
図21は、
図16からの領域「F」の拡大断面を提供する。示されるように、第1の壁100は、「ランド」と呼ばれることもできる突出108およびカール部分110aを含むことができる。壁110は、カール部分108aに適切にシールされている。高さ108aは、カール部分108aと壁110との間に定義することができる。高さ108aは、適切には、壁100と110との間に画定された空間102aの長さの約1:1000〜約1:2である。
【0072】
いくつかの実施形態では、壁110は、カール部分100aに対してスプリングバックすることができる。他の実施形態では、カール部分100aは、例えば、カール部分100aの内径が壁110の外径よりも小さいときに、壁110に対して圧縮を及ぼすことができる。
【0073】
図22は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁100および110は、それらの間の空間102aを画定する。第1のキャップ190は、ランド190aおよび190bを含むことができる。ランド190aおよび190bは、それぞれ、壁100および壁110にシールすることができる。
【0074】
図22に示されるように、第1のキャップ190は、壁100と110との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
図22に示されるように、ランド190aおよび190bは、互いに対して反対方向に延在することができる。構成要素は、第2のキャップ192を含むことができ、その第2のキャップは、ランド192aおよび192bを含むことができる。ランド192aおよび192bは、それぞれ、壁100および110にシールすることができる。
【0075】
シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。シーリングは、例えば、ろう付け材料の周方向のリボンを処理することによって達成することができる。シーリングはまた、例えば、多孔質セラミックなどの多孔質支持材料内に配設されたある量のシーリング材料(例えば、ろう付け材料)を処理することによって達成することができる。シーリング材料は、少なくとも部分的に軟化または液化するまで加熱することができる。その軟化/液化形態において、シーリング材料は、例えば、ウィッキングおよび/もしくは毛管作用によって、多孔質支持材料内に引き込むことができる。シーリング材料はまた、支持材料内へのシーリング材料の移動に影響を与える圧力勾配の適用によって、支持材料内に引き込まれ、および/もしくは強制され得る。これの例は、非限定的な
図26〜
図28に見られる。
【0076】
示されているように、ランド192aおよび192bは、互いに対して反対方向に延在することができる。空間102aは、大気圧以下であり得る。また、
図22に示されるように、ランド190a、190b、192a、および192bは、壁100および110の一方または両方によって重なり合うことができる。
図22に示されるように、ランド190aは壁100とベントを画定し、ランド190bは壁110とベントを画定し、ランド192aは壁100とベントを画定し、ランド192bは壁110とベントを画定する。
【0077】
ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。一例として、ユーザは、最初に、ランド190aおよび壁100ならびにランド192bおよび壁110によって画定されるベントをシールすることができる。このようにして、ランド190bと壁100およびランド192aと壁100によって画定されるベントは開いたままであり、互いに対角線上(空間102a内)に位置付けされる。キャップ190および192のいずれかまたは両方が、壁100および110の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
【0078】
特定の理論に拘束されることなく、
図22(および他の開示された実施形態)の構成は、壁(例えば、100および110)の間の空間102aに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント116aは、壁100とキャップ190のランド190aとで形成され、ベント116cは、壁110とキャップ190のランド190bとで形成され、ベント116bは、壁100とキャップ192のランド192aとで形成され、ベント116dは、ランド192bと壁110とによって形成されている。このようにして、空間102aに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
【0079】
図23は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁100および110は、それらの間の空間102aを画定する。第1のキャップ190は、ランド190aおよび190bを含むことができる。ランド190aおよび190bは、それぞれ、壁100および壁110にシールすることができる。
図2に示されるように、第1のキャップ190は、壁100と110との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
【0080】
図23に示されるように、ランド190aおよび190bは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。構成要素は、第2のキャップ192を含むことができ、その第2のキャップは、ランド192aおよび192bを含むことができる。ランド192aおよび192bは、それぞれ、壁100および110にシールすることができる。
【0081】
図23に示されるように、キャップ192は、壁100と110との間の距離未満であるか、またはほぼ等しい高さを画定することができる。シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。キャップ190は、ランド190aおよび190bが壁100および110の外側と重なるように構築することができる。
【0082】
示されているように、ランド192aおよび192bは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。空間102aは、大気圧以下であり得る。
図23に示されるように、キャップ190および192の一方または両方は、空間102aに対して凸状であり得る。
【0083】
また、
図23に示されるように、ランド190a、190b、192a、および192bは、壁100および110の一方または両方によって重なり合うことができる。
図23に示されるように、ランド190aは壁100とベントを画定し、ランド190bは壁110とベントを画定し、ランド192aは壁100とベントを画定し、ランド192bは壁110とベントを画定する。ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。一例として、ユーザは、最初に、ランド190aおよび壁100ならびにランド192bおよび壁110によって画定されるベントをシールすることができる。このようにして、ランド190bと壁100およびランド192aと壁100によって画定されるベントは開いたままであり、互いに対角線上(空間102a内)に位置付けされる。キャップ190および192のいずれかまたは両方が、壁100および110の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
【0084】
特定の理論に拘束されることなく、
図23(および他の開示された実施形態)の構成は、壁(例えば、100および110)の間の空間102aに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント116aは、壁100とキャップ190のランド190aとで形成され、ベント116cは、壁110とキャップ190のランド190bとで形成され、ベント116bは、壁100とキャップ192のランド192aとで形成され、ベント116dは、ランド192bと壁110とによって形成されている。このようにして、空間102aに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
【0085】
図24は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁100および110は、それらの間の空間102aを画定する。第1のキャップ190は、ランド190aおよび190bを含むことができる。ランド190aおよび190bは、それぞれ、壁100および壁110にシールすることができる。
【0086】
図24に示されるように、第1のキャップ190は、壁100と110との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
図24に示されるように、ランド190aおよび190bは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。構成要素は、第2のキャップ192を含むことができ、その第2のキャップは、ランド192aおよび192bを含むことができる。ランド192aおよび192bは、それぞれ、壁100および110にシールすることができる。
【0087】
図24に示されるように、第1のキャップ190は、壁100と110との間の距離未満であるか、またはほぼ等しい高さを画定することができる。シーリングは、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって達成することができる。
【0088】
示されているように、ランド192aおよび192bは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。空間102aは、大気圧以下であり得る。
図24に示されるように、キャップ190および192の一方または両方は、空間102aに対して凸状であり得る。また、
図24に示すように、ランドおよび壁(例えば、ランド190aおよび壁100)は、ランドと重なっている壁(例えば、ランド190bおよび壁110)ではなく、ランドが壁と重なるように配置することができる。
【0089】
キャップ190および192のいずれかまたは両方が、壁100および110の一方または両方に対して摩擦嵌合することができることを理解されたい。
【0090】
特定の理論に拘束されることなく、
図22(および他の開示された実施形態)の構成は、壁(例えば、100および110)の間の空間102aに存在する分子がその空間から通過することができる複数の道を可能にする。示されるように、ベント116aは、壁100とキャップ190のランド190aとで(つまり、その間に)形成され、ベント116cは、壁110とキャップ190のランド190bとで形成され、ベント116bは、壁100とキャップ192のランド192aとで形成され、ベント116dは、ランド192bと壁110とで形成される。このようにして、空間102aに存在する分子は、出口のための複数の道を有する。
【0091】
図24に示されるように、空間102aを出る分子は、P
出口によって示される出口経路をたどることができる。示されているように、出口経路は、壁100の端部に向かってまたはその方向にあり、ランド190aの端部から離れてゆく。この経路は
図24の状況において示されているが、
図24での図示は例示であり、本開示はそのような出口経路(すなわち、構成要素の1つの壁(またはランド)の端部に向かう方向で、かつ構成要素の別の壁(またはランド)の端部から離れてゆく)を企図していることが理解されるべきである。
【0092】
図25は、本開示による構成要素10の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素10は、第1の壁100を含み、その第1の壁は、主要部分102を画定することができる。第1の壁は、任意選択で主要部分から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これは必須ではない。突出部分は長さ104を定義することができる。第1の壁はまた、ランド部分106を含むことができ、そのランド部分は、主要部分102と同じ方向に延在することができる。示されるように、ベント118は、ランド部分106と第2の壁110との間に画定することができる。ランド106はまた、第2の壁110と距離105bだけ重なることができる。
【0093】
示されるように、ベント118は、突出部分108から距離を置いて配設することができ、すなわち、ベント118は、構成要素の端部にある必要はなく、壁110に沿った本質的に任意の場所に位置することができる。
【0094】
第2の壁110は、主要部分110cを含むことができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、ランド部分114を含むことができ、示されるように、ランド部分114は、主要部分110cと同じ方向に延在することができる。第2のベント116は、第1の壁と第2の壁との間に画定することができる。
【0095】
ランド114はまた、第1の壁100と距離105aだけ重なることができる。示されるように、第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間の主軸に平行な線150を引くことができる。
【0096】
いくつかの実施形態では、そのような平行線は、第1のベント116および第2のベント118の両方と交差しない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。示されるように、ベント116は、突出部分112から距離を置いて配設することができ、すなわち、ベント118は、構成要素の端部にある必要はなく、壁100に沿った本質的に任意の場所に位置することができる。
【0097】
複数のベントを使用することもできるが、本開示による構成要素は、1つのベントのみを含むことができることを理解されたい。ベントは、当業者に知られている技法、例えば、ろう付け、溶接、接着剤などを介してシールすることができることも理解されたい。特定の理論に拘束されることなく、構成要素の端部からさらに遠く、構成要素の中間点に近くベントを位置付けることにより、分子をベントに近づけることが容易になるため、構成要素の壁の間に画定された空間をより効果的に排気することができる。特定の実施形態に拘束されることなく、壁100および110は、例えば、ランド114および壁100の一方または両方が他方に対して作用する場合、互いに摩擦嵌合することができる。同様に、ランド部分106および壁110の一方または両方は、他方に対して作用することができる。
【0098】
図26は、本開示による例示的な構成要素10の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。
図26に示されるように、第1の壁100は、任意選択で壁100から垂直に突出することができる突出部分108を含むことができるが、これ(任意選択の垂直の突出)は必須ではない。壁100はまた、ランド部分106を含むことができ、このランド部分は、任意選択で突出部分108から垂直に突出することができる。
【0099】
第2の壁110は、任意選択で壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができるが、これ(任意選択の垂直の突出)は必須ではない。壁110はまた、ランド部分114を含むことができ、このランド部分は、任意選択で突出部分112から垂直に突出することができる。壁100および110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。
【0100】
示されるように、材料194を、壁100とランド部分114との間に配設することができる。セラミック材料は、粒子状形態であり得る。材料194は、セラミック材料であり得る。材料194はまた、例えば、多孔質材料のリボンまたはリングとして、多孔質形態であることもできる。ある量194aのろう付け材料を、材料194に隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁100とランド部分114との間の空間(ラベル付けされていない)の一部またはすべての周りに周方向に配設され得る。
【0101】
示されるように、材料194cを、壁110とランド部分106との間に配設することができる。セラミック材料は、粒子状形態であり得る。材料194cは、セラミック材料であり得る。材料194cはまた、例えば、多孔質材料のリボンまたはリングとして、多孔質形態であることもできる。ある量194bのろう付け材料を、材料194cに隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁110とランド部分106との間の空間(ラベル付けされていない)の一部またはすべての周りに周方向に配設され得る。
【0102】
図27は、
図26に示される構成要素10の断面図を提供する。
図27に示されるように、ろう付け材料194aおよび194bは、材料194および194c内に配設されるように(例えば、加熱によって)処理されている。ろう付け材料194aおよび材料194を参照して(また、特定の理論に拘束されることなく)、ろう付け材料194aは、少なくとも部分的に軟化するか、または液化するように加熱することができる。その軟化/液化形態において、ろう付け材料194aは、例えば、ウィッキングおよび/もしくは毛管作用によって、材料194内に引き込まれる。ろう付け材料194aはまた、ろう付け材料194aの材料194内への移動に影響を与える圧力勾配の適用によって、材料194内に引き込まれ、および/もしくは強制され得る。
【0103】
再びろう付け材料194aおよび材料194を参照すると、ろう付け材料194aが材料194内に配設された後、ろう付け材料194a(例えば、再硬化後の)は、ろう付け材料194aが材料194a内の空間/空隙を埋めるので、構成要素12の外部の環境に対して空間102aをシールするように作用する。
【0104】
非限定的な例として、ろう付け材料194aは、それが特定の温度T
Lで液化するように選択することができる。構成要素10は、空間102a内に配設された分子が励起されて空間102aを出るように、T
Lよりも低い温度にある環境で加熱することができる。空間102aから少なくとも一部の分子が出ることに続いて、構成要素10が経験する温度は、ろう付け材料194aが液化し、材料194内に配設されるように、約T
Lの温度に上昇させることができる。
【0105】
図28は、
図26および
図27の例示的な構成要素の接合部領域の拡大断面図を提供する。
図28に示すように、ろう付け材料194aは、材料194内に配設されている。
図28の例示的な実施形態では、材料194は球体として存在し、ろう付け材料194aは球体間の空間内に配設されている。また、
図28に示されるように、ろう付け材料194aと材料194との複合物は、空間102aを外部環境に対してシールするように、壁100とランド部分114との間の空間をシールする。
【0106】
図28の経路195は、特定の理論に拘束されることなく、熱が壁100とランド部分114との間でとる経路を示している。示されるように、経路195は曲がりくねって非線形であり、熱が壁100とランド部分114との間を通過するとき、比較的断熱性の材料194を直接通過できず、代わりに、比較的伝導性のろう付け材料194内を移動しなければならない。このようにして、ろう付け材料194aおよび材料194によって形成されたシールの相対的な断熱能力は、完全にろう付け材料194aから形成されたシールよりも大きい(すなわち、より断熱性が高い)。特定の理論に拘束されることなく、開示されたアプローチは、熱が壁100とランド部分114との間を移動するためにとらなければならない経路を長くするように作用する。
【0107】
加えて、壁100とランド部分114との間の空間の容積の一部が材料194によって占められているので、その空間に他の材料が配設されておらず、空間がろう付け材料のみでシールされている場合よりも、ユーザは、比較的少ないろう付け材料194aを使用して、壁100とランド部分114との間の空間をシールすることができる。
【0108】
図29は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。
図29に示されるように、壁100および110は、その間に空間102aを画定する。図の左側を参照して、シーリング材料195が、壁100と110との間の空間に配設され得る。シーリング材料は、リング、例えばトロイドの形態で存在することができる。シーリング材料195の断面は円形として示されているが、これは例証にすぎず、シーリング材料として、円形、卵形、多角形であることができ、または他のいくつかの断面を有することができる。ある量194aのろう付け材料を、材料194に隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁100と壁110との間の空間(ラベル付けされていない)の一部またはすべての周りに周方向に配設することができる。シーリング材料195は、壁100と壁110とを隔てる距離よりわずかに小さい断面寸法(例えば、直径)を有するようにサイズ決定することができる。
【0109】
シーリング材料、はセラミックを含むことができる。シーリング材料は、所与の構成要素で使用されるろう付け材料よりも低い熱伝導率を有する材料にすることができる。
【0110】
図の右側を参照して、シーリング材料195aが、壁100と110との間の空間に配設され得る。シーリング材料は、リング、例えばトロイドの形態で存在することができる。シーリング材料195aの断面は円形として示されているが、これは例証にすぎず、シーリング材料として、円形、卵形、多角形であることができ、または他のいくつかの断面を有することができる。ある量194bのろう付け材料を、材料195aに隣接して配設することができる。ろう付け材料は、リング、リボン、または他の形態で存在することができる。ろう付け材料は、壁100と壁110との間の空間(ラベル付けされていない)の一部またはすべての周りに周方向に配設することができる。シーリング材料195aは、壁100と壁110とを隔てる距離よりわずかに小さい断面寸法(例えば、直径)を有するようにサイズ決定することができる。ろう付け材料194aおよび194bは、ろう付け材料がシーリング材料195および195aと壁100および110との間の任意の空間に入る、および/もしくはその中に促進されるような温度に加熱することができる。その後、ろう付け材料は固化し、それにより、空間102aを外部環境に対してシールするように、シーリング材料195および195aでシールを形成する。(本明細書の他の場所で説明されているように、空間102aは、少なくとも部分的に排気することができる。)
【0111】
図30は、
図30によるシールの拡大断面図を提供する。示されるように、ろう付け材料194aは、外部環境に対して空間102aをシールするように、壁100および110とシーリング材料195との間の空間に配設されている。開示されたアプローチを使用することによって、ユーザは、シーリング材料195が存在しない場合よりも少ないろう付け材料を使用する壁100と110との間のシールを形成することができる。さらに、シーリング材料195は、ろう付け材料194aよりも熱伝導率が低くなり得るので、本開示に従って形成されたシールは、完全にろう付け材料で形成されたシールよりも壁100と110との間のより少ない熱流をサポートする。さらに、本開示によるシールは、壁100と110との間で(比較的伝導性の)ろう付け材料を通る完全な経路を提供しない。このようにして、本開示によるシールは、完全にろう付け材料で形成されたシールよりも、壁100と110との間のより少ない熱流をサポートすることができる。
【0112】
図31は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。図の左側を参照して、シーリング材料195が、壁100と110との間の空間に配設され得る。壁100および110の一方または両方は、フレア部分(例えば、壁110のフレア部分196)を含むことができ、そのフレア部分は、シーリング材料195に隣接することができる。特定の理論に拘束されることなく、壁のフレア部分は、ろう付け材料(図示せず)がより容易に適合し、シーリング材料と壁との間の空間に流れ込むことができる空間を提供することができる。
【0113】
壁はまた、カールした部分(例えば、壁110のカールした部分197)を含むことができる。カールした部分は、
図31において197として示されるように、シーリング材料を少なくとも部分的に囲むことができる。特定の理論に拘束されることなく、カールした部分は、シーリング材料を所定の位置に維持するのを助けることができる。また、特定の理論に拘束されることなく、カールした部分は、ろう付け材料(図示せず)がより容易に適合し、シーリング材料と壁との間の空間に流れ込むことができる空間を提供することができる。
【0114】
図32は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、例証的な壁構成を示す。示されるように、壁110は、カップ部分シーリング材料195をはめ込むことができるカップ部分198を含むことができる。壁100はまた、カップ部分シーリング材料195aをはめ込むことができるカップ部分198aを含むことができる。特定の理論に拘束されることなく、カップ部分は、シーリング材料を位置付けること、および/もしくはシーリング材料を所定の位置に維持するのを助けることができる。ろう付け材料(図示せず)を使用して、シーリング材料とカップ部分との間の空間を含めて、シーリング材料と隣接する壁との間の空間をシールすることができる。
【0115】
図33は、本開示による例示的な構成要素の接合部領域の断面図を提供する。より具体的には、
図33は、
図28による構成要素の端面図を提供する。示されるように、壁100と110との間の空間(ラベル付けされていない)は、材料194とろう付け材料194との組み合わせによってシールされている。シールは、
図33では、環状の形態である。
【0116】
図34は、本開示による構成要素内のろう付け材料のリングの端部の拡大図を提供する。示されるように、ろう付け材料194aは、互いに近くに配設され、ろう付け材料のリングが完全な円を通って延在するように重なり合っている端部194xおよび194yを有する、リング形態で存在することができる。示されていないが、端部194xおよび194yは、互いに向き合うことができる。ろう付け材料は、ろう付け材料が液化された後に周方向のシールを形成することもできるので、ろう付け材料が完全な円である必要はない。
【0117】
図35は、
図44と同様の、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、構成要素は、壁100を含むことができ、その壁は、傾斜部分(壁100に接続されたラベル付けされていない傾斜部分4402、およびランド4402)を含むことができ、構成要素はまた、壁100、傾斜部分4406、およびランド4404を含むことができる。シールされた接合部は、例えば、シーリング材料(ろう付け材料などの)4450によって形成することができ、それは接合して、次に、壁100、110、4400、および4410の間に形成されたシールされた空間/容積102aをもたらす。(空間/容積102aは、排気され得る。)
【0118】
図36は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供する。示されるように、キャップ190は、壁100と壁110との間の空間102aをシールすることができる。キャップ190は、第1のランド190aと第2のランド190bとを含むことができとる。示されるように、第1のランド190aは、壁100の外側に配設することができ、第2のランド190bは、壁100と壁110との間に配設することができる。ランド190aは、例えば、ろう付け、溶接など、事実上任意の方法で壁100にシールすることができる。ランド190bは、この開示で提供される方法のいずれかを含む、ろう付けを介して壁110にシールすることができる。図示されていないが、壁100、壁110、およびキャップ190のうちの1つ以上は、壁100および110の一方または両方に対してキャップ190を所定の位置に位置付けまたは維持することを容易にするように構成された1つ以上のロケータ特徴部(例えば、リッジ、溝、くぼみ、バンプ)を含むことができる。
【0119】
図37は、本開示による構成要素の断面図を提供する。示されるように、壁100および110は、それらの間の空間102aを画定する。第1のキャップ190は、ランド190aおよび190bを含むことができる。ランド190aおよび190bは、それぞれ、壁100および壁110にシールすることができる。
図2に示されるように、第1のキャップ190は、壁100と110との間の距離未満であるかまたはほぼ等しい高さを画定する。
【0120】
図37に示されるように、ランド190aおよび190bは、互いに対して、同じ方向に、またはほぼ同じ方向に延在することができる。示されるように、ランド190aは長さD1を定義する。
【0121】
また、
図37に示されるように、ランド190aおよび190bは、壁100および110の端部と重なることができる。
図37に示されるように、ランド190aは壁100とベントを画定し、ランド190bは壁110とベントを画定する。ベントは同時にシールすることができるが、順番にシールすることもできる。示されていないが、キャップ190と同じ形状を有する第2のキャップ(図示せず)を、壁100および110の他の端部にシールすることができる。第2のキャップはまた、キャップ190とは異なる形状を有することもできる。
【0122】
一例として、ユーザは、ランド190aおよび壁100ならびにランド192bおよび壁110によって画定されるベントを順番にシールすることができる。ユーザはまた、壁100および110の他の端部にある他のベント(図示せず)を順番にシールすることもできる。ベントは、同時に、順次に、またはそれらの組み合わせでシールすることができる。
【0123】
キャップ190は、壁100および110の一方または両方に対して摩擦嵌合(例えば、締まりばめ)することができる。キャップ190は、例えば、ろう付け、接着剤、溶接、音波溶接などを含む、当技術分野で知られている様々な技法によって壁100および100にシールすることができる。
【0124】
図37に示すように、ろう付け材料190eを使用して、キャップ190を壁100および110にシールすることができる。(本明細書の他の場所で論じられるように、ろう付けは、このシーリングを達成するための1つの方法に過ぎず、溶接、接着剤、音波溶接なども使用できる。)ろう付け材料は、キャップ190の端部から距離Dbに位置付けることができる。示されているように、DbはD1より小さくすることができる。いくつかの実施形態では、ランド190aおよび190bの一方または両方の一部は、ろう付け材料190eを超えて(キャップ190から離れて)延在する。他の実施形態では、ろう付け材料190eは、ランド190aおよび190bの一方または両方の端部と本質的に同一平面上にある。示されるように、ろう付け材料190eは、ベント、例えば、第1のベントをシールするために使用することができる。
【0125】
特定の理論に拘束されることなく、構成要素10の端部(およびキャップ190)から距離Dbにろう付け材料190eを位置付けるすることにより、壁110内に画定された容積(ラベルなし)への(またはそれからの)熱伝達が減少する。この場合も、特定の理論に拘束されることなく、熱を壁110内に画定された容積から伝達するためには、熱は、ランド190bに沿って、キャップ190の端部190fに沿って、およびランド190aの少なくとも一部に沿って、シーリング(例えば、ろう付け材料)190eを通過する必要がある。そのような比較的長い熱経路は、壁110内で画定された容積と壁100の外部の環境との間で伝達される熱の速度および/もしくは量を低減することができる。さらに(特定の理論に拘束されることなく)、距離Dbを長くすることにより、図示の構成は、接合部および関連する接続材料(190e)をアセンブリの端部(190)から遠ざけるので、ユーザは、伝達される熱の速度および/もしくは量を低減することができる。
【0126】
図37のキャップ190の形状は例証に過ぎず、キャップの形状を制限するものではないことを理解されたい。一例として、キャップの一部分を、テーパ状に形成するか、そうでなければ、一部または特定の面積に適合するように構成することができる。キャップは対称にすることができるが、これは必須ではない。
【0127】
特定の理論に拘束されることなく、端部190fの厚さは、190b、190e、および110によって形成される接合部よりも薄くすることができる。このようにして、端部は熱抵抗器として作用して、デバイスの端部での熱伝達を制限することができる。これは、デバイスの端部を通る伝導を190の壁の熱特性に制限する。(キャップは、本質的に任意の材料、例えば、ステンレス鋼セラミックなどから作ることができる。)
【0128】
さらに、熱エネルギーが100、190b、および190fによって形成された熱ダムを通って移動すると、第2の熱ダムは、190a、190e、および110によって形成された接合部の形で遭遇する。熱エネルギーは、第2の熱ダムに遭遇する前に壁190fの熱抵抗器に遭遇したため、熱エネルギーを壁100に伝達する前に第2の熱ダムを満たすための熱エネルギーは少ない。
【0129】
図37に示されるように、空間102aを出る分子は、P
出口によって示される出口経路をたどることができる。(P
出口は説明の目的で提供されており、分子は必ずしもろう付け材料190eを通過するとは限らないことを理解されたい。
【0130】
示されているように、出口経路は、壁100の端部に向かってまたはその方向にあり、ランド190aの端部から離れてゆく。この経路は
図37の状況において示されているが、
図37での図示は例示であり、本開示はそのような出口経路(すなわち、構成要素の1つの壁(またはランド)の端部に向かう方向で、かつ構成要素の別の壁(またはランド)の端部から離れてゆく)を企図していることが理解されるべきである。空間102aを離れる分子の出口経路は、ダブルバック、または少なくとも部分的にその方向に反転するものとしてこれを説明することができる。
図37(および本明細書の他の場所)において示されるように、第1の方向に延在する第1の壁と、第1の方向と反対の(または実質的に反対の)方向に延在する第2の壁との間に接合部を形成することができる。
【0131】
図38は、開示された技術の代替の実施形態を提供する。
図1は、本開示による構成要素10の例示的な描写を提供する。示されるように、構成要素10は、第1の壁100を含む。
【0132】
ベントは、第1の壁100と第2の壁110のランド部分114との間に画定することができる。第2の壁110はまた、任意選択で第2の壁110から垂直に突出することができる突出部分112を含むことができる。第2の壁110はまた、ランド部分114を含むことができる。ランド部分114は、壁100に(例えば、ろう付けを介して)シールすることができ、図をわかりやすくするために、シールは示されていない。壁100および壁110は、それらの間に空間/容積102aを画定することができる。(「第1の壁」および「第2の壁」という用語は、単に便宜上のものであり、限定するものではないことを理解されたい。一例として、「第1の壁」は、二重壁管構成要素の内壁またはその二重壁管構成要素の外壁であることができる。)
【0133】
壁100および110の一方または両方は、構成において円筒形であり得ることを理解されたい。このようにして、壁は、壁110内に容積(102c)を画定することができ、その容積102cは、形状が円筒形であり得、中心線を有することができる(
図1に示される)。
【0134】
図38に示されるように、構成要素は、140aおよび140bとして示される1つ以上のフィンを含むことができる。フィンは、ヒートシンクおよび/もしくは放熱装置として作用することができる。特定の理論に拘束されることなく、フィンは、容積102cと構成要素の外部の環境との間で伝達する可能性のある熱を保持するように作用することができる。
図38に示されるように、1つ以上のフィンは、構成要素の端部、例えば、壁100の端部に配設することができる。フィンは、
図38に示すように、ランド114の上にないように配設することができる。フィン構成は、内管セクションから外管セクションへ、または外管セクションから内管セクションへの熱伝達を軽減することができるという利点を有する。この様態において、フィン構成は、対流冷却を使用してエネルギーを周囲環境に放出するか、または周囲環境から装置に熱エネルギーを受け取ることによって、熱エネルギーの制御を可能にする。フィン/ヒートシンクはまた、熱ダムとしても使用され得る。この構成では、熱ダムを満たすために熱エネルギーが必要であるため、アプリケーションに応じて、内壁または外壁を加熱(または冷却)するために利用できる熱エネルギーの量が減少する。
【0135】
図39は、フィン140aおよび140bが、壁100の端部から距離を置いて壁100上に位置付けされていることを除いて、
図38と同様の構成要素を提供する。
図39に示される実施形態では、フィンは、ランド114の上にある。この構成では、フィンは、それらが係合している壁の全体的な温度を制御することができる。真空空間の内側セクションと外側セクションとを接続するエンド接合部から離れて配置されたヒートシンクは、フィン構成でのまたはその近くの温度の影響を軽減しながら、デバイスの外向きセクションを長さに沿って加熱または冷却することを可能にするという利点を有する。この構成は、アプリケーションにおいてエネルギーの保存が必要とされ、皮膚温度の低下も望ましい場合に、望ましい場合がある。この構成はまた、外管から形成された第1のフィン(接合部からフィンに行くセクションの番号が必要)が、冷却デバイスとして作用することを可能にする。この構成は、アセンブリの端部が管を取り付けまたは保持するために係合され、この場所での熱プロファイルが重要である場合に、特に有用である。
【0136】
図39は、突出部分112が、水平から測定して、90度を超える角度θで壁110から延在することを除いて、
図38と同様の構成要素を提供する。角度θは、90.01〜約179度であり得、例えば、約91〜約179度、約95〜約175度、約100〜約170度、約105〜約165度、約110〜約160度、約115〜約155度、約120〜約150度、約125〜約145度であってもよく、または約130〜約135度でさえあってもよい。
図40に示されるように、1つ以上のフィンは、構成要素の端部、例えば、壁100の端部に配設することができる。フィンは、
図40に示すように、ランド114の上にないように配設することができる。
【0137】
図41は、フィン140aおよび140bが、壁100の端部から距離を置いて壁100上に位置付けされていることを除いて、
図38と同様の構成要素を提供する。
図41に示される実施形態では、フィンは、ランド114の上にある。この構成は、ヒートシンクをろう付け接合部に近接することを可能にする。これは、ヒートシンクが、通常アセンブリの残りの部分よりも厚いアセンブリの部分と相互作用することを可能にする。この様態において、ヒートシンクは、材料の接合部によって作成された熱ダムを排出させるのに役立つ。
【0138】
図42は、フィン140aおよび140bが、壁100の端部から距離を置いて壁100上に位置付けされ、ランド114の上にないことを除いて、
図41と同様の構成要素を提供する。この構成では、フィンは、それらが係合している壁の全体的な温度を制御するのに役立つ。真空空間の内側セクションと外側セクションとを接続するエンド接合部から離れて配置されたヒートシンクは、フィン構成でのまたはその近くの温度の影響を軽減しながら、デバイスの外向きセクションを長さに沿って加熱または冷却することを可能にするという利点を有する。この構成は、アプリケーションにおいてエネルギー保存が必要とされる場合に望ましい場合があり、しかしながら、皮膚温度の低下もまた望ましい。多数のフィンのセットを、フィンのセット間の熱エネルギーを制御するために装置の壁に構成することができる。この構成は、取り付けデバイスを分離する必要があるアプリケーション、敏感な機器が近くに位置し得るアプリケーション、消費者向けアプリケーション、または他のアプリケーションにおいて熱エネルギーを制御および/もしくはルーティングするためのアプリケーションにおいて特に有用であり得る。
【0139】
図43は、フィン140aおよび140bが、壁110上に位置付けされ、ランド114の上にないことを除いて、
図42と同様の構成要素を提供する。この実装のこの利点は、
図42と同様であり、ただ熱エネルギーはデバイスの内部管腔で制御される。これは、敏感な電子機器を保護したり、機器を隔離したり、などのために必要になる場合がある。
【0140】
これらの前述のフィン構成はすべて、個別に使用することも、単一のデバイスに組み合わせて使用することもできる。フィンの数と構成は、アプリケーションおよびユーザの熱要件に基づいて選択することができる。
【0141】
図44は、本開示による接合部を含む構成要素の断面図を提供する。示されるように、構成要素は、壁100、壁100に接続された傾斜部分4402、およびランド4402を含むことができ、構成要素はまた、壁100、傾斜部分4406、およびランド4404を含むことができる。シールされた接合部は、例えば、シーリング材料(ろう付け材料などの)4450によって形成することができ、それは接合して、次に、壁100、110、4400、および4410の間に形成されたシールされた空間/容積102aをもたらす。(空間/容積102aは排気され得る。)示されるように、壁110および4410は空間102cを囲むことができる。
【0142】
構成要素は、スプリングバック方向A1およびA2によって示されるように、ランド4402および4402の一方または両方が壁4400および/もしくは壁4410に対してスプリングバックするように構成することができる。スプリングバックは規則や要件ではないが、壁の相対的な位置を維持する、および/もしくは壁を相互に固定するのを助けるために使用することができる。特定の理論または構成に拘束されることなく、ランド4402および4404は、壁4400と4410との間の空間に挿入されていないとき、(例えば、トランペットの様態で)外側に広がることができる。このようにして、構成要素の2つのセグメントは、空間/容積102aのシール(および減圧)を維持もしながら、互いに接合することができる。
【0143】
図45および
図46は、
図37に示される構成要素の代替の実施形態を提供する。
図45に示されるように、距離D1は、距離Dbよりも大きくなり得る。
図46に示されるように、距離Dbは、距離D1よりも大きくなり得る。
【0144】
図47は、本開示によるキャップ190の端面図を提供する。(例示的なそのようなキャップは
図45に示されている。)示されているように、キャップ190は、ランド190a(wキャップの外壁とも見なすことができる)、端部190f、およびランド190b(キャップの内壁と見なすこともできる)を含む。端部190fは、ランド190aおよびランド190bを接続する役割を果たすことができる。
図47はまた、キャップの円周の周りに異なる角度(θAおよび θB)で配設された2つの場所(すなわち、場所Aおよび場所B)を画定する。
図48に示されるように、キャップの内壁および外壁は、キャップの円周の周りの異なる位置で異なる高さであり得る。
【0145】
図48は、
図47に示されるキャップの断面図を提供する。示されているように、キャップのランドの高さは、キャップの円周の周りで異なる場合がある。例えば、場所A(θA)において、外壁/ランド190aは、高さD
外部Aを画定する。場所B(θB)において、外壁/ランド190aは、高さD
外部Bを画定し、これは、D
外部Aと同じか、それよりも大きいか、またはそれよりも小さい場合があり得る。同様に、場所A(θA)において、内壁/ランド190bは、高さD
内部Aを画定する。場所B(θB)において、内壁/ランド190bは、高さD
内部Bを画定し、これは、D
内部Aと同じか、それよりも大きいか、またはそれよりも小さい場合があり得る。このようにして、キャップは、キャップが嵌合されている内壁に沿ってさらに延在するその円周の周りの領域を提供することができる。キャップはまた、キャップが嵌合されている外壁に沿ってさらに延在するその円周の周りの領域を提供することができる。
【0146】
図49は、本開示による例示的な物品の断面図を提供する。示されるように、物品は、第1の壁100および第2の壁110を含むことができる。第1のキャップ190は、第1の壁100および第2の壁110にシールすることができ、例示的なシーリングプロセスは、ろう付け、溶接などを含む。示されるように、第1のキャップ190は、構成において湾曲またはカップ形状であり得る。第1のキャップ190は、第1の壁100および第2の壁110の対向する表面にシールされるように嵌合され得る。示されているように、第1のカップは高さDCを画定することができる。
図49の物品によって示されるように、第1のキャップ190は、第1のキャップ190と第1の壁100との間の重なりの長さである重なり長OCiを画定することができる。DC対OCi1の比率は、例えば、約200:1〜約1:200、または約100:1〜約1:100、または50:1〜約1:50、または10:1〜約1:10、または約5:1〜約1:5であり得る。
【0147】
同様に、第1のキャップ190は、それ自体と第2の壁110との間の重なり長OCi2(ラベル付けされていない)を画定することができる。DC対OCi2の比率は、例えば、約200:1〜約1:200、または約100:1〜約1:100、または50:1〜約1:50、または10:1〜約1:10、または約5:1〜約1:5であり得る。
【0148】
第2のキャップ192は、第1の壁100および第2の壁110にシールすることができ、例示的なシーリングプロセスは、ろう付け、溶接などを含む。示されるように、第2のキャップ192は、構成において湾曲またはカップ形状であり得る。第2のキャップ192は、第1の壁100および第2の壁110の非対向表面にシールされるように嵌合され得る。示されているように、第2の最初のカップは高さDC2を画定することができる。
図49の物品によって示されるように、第2のキャップ192は、第2のキャップ192と第1の壁100との間の重なりの長さである重なり長OCo1を画定することができる。DC2対OCo1の比率は、例えば、約200:1〜約1:200、または約100:1〜約1:100、または50:1〜約1:50、または10:1〜約1:10、または約5:1〜約1:5であり得る。
【0149】
同様に、第2のキャップ192は、それ自体と第2の壁110との間の重なり長OCi2(ラベル付けされていない)を画定することができる。DC2対OCi2の比率は、例えば、約200:1〜約1:200、または約100:1〜約1:100、または50:1〜約1:50、または10:1〜約1:10、または約5:1〜約1:5であり得る。
図49に示すように、シールされた空間102aは、第1のキャップ190、第2のキャップ192、第1の壁100、および第2の壁110によって画定することができる。管腔または他の空間102cは、第2の壁110によって画定することができ、管腔は中心線を画定することができる(図を参照)。
【0150】
図50は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供し、第1の壁100および第2の壁110の非対向表面にシールされている第1のキャップ190および第2のキャップ192の両方を示す。経路199によって示されるように、空間102a内に配設された分子は、分子が励起、例えば熱励起、を受けるときに、第1のキャップ190、第2のキャップ192、第1の壁100、および第2の壁110のいずれかまたはすべてに対して偏向することができる。
【0151】
図51は、本開示による構成要素の断面図を提供する。経路199によって図示されるように(そして特定の理論に拘束されることなく)、第1の要素190は、格納庫または他の要素として作用することができる。
【0152】
図52は、本開示による例示的な構成要素の断面図を提供する。示されるように、経路199をたどる分子は、凹面の第2のキャップ192から偏向する。その偏向に続いて、分子は、第1の壁100と第2の壁110との間に画定された空間102aの周辺に向かって自然に向けられる。経路199に沿って進むと、偏向された分子は、凹面の第1のキャップ190に対して(再び)偏向し、次いで、第1のキャップ190と第1の壁100との間のギャップ(ラベルなし)を通って空間102aから出る。同様に、経路199aをたどる分子は、第2のキャップ192から偏向する。経路199aに沿って進むと、その分子は、次いで第1のキャップ190から偏向し、次に、第1のキャップ190と第1の壁100との間のギャップ(ラベルなし)を通って空間102aから出る。
【0153】
試験システム
図53は、開示された技術の例証的実施形態を提供する。
図53に示されるように、ステージ5310において、構成要素を打撃および/もしくは振動させることができる。打撃および振動技法の例は、当業者に知られている。
【0154】
ステージ5320において、打撃/振動に関連する情報(例えば、音の周波数、音の強さ、音の持続時間)を収集することができる。ステージ5310およびステージ5320のいずれかを何度でも繰り返すことができることを理解されたい。構成要素の複数の打撃/振動を実行し、そのような各行為から情報を収集することもできる。
【0155】
ステージ5330において、収集された情報を処理することができる。これは、例えば、音の強さの判定、音の周波数の判定、音の持続時間の判定、収集された情報の統計値(平均、帯域/間隔、など)の判定の形をとることができる。処理は、収集された情報を他の情報、例えば、ベースライン周波数に対して比較する(または処理されたそのような情報を比較する)という形を取ることもできる。処理はまた、収集された情報(または処理されたそのような情報)が特定の範囲内、例えば、周波数の所望の「帯域幅」または音の持続時間の所望の「帯域幅」、にあるかどうかを判定する形をとることができる。
【0156】
ステージ5340において、前述のステージに基づいて構成要素のさらなる処理を実行することができる。一例として、(打撃に応答して)所望の特性を有する構成要素の特徴である特定の「ベースライン」範囲外にある周波数を有する構成要素を廃棄することができる。別の例として、(打撃に応答して)特定の「ベースライン」範囲内にある周波数を有する構成要素を、プロセスのさらなるステージ(例えば、包装、販売)に進めることができる。
【0157】
処理
図54は、本開示によるシステム540の例証図を提供する。システムは、エンクロージャ5412を含むことができる。エンクロージャは、例えば、金庫扉または他のドアあるいはハッチによってシール可能であり得る。エンクロージャには1つ、2つ、またはそれより多いドアを設けることができ、複数のドアを使用すると、エンクロージャへの製品の挿入と取り外しとが容易になる。いくつかの実施形態では、エンクロージャは、炉として特徴付けることができる。
【0158】
システムは、流体リザーバであり得るリザーバ5401を含むことができる。流体は、液体、気体であり得、または液体と気体の間の遷移点にあり得る。流体は、加熱、冷却され得、または周囲温度で使用できる。流体は、液相から気体に移行する可能性がある。流体は、加圧(大気圧以上)することもできるが、大気圧または減圧にすらすることもできる。リザーバ5401は、ライン5402を介して入口5403に接続することができ、その入口は、リザーバ5401をエンクロージャ5412の内部と流体連通するように配置することができる。弁または他の流量制御デバイスを使用して、リザーバ5401からエンクロージャ5412への流体の流れを調整することができる。弁はまた、エンクロージャ5412から容器5401に流体が流れるのを制限するために使用することができる。コントローラ(図示せず)を使用して、入口5403を通る流体の流れを監視および/もしくは調整することができる。
【0159】
いくつかの実施形態では、1つ以上の流体分配器(5407、5408、および5409によって示される)を使用して、流体をエンクロージャ5412の内部に分配することができる。リザーバ5401は、1つ以上の流体分配器と流体連通することができ、1つ以上のマニホルドを使用して、1つ以上の流体分配器間で流体を分配することができる。入口5406は、コントローラ5404と通信することができ、また、1つ以上の流体分配器と流体連通することができる。流体分配器は、例えば、マニホルド、噴霧器ヘッド、または他の分散構造であり得る。本開示によるシステムは、単一の流体源(例えば、リザーバ5401)と流体連通する複数の流体分配器を有することができるが、複数の流体源と流体連通する複数の流体分配器を有することもできる。同様に、単一の流体分配器は、単一の流体源と流体連通することができるが、複数の流体源と流体連通することもできる。
【0160】
システムはまた、1つ以上の出口5425を含むことができる。出口は、例えば、通信ライン5423を介して、コントローラ5422と通信することができる。出口はまた、例えば、出口ラインを介して、タンクまたはドレン5424と流体連通することができる。出口は、出口を通る流体の流れを調整するように構成された弁または他のモダリティを備えることができる。一例として、出口は、エンクロージャ5412において特定の加熱時間が経過するまで閉じたままであるように構成することができ、出口はまた、エンクロージャの内部の床にある特定の重量の流体が検出されるまで閉じたままであるように構成することもできる。
【0161】
システム540はまた、1つ以上の加熱要素5410を含むことができる。加熱要素は、エンクロージャ5412の内部内の任意の場所に位置付けることができる。例えば、加熱要素は、エンクロージャの頂部、底部、または側面の近くに、またはそれらに押し当ててさえ位置付けることができる。いくつかの実施形態では、加熱要素は、エンクロージャの内部内の中間の位置、例えば、エンクロージャの内壁間の中間、またはエンクロージャの内部の任意の壁から距離を置いて位置付けされる。システムはまた、格納庫として作用できる1つ以上の要素(5427、5426、5431、5430、5429、および5428で示される)を含むこともできる。要素は対称的に配置することができるが、これは必須ではない。
【0162】
システムは、1つ以上のポンプ5420、例えば、1つ以上の真空ポンプを含むことができる。ポンプは、例えば、ポート5421を介して、エンクロージャ5412の内部と流体連通している。
【0163】
システムはまた、1つ以上の監視デバイス5411を含むことができ、監視デバイスは、温度、圧力、湿度、分子種の存在(例えば、気体のレベル)、などのうちの1つ以上を監視するように構成することができる。監視デバイスの例には、例えば、熱電対、圧力モニター、湿度モニター、などが含まれる。監視デバイスは、エンクロージャの内部内の状態(例えば、温度、圧力)を調整するコントローラまたは他のデバイスと電子通信することができる。
【0164】
システムはまた、システムによって処理されるワークピース(5415、5416、5417、5418、および5419)を支持するために利用される1つ以上のラック(5414)を含むことができる。ラックは、1つ以上の脚または他のサポート(5413a、5413b、および5413c)によって支持され得る。
【0165】
ワークピースは、任意のサイズおよび形状にすることができる。ワークピースは、例えば、円筒形、多面体、球形、円錐形、円錐台形、卵形、または他の形状であることができる。ワークピースのサイズは、ユーザのニーズおよびワークピースが処理されるエンクロージャの寸法に依存し得る。ワークピースは、例えば、それらの間に排気された断熱空間を形成するように互いに接合された同心円管であり得る。しかしながら、ワークピースは同心円管である必要はなく、非管状境界(例えば、凹面プレート、など)を含むことができる。
【0166】
本開示によるシステムは、ワークピースを単一の場所および/もしくは位置に維持するように構成することができる。システムはまた、システムによるワークピースの処理中にワークピースを移動するように(例えば、電動ローラを介して)構成することができる。一例として、システムは、ワークピースがエンクロージャ5412の内部内で処理されている間(例えば、熱、真空、または他の条件に曝すことを介して)ワークピースを回転させるように構成することができる。システムは、エンクロージャ5412の内部からワークピースを導入および/もしくは取り除くための1つ以上のモダリティを含むことができる。ワークピースの導入は手動で行うことができるが、自動化することもできる。コンベヤ、ボート、ベルト、可動バスケット、などはすべて、ワークピースをエンクロージャに導入し、またワークピースをエンクロージャから取り除くために使用することができる。ワークピースは、バッチアプローチでエンクロージャに導入することができるが、またセミバッチまたは連続アプローチであっても導入することができる。
【0167】
図55Aは、ワークピースが、本開示に従って処理される前の例証的ワークピースの断面図を提供する。(
図55Aの例証的ワークピースは、同心の内壁および外壁から形成され、内壁と外壁との間にスペーサ材料が配設されている。)示されるように、ワークピースは、外壁5500を含むことができ、その外壁は外面5502と内面5504とを有する。不純物206が、外壁200の内面5504上に示されている。
【0168】
内管5512の外面5514上の不純物5508も示されている。(内管はまた、内面5516、およびその中の管腔5518を画定する。)また、外管5500の内面5504と内管5512の外面5514との間の空間5510に配設されたスペーサ材料5522も示されている。不純物5524は、スペーサ材料5522の表面に存在する。
【0169】
処理5520に続いて、不純物5506、5508、および5524は、少なくとも部分的にワークピースから取り除かれる。例示的な処理ステップは、本明細書の他の場所に記載されており、加熱、冷却、減圧、流体適用、増圧、化学処理、などのうちの1つ以上を含むことができる。一例として、低圧の適用を実行して、第1の流体を、内壁および外壁とスペーサ材料との間の1つ以上の空間、ならびに内壁および外壁の一方または両方に引き込むことができる。次に、異なる圧力および/もしくは温度を適用して、その空間から流体を取り除くことができ、流体は、流体が接触する不純物を少なくとも部分的に取り除くように作用する(例えば、不純物との運動および/もしくは反応を介して)。不純物の除去を助けるために熱を使うことができる。
【0170】
図56は、本開示による例示的なプロセス560のフローチャートタイプの概要を提供する。示されているように、1つ以上のワークピースが、第1のステップ5600を受けることができる。第1のステップ5600は、例えば、ワークピースをエンクロージャに導入することを含むことができる。示されているように、ワークピースは第2のステップ5602を受けることができる。第2のステップ5602は、評価5604によって調整することができる。一例として、第2のステップは、熱の適用であることができ、その熱は、熱電対、コントローラ、プロセッサ、または熱適用の強度および/もしくは持続時間を制御する他のモダリティによって調節することができる。ワークピースは、第3のステップ5606を受けることもでき、第4のステップ5606を受けることもできる。第3のステップ5606は、1つ以上の点で第2のステップ5602と異なることができる。一例として、第3のステップは、500度Cの熱の10分間の適用であり得、一方、第2のステップ5602は、350度Cの熱の300分間の適用であり得る。ステップ5600、5602、5606、および/もしくは5608のうちの1つ以上は、加熱、冷却、減圧の適用、増圧の適用、流体の適用、流体の回収、などのうちの1つ以上を含むことができる。また、流体を蒸気に変換し、次いで結果として生じる気体を除去することによる相対的な冷却を含むこともできる。任意の処理ステップは、繰り返しの様態、例えば、熱のサイクルとそれに続く流体の導入、それに続く別の熱のサイクル、で実行され得ることを理解されたい。
【0171】
実施形態
以下の非限定的な実施形態は、例示にすぎず、本開示または添付の特許請求の範囲を限定するものではない。
【0172】
実施形態1.分子励起チャンバであって、内部容積を境界付ける第1の壁であって、第1の壁が、長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、主要部分が任意選択で突出部分に対して垂直に延在する、第1の壁と、内部容積を境界付ける第2の壁であって、第2の壁が、長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第2の壁と、を備え、(a)第1の壁の突出部分と第2の壁とが、それらの間に第1のベントを画定するか、または(b)第2の壁と第1の壁とが、それらの間に第2のベントを画定するか、または(c)(a)および(b)の両方であり、かつ、第1の壁の突出部分に対する第1の壁の主要部分の長さの比率が、約1000:1〜約1;1であり、かつ、任意選択で、分子励起チャンバの内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバ。
【0173】
実施形態2.第2の壁が、第2の壁と衝突する分子を第1のベントに向けて偏向させるように構成されている、実施形態1に記載の分子励起チャンバ。この偏向は、例えば、壁が角度を付けられ、および/もしくは湾曲されることによって達成することができる。第1の壁はまた、第1の壁と衝突する分子を第2のベントに向けて偏向させるように構成することができる。
【0174】
実施形態3.分子励起チャンバが、第2のベントを備える、実施形態1また2に記載の分子励起チャンバ。
【0175】
実施形態4.第2のベントが、第1の壁と第2の壁の突出部分とによって画定されている、実施形態3に記載の分子励起チャンバ。
【0176】
実施形態5.第2のベントが、第1のベントの反対側に配設されている、実施形態3または4に記載の分子励起チャンバ。
【0177】
実施形態6.空間が主軸を画定し、主軸に平行に引かれた線が第1のベントおよび第2のベントの両方と交差しない、実施形態5に記載の分子励起チャンバ。
【0178】
実施形態7.空間がシールされ、さらに、空間が約0.0001〜約700トル、例えば、約0.001〜約70トル、約0.01〜約7トル、またはさらに約1トルの圧力に排気されている、実施形態1〜6のいずれか1つに記載の分子励起チャンバ。
【0179】
実施形態8.空間が、約0.005〜約5トルの圧力に排気されている、実施形態7に記載の分子励起チャンバ。
【0180】
実施形態9.実施形態1〜8のいずれかに記載の分子励起チャンバの第1のベントを開くことを含む、方法。開口部は、例えば、ベントを画定する壁または他の構成要素の熱膨張をもたらすように加熱することによってもたらされ得る。
【0181】
実施形態10.(a)長さを有する主部分と長さを有する突出部分とを備える第1の壁であって、主部分が任意選択で突出部分に垂直に延在し、第1の壁の突出部分に対する第1の壁の主部分の長さの比率が、約1000:1〜約1:1である、第1の壁と、(b)長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第2の壁と、を組み立てることであって、組み立ては、第1の壁の突出部分と第2の壁とによって画定される第1のベントを画定するように行われる、組み立てることと、第1の壁と第2の壁との間の空間をシールするように第1のベントをシールすることと、を含む、方法。
【0182】
実施形態11.シールすることが、シーリング材料を用いて達成される、実施形態10に記載の方法。適切なシーリング材料には、例えば、ろう付け材料、溶接材料、などが含まれる。シーリングは加熱下でもたらされ得、ろう付け材料が流入できる空間を開くために一方または両方の壁が熱膨張するように加熱を加えることができる。壁、ろう付け材料、および加熱は、加熱下で、壁の間に空間が形成され、次にろう付け材料が空間に流れ込んで空間を満たすように達成することができる。加熱はまた、壁の間の空間を閉じるように調整することもできる。
【0183】
実施形態12.シーリング材料が、シーリング中に第1のベントを少なくとも部分的に閉塞するように作用する、実施形態11に記載の方法。
【0184】
実施形態13.シーリング材料が、シーリング中にメニスカスを形成する、実施形態12に記載の方法。
【0185】
実施形態14.第1の壁および第2の壁が、それらの間に第2のベントを画定する、実施形態10に記載の方法。
【0186】
実施形態15.第2のベントが、第1の壁と第2の壁の突出部分とによって画定される、実施形態14に記載の方法。
【0187】
実施形態16.空間が主軸を画定し、主軸に平行に引かれた線が第1のベントおよび第2のベントの両方と交差しない、実施形態14または15に記載の方法。これの非限定的な例が
図1に提供されており、ここで線150に平行な線は、ベント116およびベント118の両方と交差しない。
【0188】
実施形態17.約0.0001〜約50トルの空間内の圧力を生じさせるのに十分な条件下で熱を加えることをさらに含む、実施形態10〜16のいずれかに記載の方法。
【0189】
実施形態18.約0.005〜約5トルの空間内の圧力を生じさせるように熱が加えられる、実施形態17に記載の方法。
【0190】
実施形態19.内部容積を境界付ける第1の壁と、第1の壁と第2の壁との間に断熱空間を画定するように、第1の壁から距離を置いて離間された、第2の壁と、断熱空間に面する第2の壁の内面と、断熱空間に面する第1の壁の外面と、を備え、(a)第1の壁が、(i)第1の壁の第1の端部から第2の壁の内面に向かって延在し、任意選択で第2の壁の内面に本質的に垂直である、および/もしくは(ii)第1の壁の第2の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第1の壁の延長部分が、任意選択で第2の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、(b)第2の壁が、(i)第2の壁の第1の端部から第1の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第1の壁の外面に本質的に垂直である、および/もしくは(ii)第2の壁の第2の端部に向かって延在する、延長部分を備え、第2の壁の延長部分が、任意選択で第1の壁の表面の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または(a)および(b)の両方であり、かつ、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第1のベント、を備え、ベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
【0191】
実施形態20.第1および第2の壁が、それぞれ、第1の管および第2の管として特徴付けられている、実施形態19に記載の断熱構成要素。本明細書の任意の実施形態において、一方または両方の壁は、構成において管状であり得ることが理解されるべきである。
【0192】
実施形態21.第1および第2の管が互いに同軸に配置されている、実施形態20に記載の断熱構成要素。
【0193】
実施形態22.第1の壁の延長部分が、第1の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さLE1を画定する、実施形態19〜21のいずれか1つに記載の断熱構成要素。
【0194】
実施形態23.第1の壁が、長さWL1を画定し、LE1対WL1の比率が、約1:1000〜約1:2である、実施形態22に記載の断熱構成要素。
【0195】
実施形態24.LE1対WL1の比率が、約1:10〜約1:5である、実施形態23に記載の断熱構成要素。
【0196】
実施形態25.第2の壁の延長部分が、第2の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さLE2を画定する、実施形態19〜24のいずれか1つに記載の断熱構成要素。
【0197】
実施形態26.第2の壁が、長さWL2を画定し、LE2対WL2の比率が、約1:1000〜約1:2である、実施形態25に記載の断熱構成要素。
【0198】
実施形態27.LE2対WL2の比率が、約1:100〜約1:5である、実施形態26に記載の断熱構成要素。
【0199】
実施形態28.第2の壁が、第1のベントが開かれるように、有効な条件が第1の壁に対する第2の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、実施形態19〜27のいずれかに記載の断熱構成要素。
【0200】
実施形態29.第1のベントが、第1の壁のランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施形態19〜28のいずれか1つに記載の断熱構成要素。
【0201】
実施形態30.第2のベントをさらに含み、第2のベントが、第2の壁のランド部分によって少なくとも部分的に画定されていている、実施形態29に記載の断熱構成要素。
【0202】
実施形態31.第2の壁の内面に平行に延在する線に沿って、第1のベントおよび第2のベントが互いに重なり合わない、実施形態30に記載の断熱構成要素。
【0203】
実施形態32.断熱空間をシールするように第1のベントをシールするシーラントをさらに含み、シーラントが、任意選択で第1のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、実施形態19〜31のいずれか1つに記載の断熱構成要素。シーラントは、例えば、ろう付け材料であり得る。断熱構成要素は、1つ以上の熱交換機能を含むことができ、例えば、第1の壁および第2の壁の一方または両方から延在するフィンを含むことができる。
【0204】
実施形態33.実施形態19〜32のいずれか1つに記載の断熱構成要素の内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
【0205】
実施形態34.実施形態19〜32のいずれか1つに記載の断熱構成要素の内部容積内で少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む、方法。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。
【0206】
実施形態35.加熱は、材料を燃焼させずに材料を加熱することを含む、実施形態34に記載の方法。本明細書の他の場所に記載されているように、材料は、本開示による任意の構成要素内で加熱することができる。
【0207】
実施形態36.材料が、喫煙可能な材料、例えば植物ベースの材料を含む、実施形態34〜36のいずれか1つに記載の方法。
【0208】
実施形態37.内部容積を境界付ける第1の壁と、第1の壁から距離を置いて間隔を置いて離間された第2の壁と、を備え、容積が、第1の壁と第2の壁との間に画定され、(a)第1の壁が、第2の壁に向かって延在し、任意選択で第2の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、第1の壁の延長部分が、任意選択で第2の壁の内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、(b)第2の壁が、第1の壁の外面に向かって延在し、任意選択で第1の壁の外面に本質的に垂直である延長部分を備え、第2の壁の延長部分が、任意選択で第1の壁の外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または(a)および(b)の両方であり、かつ(c)第1の壁のランド部分が、第1の壁と第2の壁との間の容積を画定するように第2の壁に接触し、(d)第2の壁のランド部分が、第1の壁と第2の壁との間の容積を画定するように第1の壁に接触し、または(c)および(d)の両方であり、第1の壁に対して第2の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で第1の壁および第2の壁を加熱すること、を含み、熱膨張が、第1の壁のランド部分と第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および/もしくは第2の壁のランド部分と第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が第1の壁と第2の壁との間に画定された容積を出ること可能にする、方法。
【0209】
実施形態38.加熱が、大気圧未満で行われる、実施形態37に記載の方法。
【0210】
実施形態39.熱膨張が、第1の壁のランド部分と第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態37または38に記載の方法。
【0211】
実施形態40.熱膨張が、第2の壁のランド部分と第1の壁との間にの間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態37〜39のいずれか1つに記載の方法。
【0212】
実施形態41.熱膨張が、第1の壁のランド部分と第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、第2の壁のランド部分と第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施形態37〜40のいずれか1つに記載の方法。
【0213】
実施形態42.加熱が、第1の壁のランド部分と第2の壁との間の空間および/もしくは第2の壁のランド部分と第1の壁との間の空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、実施形態37〜41のいずれか1つに記載の方法。
【0214】
実施形態43.内部容積を境界付ける第1の壁と、第1の壁と第2の壁との間に断熱空間を画定するように、第1の壁から距離を置いて離間された第2の壁と、第1のキャップであって、第1のキャップが、第1の壁と第2の壁との間に画定された断熱空間を少なくとも部分的にシールし、第1のキャップが第1のランドを備え、第1のランドが任意選択で第1の壁にシールされ、かつ、第1のキャップが第2のランドをさらに備え、第2のランドが任意選択で第2の壁にシールされる、第1のキャップと、断熱空間と連通して、断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第1のベントと、を備え、第1のベントが、ベントからの気体分子の流出に続いて断熱空間をシールするためにシール可能である、断熱構成要素。
【0215】
実施形態44.第1のベントが、第1のランドおよび第1の壁によって画定されている、実施形態43に記載の断熱構成要素。第1のベントは、いくつかの実施形態では、第2のランドと第2の壁との間に画定することができる。
【0216】
本明細書の他の場所で説明するように、キャップは、例えば、ろう付け、溶接、接着剤、音波溶接、などによって壁にシールすることができる。シーリング材料(例えば、ろう付け材料のリボン)は、キャップの端部から距離を置いて配設することができる(例えば、本明細書に添付された
図37および関連する説明を参照されたい)。特定の理論に拘束されることなく、キャップの端部からシーリング材料までの距離が長いほど(壁に沿って、キャップから離れる方向に)、内部容積と断熱構成要素の外部の環境との間の熱伝達が少なくなる。この場合も、特定の理論に拘束されることなく、熱伝達の低下は、キャップの端部からシーリング材料までの距離が比較的長い構成要素によって提示される比較的長い熱経路の結果であり得る。
【0217】
実施形態45.第2のキャップをさらに備え、第2のキャップが、第1の壁と第2の壁との間に画定された断熱空間を少なくとも部分的にシールする、実施形態43または44に記載の断熱構成要素。
【0218】
実施形態46.第2のキャップが、第1のランドおよび第2のランドを備える、実施形態45に記載の断熱構成要素。
【0219】
実施形態47.第2のキャップの第1のランドおよび第2のランドが、概して同じ方向に延在する、実施形態45に記載の断熱構成要素。
【0220】
実施形態48.第2のキャップの第1のランドおよび第2のランドが、概して反対方向に延在する、実施形態45に記載の断熱構成要素。
【0221】
実施形態49.第1のキャップの第1のランドおよび第2のランドが、概して同じ方向に延在する、実施形態43〜48のいずれか1つに記載の断熱構成要素。
【0222】
実施形態50.第1のキャップの第1のランドおよび第2のランドが、概して反対方向に延在する、実施形態43〜48のいずれか1つに記載の断熱構成要素。断熱構成要素は、1つ以上の熱交換機能を含むことができ、例えば、第1の壁および第2の壁の一方または両方から延在するフィンを含むことができる。
【0223】
実施形態51.(a)第1のキャップの第1のランドが、キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、(b)第1のキャップの第2のランドが、キャップの周囲で変化する高さを画定するか、または(a)および(b)である、実施形態43〜50のいずれか1つに記載の断熱構成要素。特定の理論または実施形態に拘束されることなく、
図47または
図48は、実施形態51の例証である。
【0224】
実施形態52:実施形態43〜51のいずれか1つに記載の断熱構成要素を用いて、内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
【0225】
実施形態53:実施形態43〜51のいずれか1つに記載の断熱構成要素を用いて、第1のキャップの第1のランドを第1の壁にシールすることを含む、方法。
【0226】
実施形態54:第1の壁と、第2の壁と、を備え、第1の壁が第2の壁を囲み、第1の壁が、第2の壁に向かって延在する(例えば、収束または発散することによって)傾斜部分を備え、第1の壁がまた、傾斜部分から延在するランド部分を備え、第2の壁が、第1の壁に向かって延在する(例えば、収束または発散することによって)傾斜部分を備え、第2の壁がまた、傾斜部分から延在するランド部分を備え、第3の壁と、第4の壁と、を備え、第3の壁が第4の壁を囲み、第1の壁のランドが第3の壁にシールされ、第2の壁のランドが第4の壁にシールされ、それにより、第3の壁と第4の壁との間の空間と流体連通している第1の壁と第2の壁との間の空間を少なくとも部分的にシールする、断熱構成要素。
【0227】
例は、本明細書の他の場所で説明されている
図44によって提供されている。また、本明細書の他の場所(例えば、
図44)に説明されているように、第1の壁のランドおよび/もしくは第2の壁のランドは、第3の壁および第4の壁の一方または両方に対してスプリングバックをもたらすように形成することができる。
【0228】
本明細書に開示される任意の構成要素は、分子励起チャンバとして使用することができることを理解されたい。一例として、熱源を使用して、構成要素内の分子(すなわち、構成要素の壁の間の空間に位置する分子)を励起することができる。加熱を加えると、分子の少なくとも一部は、それらの動きによって、構成要素の壁の間に配設されたベントを経由して空間を出る。
【0229】
分子自体および/もしくは壁(または壁の間の空間の他の特徴部)の間の衝突により、移動する分子は、統計的に、ベントを経由して空間を出る確率を有する。空間からの分子の少なくとも一部の流出は、次に空間内の圧力を下げるように作用し、ユーザは続いで、分子流出に続いて空間をシールすることによって、恒久的に排気空間を生じさせることができる。ユーザは、いわゆるゲッタ材料を壁の間の空間に配置することができるが、ゲッタは必須ではなく、開示された構成要素は、ゲッタがなくても動作することができる、すなわち、ゲッタフリーであることができる。
【0230】
開示された構成要素は、医療機器、消費者製品、計装(例えば、分光機器)、火器、排気システム、流体処理、燃焼装置、凍結装置、極低温剤、電池(エネルギー貯蔵)、自動車、航空宇宙、消費財、およびその他多く、を含むが、これらに限定されない、様々な用途で使用することができる。開示された構成要素は、固体および/もしくは液体の消耗品を使用して動作するものを含めて、例えば、電子タバコを吸うまたは電子タバコデバイスで使用することができる。材料は構成要素内で加熱することができ、加熱は、燃焼によって材料を加熱するように実行することができるが、材料は燃焼しない加熱方式で加熱することもできる。喫煙可能な材料は、本開示による構成要素内で加熱することができる。固体、液体、さらには気体でさえ、本開示による構成要素内に配設することができる。
【0231】
実施形態55:内部容積を境界付ける第1の壁と、第1の壁と第2の壁との間に断熱空間を画定するように、第1の壁から距離を置いて離間された第2の壁と、湾曲したプロファイルを画定する第1のキャップであって、第1のキャップが、第1の壁と第2の壁との間に画定される断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第1のキャップと、湾曲したプロファイルを画定する第2のキャップであって、第2のキャップが、第1の壁にシールされた第1の部分を備え、第2のキャップが、第2の壁にシールされた第2の部分をさらに備える、第2のキャップと、を備え、第1の壁の湾曲したプロファイルおよび第2の壁の湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素。
【0232】
実施形態56.第1のキャップが、第1の壁および第2の壁の対向面にシールされている、実施形態53に記載の断熱構成要素。
【0233】
実施形態57.第1のキャップが、第1の壁および第2の壁の非対向面にシールされている、実施形態53に記載の断熱構成要素。
【0234】
実施形態58.第2のキャップが、第1の壁および第2の壁の対向面にシールされている、実施形態53に記載の断熱構成要素。
【0235】
実施形態59.第2のキャップが、第1の壁および第2の壁の非対向面にシールされている、実施形態53に記載の断熱構成要素。
【0236】
試験方法
実施形態60.構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらすことであって、構成要素が、構成要素内のシールされた排気領域を含む、さらすことと、さらすことに関連する1つ以上の情報の項目を処理することと、1つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けることと、を含む、試験方法。
【0237】
構成要素は、例えば、断熱管、断熱板、断熱球、などであり得る。開示された方法は、事実上任意の形状またはサイズの構成要素に適用することができる。
【0238】
打撃は、例えば、構成要素を打つことによってもたらされ得る。一例として、フェルトで覆われたハンマーで構成要素を叩くことができる。打撃はまた、構成要素を表面上にある距離落下させることによってもたらすこともできる(その距離は、例えば、数ミリメートルまたは1メートルの距離でもあり得る)。表面は硬質(例えば、ステンレス鋼)であることができるが、緩衝層、例えば、ゴム化の層を含むこともできる。
【0239】
振動は、構成要素を振動装置、例えば、モータと機械的に連通している振動ヘッドと接触させることによって実行することができる。適切なそのようなモータには、例えば、偏心回転質量(ERM)モータおよび線形共振アクチュエータ(LRA)モータが含まれる。構成要素はまた、振動装置と機械的に連通することもできる。一例として、剛性のロッドまたはアームを使用して、振動装置から構成要素に振動を伝達することができる。
【0240】
情報処理は、例えば、マイクロフォンまたは他のトランスデューサによって収集された情報(例えば、音)を処理することによって達成することができる。処理は、例えば、情報または情報の特徴をベースライン情報またはそのベースライン情報の特徴と比較すること、情報または情報の特徴を他の構成要素の試験から受け取った1つ以上の他の情報の項目(またはそれらの1つ以上の情報の項目の特徴)と比較すること、情報の項目の母集団に情報を含めること(例えば、統計計算の一部として情報または情報の特徴を含めること)、情報または情報の特徴を固定または一時的な媒体に保存すること、などを含むことができる。
【0241】
1つの非限定的な例として、ユーザは試験構成要素を叩き、その打撃から発した音を録音することができる。次いで、ユーザは、その音の1つ以上の特徴(例えば、周波数、強度)をモデル音と比較し、試験構成要素によって発せられた音が、特定の仕様に準拠する構成要素によって発せられる音と十分に類似しているかどうかを判断することができる。
【0242】
例えば、ユーザは50個の構成要素が特定の製造仕様に準拠していることを確認することができる。次いで、ユーザは、本開示に従って、各構成要素を振動にさらし、各構成要素試験から音を収集することによって、これらの50個の構成要素の各々を試験することができる。これらの50の音を処理(例えば、平均化)して、ベースラインの音の結果(50の構成要素の音の合成であることができる)を生成することができ、そのベースラインに対して、将来の試験構成要素からの音は、それらの試験構成要素が本開示に従って試験されるときに比較することができる。将来試験される構成要素からの音がベースライン音の結果と十分に類似している場合、将来試験される対応するものは、問題の製造仕様に準拠していると見なすことができ、製造プロセスの後のステップに進むことができる。将来試験される構成要素からの音がベースライン音の結果と十分に類似していない場合、その将来試験される構成要素を、さらなる評価のために製造プロセスからわきへそらすことができる。前述のステップのいずれかまたはすべては、自動化された方法で達成することができる。試験は、さまざまな年齢の構成要素またはさまざまな時の構成要素で実行することもできる。例えば、構成要素がベースラインを確立するために製造されるときに、本開示に従って構成要素を試験することができる。次いで、構成要素を他のさまざまな時間(例えば、6か月、1年、2年、など)に試験して(例えば、打撃を介して)、構成要素の打撃から発せられた音が時間の経過とともに変化するか、同じままであるかを判断することができる。時間の経過とともに音が一定量を超えて変化する場合は、構成要素をさらに評価することができる。
【0243】
実施形態61.打撃が、自動化された方法でもたらされる、実施形態60に記載の試験方法。これは、例えば、構成要素が製造ラインのステージを離れるときにストライカーを構成要素に接触させることによって達成することができる。これはまた、構成要素をストライカープレート上に設定された距離だけ落下させることによって達成することもできる。
【0244】
実施形態62.打撃が、手動でもたらされる、実施形態60に記載の試験方法。これは、ゴムハンマーで構成要素を叩く(例えば、タッピングする)ことで達成することができる。これはまた、例えば、構成要素を表面上に落とすことによっても達成することもできる。
【0245】
実施形態63.打撃が、構成要素を基板上に落下させることによってもたらされ、基板は任意選択でストライカープレートである、実施形態60に記載の試験方法。
【0246】
実施形態64.振動が、構成要素と機械的に連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施形態60に記載の試験方法。
【0247】
実施形態65.振動が、構成要素と流体連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施形態60に記載の試験方法。
【0248】
実施形態66.処理される1つ以上が、構成要素の第1の表面からのものであり、さらすことが構成要素の第2の表面上でもたらされる、実施形態60〜65のいずれかに記載の試験方法。一例として、管状部品を管の外面で叩くことができ、打撃からの音は、管の内面に配置されたトランスデューサによって記録することができる。いくつかの実施形態では、打撃および/もしくは振動は、トランスデューサからシールされた囲まれた領域を横切って配設された構成要素の表面にもたらされる。このようにして、シールされた排気領域を横切る振動を評価することができる。
【0249】
構成要素は、1つ以上の材料を含むことができる。構成要素は、金属、セラミック、サーメット、またはそれらの任意の組み合わせを含むことができる。ステンレス鋼が特に適していると考えられているが、構成要素にステンレス鋼が含まれている必要はない。
【0250】
実施形態67.構成要素を、構成要素の第1の表面で固定することをさらに含み、さらすことが構成要素の第2の表面上でもたらされる、実施形態60〜66のいずれかに記載の試験方法。一実施形態では、構成要素は、例えば、構成要素の外面上の吸盤または他のアタッチメントによって固定され、トランスデューサは、構成要素の内面に位置付けされている。
【0251】
実施形態68.構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらしている間、構成要素をある方向に維持することをさらに含む、実施形態60〜67のいずれかに記載の試験方法。これは、例えば、構成要素の向きを維持するジグに構成要素を保持することによって行うことができる。この方法は、試験される各構成要素が同じ方向に保持されるように実施することができる。試験される各構成要素は、構成要素の同じ場所で叩いたり/振動させたりすることができ、検出器(例えば、トランスデューサ)は、
【0252】
実施形態69.構成要素を、環境振動から少なくとも部分的に振動分離して維持することをさらに含む、実施形態60〜68のいずれかに記載の試験方法。これは、構成要素を隔離テーブル(例えば、流体、スプリング、またはその他のダンパの上に配設された表面)に配置することによって達成することができる。いくつかの実施形態では、ユーザは、構成要素をダンパ、例えば、パテまたは他のダンピング材料と接触させることができる。
【0253】
実施形態70.物理的特性が、構成要素の断熱特性を含む、実施形態60〜69のいずれかに記載の試験方法。開示された方法は、例えば、構成要素の物理的特徴の存在および/もしくは程度を推定するために使用することができる。例えば、均一な厚さの断熱領域を有する構成要素を振動にさらすことから発した音は、可変の厚さの断熱領域を有する構成要素をさらすことから発した音とは異なる場合がある。物理的特性は、例えば、含水量、多孔性、または厚さであり得る。
【0254】
実施形態71.構成要素内のシールされた排気領域が、環状の構成として特徴付けられる、実施形態60〜70のいずれかに記載の試験方法。シールされた排気領域は平面状であり得、平面または曲面であり得る。シールされた排気領域はまた、円筒形であり得る。シールされた排気領域は、軸に沿って一定の断面を有することができるが、軸に沿って可変の断面を有することもできる。
【0255】
実施形態72.構成要素が、ある量の1つ以上のセラミックを含む、実施形態60〜71のいずれかに記載の試験方法。
【0256】
実施形態73.バイブレータ装置と、構成要素マウントと、構成要素マウントに固定された構成要素であって、構成要素がある量のセラミックを含み、構成要素が構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、構成要素は、構成要素がバイブレータ装置と機械的に連通するか、バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている、構成要素と、を備える、試験システム。
【0257】
実施形態74.構成要素の表面に配設されたトランスデューサをさらに備える、実施形態73に記載の試験システム。マイクロフォンは、適切なトランスデューサの例である。
【0258】
実施形態75.システムは、トランスデューサが、バイブレータ装置から振動を受け取る構成要素の表面とは異なる構成要素の表面に配設されるように構成されている、実施形態74に記載の試験システム。
【0259】
実施形態76.システムが、構成要素を振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する構成要素から発した1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、システムが、1つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施形態73〜75のいずれかに記載の試験システム。
【0260】
実施形態77.打撃プレートと、打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システム。
【0261】
実施形態78.トランスデューサが、構成要素の打撃プレートへの衝突時に構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、実施形態77に記載の試験システム。
【0262】
本開示によるシステムは、構成要素を振動および/もしくは打撃にさらすことから発した音の1つ以上の特徴(例えば、周波数、強度、持続時間)を分離するように構成されたプロセッサを含むことができる。プロセッサはまた、1つ以上の特徴を1つ以上の対応するベースライン特徴と比較し得る。
【0263】
実施形態79.システムが、構成要素の打撃プレートへの衝突に関連する1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、システムが、1つ以上の情報の項目を構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施形態77または78に記載の試験システム。
【0264】
実施形態80.バイブレータ装置と、構成要素マウントと、プロセッサと、を備える、試験システム。プロセッサは、構成要素への振動の適用から発した情報を分析するように構成することができる。分析は、例えば、1つ以上の特徴の情報の項目を1つ以上のベースライン特徴と比較することを含むことができる。
【0265】
別の例として、試験構成要素は、振動および/もしくは打撃にさらされ得る。振動および/もしくは打撃にさらすと、試験構成要素から音(必ずしも人間に可聴ではない)を発する。その後、音が処理され得る。次いで、音の1つ以上の特徴(例えば、周波数、強度、持続時間)を、所望の構成要素を示す1つ以上のベースライン特徴と比較することができる(例えば、プロセッサによって)。プロセッサは、試験構成要素の指定された特徴または複数の特徴が、ベースライン特徴と比較して特定の範囲(例えば、+/−10%)内であるか、または特定の範囲(例えば、+/−10%)外である場合にユーザに通知するように構成され得る。ユーザは、例えば、ベースライン特徴の特定の範囲内にある特徴を示さない構成要素を破棄することを選択し得る。
【0266】
処理の実施形態
実施形態81.断熱構成要素を調製する方法であって、第1の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第1の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第2の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、第2の境界構成要素の表面の調整された領域を形成することと、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で第1の境界構成要素および第2の境界構成要素を処理することであって、シールされた排気領域が、第1の境界構成要素の表面の調整された領域および第2の境界構成要素の表面の調整された領域によって少なくとも部分的に確定されている、処理することと、を含む、方法。
【0267】
調整された領域の形成は、例えば、洗浄、乾燥、スクラビング(化学的または機械的)、などによって達成することができる。乾燥は、例えば、流体の流れ、加熱、機械的乾燥、化学的乾燥、などによってもたらすことができる。乾燥はまた、除湿によってもたらすこともできる。調整された領域の形成は、流体の流れによって達成することができる。調整された領域の形成は、加熱された流体の流れ、冷却された流体の流れ、または交互の流体の流れによって達成することができる。調整された領域の形成はまた、最初の温度および圧力で流体を導入し、次に温度および圧力の一方または両方を変更することによって達成することもできる。例として、流体を第1の境界構成要素に導入し、次に温度を変化させて、流体を第1の境界構成要素上で凍結させることができる。
【0268】
調整された領域の形成は、境界構成要素に接触する流体を変更することによって(例えば、ある流体を別の流体に置き換えることによって)さらに達成することができる。
【0269】
調整された領域の形成は、圧力下(例えば、1気圧を超える)、または減圧下(例えば、1気圧未満)で達成することができる。調整された領域の形成は、真空チャンバ内または真空炉内でさえ達成することができる。調整は、除湿環境で行うことができる。調整は、例えば、第1および/もしくは第2の境界構成要素に存在する水分を低減または除去すらするために実行することができる。調整を実行して、第1の境界および第2の境界内またはその上に存在する可能性のある油またはその他の残留物もしくは種を除去することができる。調整された領域の形成は、シールされたチャンバ、例えば、真空チャンバまたは炉内で実行することができる。あるいは、調整された領域の形成は、によって達成することができる
【0270】
境界(すなわち、第1および/もしくは第2の境界)は、構成において管状であり得る。一例として、第1および第2の境界は、それらの間に空間を有する同心円管であり得、その空間は、次いで、シールされた排気領域を形成するようにシールされ得る。第1および第2の境界はまた、例えば、内側缶の円周壁と外側缶の円周壁との間に画定された空間が存在するように缶が配設されるような缶であることができる。
【0271】
いくつかの実施形態では、境界が配設されているチャンバ内の圧力を変化させることは、一種のポンプとして作用することができる。特定の理論に拘束されることなく、処理チャンバ内の圧力を下げて、2つの同心円管の間の空間から空気を引き出すことができる。これは、例えば、同心円管のうちの1つを差別的に膨張させる温度変化によって達成することができる。ユーザはまた、第2の流体をチャンバに導入することができ、同心管間の空間への第2の流体の処理をもたらすようにチャンバ内の圧力および/もしくは温度を変更することができる。例として、同心の内管と外管との間のシールされた空間内に空気を配設することができる。真空チャンバ内の温度を上げることにより、外管を膨張させることができる。その除去に続いて、ユーザは、流体をチャンバに導入することができ、それによって、管の間の空間に流体を配設するように作用する。
【0272】
調整された領域は、円形にすることができるが、これは必須ではない。調整された領域は、多角形の形状、例えば、正方形または長方形、にすることができる。調整された領域は、境界構成要素の表面の約1〜100%を表すことができる。一例として、調整された領域は、管状境界構成要素の外面全体であり得る。いくつかの実施形態では、シールされた排気領域全体は、境界構成要素の調整された領域によって完全に画定されるが、これは必須ではない。境界構成要素は、1つ、2つ、またはそれより多い調整された領域を含むことができる。一例として、境界構成要素の一部(例えば、長さの25%〜75%)のみが、調節された領域、例えば、両側で調節されていない領域によって隣接された中央の調節された領域、であり得る。
【0273】
境界構成要素は、異なって調整された領域を含むことができることも理解されたい。一例として、境界領域は、所与の第1の温度および第1の流体への曝露によって調整された第1の領域と、第2の温度での第2の流体への曝露を介して調整されたおよび第2の領域とを含むことができる。異なる領域の調整は、例えば、構成要素の第1の領域を調整している間、境界構成要素の第2の領域をマスキングし、続いてその領域のマスキングを解除し、第2の処理を適用することによってもたらすことができる。(第2の領域のマスキング解除に続いて、第1の調整される領域を任意選択でマスキングすることができる。)
【0274】
第1の境界および第2の境界は、互いに接続されて、例えば、接続境界によってシールされた排気領域を形成することができ、その接続境界は、直線、曲線、波状、ひだ状、またはその他の非線形であり得る。接続境界は、第1または第2の境界の領域であり得る。接続境界はまた、別個の構成要素、例えば、第1および第2の境界構成要素をブリッジするリングにすることもできる。1つの非限定的な例として、内側および外側の同心円管は、内側および外側の同心円管の一方または両方のテーパ状の領域によって、それらの端部で互いに接続することができる。いくつかの非限定的な例は、本明細書で引用されている様々な特許出願で提供されている。
【0275】
第1の境界構成要素および第2の境界構成要素を処理して、シールされた排気領域を形成することは、例えば、ろう付け、溶接、接着、などによって達成することができる。これは、真空断熱されたベントおよび構造を生じさせ得、非限定的で例示的な真空断熱されたベントおよび構造(およびそのような構造を形成および使用するための関連する技法)は、すべてA.Reidによる,米国特許出願公開第2017/0253416号、同第2017/0225276号、同第2017/0120362号、同第2017/0062774号、同第2017/0043938号、同第2016/0084425号、同第2015/0260332号、同第2015/0110548号、同第2014/0090737号、同第2012/0090817号、同第2011/0264084号、同第2008/0121642号、および同第2005/0211711号に見いだすことができ、あらゆる目的のためにその全体が参照により、すべてが本明細書に組み込まれる。真空(すなわち、開示されたデバイスおよび方法内の任意の真空)は、前述の用途の方法によって、または当技術分野で知られている他の任意の方法によってもたらされ得ることが理解されるべきである。
【0276】
ろう付け材料または他の接合材料に対して(本明細書の他の場所で説明されているように)調整を実行できることも理解されたい。これは、ろう付けまたは他の接合材料が適用されるときに実行することができるが、ろう付けまたは他の材料を使用して所望の表面を接合する前、または、ろう付けまたは他の接合材料を使用して所望の表面を接合した後に実行することができる。例として、ろう付け材料を内管に適用し、ろう付け材料を介して内管と外管との間でろう付けをもたらし、次に、適用されたろう付け材料を調整することができる。適切な調整は、本明細書の他の場所で説明されており、例えば、第1の流体の環境での加熱、それに続くその第1の気体(およびその第1の流体に存在し得る不純物)の除去、および任意選択で、その第1の流体を第2の流体に置き換えること、を含むことができる。
【0277】
調整は、境界の表面上に材料を形成するように行うことができる。例えば、境界の表面上に酸化物を成長させるように調整を行うことができる。調整は、第1の境界の表面上に1つの材料(例えば、第1の酸化物)を形成するように行うことができ、次いで、第2の境界の表面上に材料(例えば、第2の酸化物)を形成するように行うことができる。
【0278】
調整はまた、境界の表面を流体と接触させることを意味する場合もある。例として、ユーザは、境界を流体、例えば油と接触させることによって第1の境界の調整された領域を形成することができ、次いで、第1および第2の境界の間のシールされた空間で油が含有されるように、第1および第2の境界を処理することができる。調整はまた、第1および第2の境界の間の空間に流体を引き込むように環境圧力を低下させることによって、第1および第2の境界の間の空間に流体(例えば、油)を配設することを含むことができる。第1および第2の境界の間の空間から流体を少なくとも部分的に排出するように圧力を上げることもできる。流体はまた、加熱によって、重力によって、または減圧によってさえ、境界間の空間から少なくとも部分的に除去することもできる。ユーザは、圧力、熱、重力、または前述の任意の組み合わせ(またはシーケンス)を利用して、第1および第2の境界の間の空間から流体を吸引および/もしくは除去することができる。
【0279】
実施形態82.調整が、第1の境界構成要素の調整された領域から、第2の境界構成要素の調整された領域から、またはその両方から不純物(例えば、水分)を低減するように行われる、実施形態81に記載の方法。不純物の例には、例えば、潤滑剤、酸化物、揮発性物質、または他のそのような種が含まれる。
【0280】
実施形態83.調整が、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素との間の空間に流体を引き込むことを含む、実施形態81または82に記載の方法。流体は気体であることができる。流体は、第1と第2の間の空間を通して脈動するように引き込むことができる。流体は、交互に空間から引き込むことができる。
【0281】
ユーザは、例えば、第1の流体を空間に行使し、次に第2の流体を空間に行使することができる。ユーザはまた、流体を空間に行使し、かつ、例えば、往復または出入りの様態で、空間から流体を行使/除去することもできる。流体は、約1秒〜10時間、30秒〜5時間、1分〜1時間、さらには約5分〜30分間、空間内を流すことができる。
【0282】
実施形態84.調整加熱が、加熱することを含む、実施形態81〜83のいずれかに記載の方法。加熱は、対流、放射、または他の技法によって行うことができる。加熱は100度Cを超える温度にすることができ、例えば、約120、約150、約200、約250、約300、約350、または400度Cもしくはそれより大きくすることができる。
【0283】
例示的なプロセスでは、温度および圧力は、プロセスの過程の間、一定に保たれるか、または変化させられ得る。例えば、流体は、第1および第2の境界を含むチャンバに導入することができる。第1および第2の境界の間の空間に気体を引き込むように、チャンバ内の圧力を下げることができる。次いで、境界間の空間内の流体の動きをもたらすように、温度および/もしくは圧力を変化させることができる。
【0284】
例として、第1および第2の境界は、発生した可能性がある、または第1および第2の境界に存在していた可能性がある不純物を除去するために、チャンバ内で(例えば、真空下で)加熱することができ、かつ、チャンバ内の気体を交換することができる。別の例として、第1および/もしくは第2の境界は、第1の流体の存在における温度および圧力条件(例えば、真空)の第1のセットの下で、第1の期間処理チャンバ内で加熱することができる。その期間の後、流体を処理チャンバから引き出すことができ、処理チャンバを、選択した「新鮮な」流体で再充填することができる。
【0285】
実施形態85.スペーサ材料がシールされた排気領域内に留まるように、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素との間にスペーサ材料を配設することをさらに含む、実施形態81〜84のいずれかに記載の方法。スペーサ材料は、例えば、シートまたは巻線として存在することができる。スペーサ材料は、例えば、糸として存在することができる。
【0286】
実施形態86.スペーサ材料が、セラミックを含む、実施形態85に記載の方法。
【0287】
実施形態87.スペーサ材料が、窒化ホウ素を含む、実施形態85に記載の方法。
【0288】
実施形態88.スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方をさらに含む、実施形態85〜87のいずれかに記載の方法。(適切な調整方法は、本書の他の場所で説明されている。)
【0289】
実施形態89.第1の境界構成要素および第2の境界構成要素の一方または両方が、セラミックを含む、実施形態1〜8のいずれかに記載の方法。
【0290】
実施形態90.第1の境界構成要素および第2の境界構成要素の一方または両方が、金属を含む、実施形態81〜89のいずれかに記載の方法。金属の例には、例えば、ステンレス鋼が含まれる。
【0291】
実施形態91.処理が、ろう付けを含む、実施形態81〜90のいずれかに記載の方法。
【0292】
実施形態92。処理が、第1の境界構成要素および第2の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施形態81〜91のいずれかに記載の方法。
【0293】
実施形態93.シーラー構成要素が、リングを含む、実施形態92に記載の方法。リングは、例えば、金属、セラミック、サーメット、または他の適切な材料であり得る。リング自体は、ろう付け材料または他の接合材料にすることができる。
【0294】
実施形態94.リングが、セラミックを含む、実施形態93に記載の方法。
【0295】
実施形態95.シールされた排気空間が、約0.1〜約1000分子/cm
3の分子密度を画定する、実施形態81〜84のいずれかに記載の方法。
【0296】
実施形態96.実施形態81〜95のいずれかに従って調製された断熱構成要素。このような構成要素は、例えば、管状の構成であり得る。
【0297】
実施形態97.(a)第1の境界構成要素の対向面および(b)第2の境界構成要素の対向面を調整することと、第1の境界構成要素の対向面と第2の境界構成要素の対向面との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で、第1の境界構成要素および第2の境界構成要素をさらに処理することと、を含む、断熱構成要素を調製する方法。
【0298】
適切な調整および処理技法は、本明細書の他の場所に記載されている。一例として、処理は、流動性ろう付け材料を使用して、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素とを接合することを含むことができる。
【0299】
実施形態98.スペーサ材料がシールされた排気領域内に留まるように、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素との間にスペーサ材料を配設することをさらに含み、方法は、任意選択でスペーサ材料を洗浄すること、加熱すること、または洗浄および加熱することを含む、実施形態97に記載の方法。
【0300】
実施形態99.シールされた排気空間が、約1〜約1000分子/cm
3の分子密度を画定する、実施形態97または98に記載の方法。
【0301】
実施形態100.処理が、第1の境界構成要素および第2の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施形態97〜99のいずれかに記載の方法。
【0302】
実施形態101.シーラー構成要素が、リングを含む、実施形態100に記載の方法。
【0303】
実施形態102.リングが、セラミックを含む、実施形態101に記載の方法。
【0304】
実施形態103.実施形態97〜102のいずれかに従って調製された断熱構成要素。
【0305】
実施形態104.第1の境界構成要素の表面領域と第2の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように第1の境界構成要素および第2の境界構成要素を組み立てることを含み、第1の境界構成要素の表面領域および第2の境界構成要素の表面領域が不純物を除去するために処理される、断熱構成要素を構築する方法。
【0306】
実施形態105.第1の境界構成要素の表面領域と第2の境界構成要素の表面領域との間にシールされた断熱空間を形成するように配設された第1の境界構成要素および第2の境界構成要素を備え、第1の境界構成要素の表面領域および第2の境界構成要素の表面領域が不純物を除去するために処理される、断熱構成要素。
【0307】
実施形態106.ワークピース上に調整領域をもたらすように構成されたシステムであって、エンクロージャの内部内に1つ以上のワークピースをシール可能に囲むように構成されたエンクロージャ、(a)(i)エンクロージャの内部への流体の流れ、および(ii)エンクロージャの内部からの流体の流れ、のうちの少なくとも1つを調整するように構成された構成要素、(b)エンクロージャの内部内の温度を調整するように構成された要素、任意選択で(c)熱源(任意選択で、エンクロージャの内部内に配設されたワークピースに向けて放射を向けるように構成された要素を備える)、(d)エンクロージャの内部と流体連通できる流体源、または(a)、(b)、(c)、および(d)の任意の組み合わせ、を備える、システム。
【0308】
エンクロージャは、例えば、キャビネット、反応装置、ケース、などとして特徴付けることができる。
【0309】
実施形態107.ワークピースをエンクロージャの内部に導入するか、ワークピースをエンクロージャの内部から除去するか、またはその両方であるように構成された1つ以上の構成要素をさらに備える、実施形態106に記載のシステム。そのような構成要素は、例えば、コンベヤ、ボート(例えば、回転テーブルまたはベルトに取り付けられたボート)、回転ドアタイプのアセンブリ、などであり得る。
【0310】
実施形態108.流体をエンクロージャの内部に分配するように構成されたマニホルドをさらに備える、実施形態106または107に記載のシステム。システムは、スプレーヘッド(「シャワーヘッド」と呼ばれることもある)、アパーチャ、ホース、噴霧器、などを含むことができる。
【0311】
実施形態109.(i)エンクロージャの内部内の圧力を低下させるか、(ii)エンクロージャの内部の圧力を上昇させるか、または(i)および(ii)の両方をもたらすように構成されたポンプをさらに備える、実施形態106〜108のいずれかに記載のシステム。システムは、エンクロージャの内部内の圧力を低下させるように構成された第1のポンプと、エンクロージャの内部内の圧力を上昇させるように構成された第2のポンプと、を含むことができる。
【0312】
実施形態110.温度、圧力、湿度、分子種の存在、またはそれらの任意の組み合わせのうちの1つ以上を監視するように構成された監視デバイスをさらに備える、実施形態106〜109のいずれかに記載のシステム。監視デバイスの例には、例えば、熱電対、圧力トランスデューサ、湿度モニター、化学検出器(例えば、紫外線および/もしくは赤外線吸収または反射率モニター、電気モニター)、などが含まれる。
【0313】
実施形態111.ワークピースと機械的に連通してワークピースを動かすように構成された構成要素をさらに備える、実施形態26〜30のいずれかに記載のシステム。そのような構成要素は、例えば、ローラ、回転テーブル、リフト、爪、などであり得る。
【0314】
実施形態112.システムが、複数のワークピースを処理するように構成されている、実施形態106〜111のいずれかに記載のシステム。これは、複数のワークピースを包含するように構成された内部を有するエンクロージャによって達成することができる。システムは、処理中により多くのワークピースを支持するように構成されたラック(例えば、高くしたプラットフォーム、吊り下げられたプラットフォーム、など)を含むことができる。
【0315】
実施形態113.システムが、バッチ方式で動作するように構成されている、実施形態106〜112のいずれかに記載のシステム。一例として、システムは、1つ以上のワークピースを含み、前記1つ以上のワークピースを処理し、次いで、1つ以上のワークピースの後続のバッチを処理するように構成することができる。
【0316】
実施形態114.システムが、連続的な様態で動作するように、例えば、ワークピースをエンクロージャの内部に運ぶコンベヤ上にあるワークピースを処理するように、構成される、実施形態106〜112のいずれかに記載のシステム。
【0317】
実施形態115.流体源が、液体および/もしくは気体を含む、実施形態106〜114のいずれかに記載のシステム。例示的な液体には、例えば、油、酸、塩基、炭化水素、キレート剤、電解質、などが含まれる。
【0318】
実施形態116.流体が、気体を含む、実施形態106〜114のいずれかに記載のシステム。
【0319】
実施形態117.気体が、炭化水素を含む、実施形態116に記載のシステム。
【0320】
実施形態118.実施形態80〜102および104のいずれかによる方法を実行するように構成されたシステム。
【0321】
開示されたシステムは、例えば、熱、流体、および/もしくは増加または減少した圧力の適用を介して、断熱構成要素の1つ以上の境界構成要素を調整するように構成され得る。システムはまた、第1の境界構成要素と第2の境界構成要素との間に排気領域を生じさせるのに十分な条件下で第1の境界構成要素および第2の境界構成要素を処理するように構成され得、排気領域は、第1の境界構成要素の表面の調整された領域と第2の境界の表面の調整された領域とによって、少なくとも部分的に画定されている。
【0322】
実施形態119.(a)領域内に第1の流体が包含されている第1の境界と第2の境界との間の界面を少なくとも部分的に分裂させるように温度および/もしくは圧力を変えることと、(b)領域から第1の流体の少なくとも一部を除去することと、(c)前記領域に第2の流体を導入することと、(d)領域内に第2の流体を包含することと、を含む、方法。
【0323】
一例として(そして本明細書の他の場所で説明されているように)、境界が配設されているエンクロージャ(チャンバと呼ばれることもある)内の圧力および/もしくは温度を変えることができる。特定の理論に拘束されることなく、処理チャンバ内の圧力を下げて、ワークピースの2つの同心円管の間の空間から空気を引き出すことができる。これは、例えば、同心円管の1つを差別的に膨張させる温度変化によって達成することができ、こうして、管の間に配設された流体(例えば、空気)の少なくとも部分的な除去を可能にする。
【0324】
ユーザはまた、第2の流体(例えば、炭化水素、酸、塩基、エッチャント)をチャンバに導入することができ、同心管の間の空間への第2の流体の処理をもたらすように、チャンバ内の圧力および/もしくは温度を変えることができる。
【0325】
例として、同心の内管と外管との間の空間に空気を配設することができる。真空チャンバ内の温度を上げることにより、外管は膨張して内管と外管との間の界面を分裂させ、それにより内管と外管との間の空間から空気分子を除去もたらすことができる。その除去に続いて、ユーザは、流体をチャンバに導入することができ、それによって、管の間の空間に流体を配設するように作用する。
【0326】
チャンバ内の温度および/もしくは圧力を変えることによって、以前に界面に寄与していた材料を凝固または他の方法で再構成することによって、界面に影響を与えることができる。例として、2つの同心円管の間のろう付け材料を少なくとも部分的に液化または軟化するような条件を適用することができる。次いで、その空間から空気を取り除き、その空気を第2の液体に置き換えることができる。
【0327】
本開示はまた、開示された方法を実行するように構成されたシステムを提供する。システムは、シールされたエンクロージャ(例えば、真空チャンバ)、流体源、およびエンクロージャ内の温度および/もしくは圧力を変更するように構成された1つ以上のモジュールを備えることができる。
【0328】
前述の開示は例示に過ぎず、本明細書に添付された特許請求の範囲を制限するものではなく、または関連する出願に添付された特許請求の範囲を制限するものでもない。
【0329】
〔実施の態様〕
(1) 内部容積を境界付ける第1の壁であって、
前記第1の壁が、長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備え、
前記主要部分は、任意選択で前記突出部分に対して垂直に延在する、第1の壁と、
前記内部容積を境界付ける第2の壁であって、
前記第2の壁が、長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第2の壁と、を備え、
(a)前記第1の壁の前記突出部分と前記第2の壁とが、それらの間に第1のベントを画定するか、または(b)前記第2の壁と前記第1の壁とが、それらの間に第2のベントを画定するか、または(c)(a)および(b)の両方であり、かつ
前記第1の壁の前記突出部分に対する前記第1の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約1000:1〜約1:1であり、かつ、任意選択で、
前記分子励起チャンバの前記内部容積内に配設された分子の加熱をもたらすように構成された熱源と、を備える、分子励起チャンバ。
(2) 前記第2の壁が、前記第2の壁と衝突する分子を前記第1のベントに向けて偏向させるように構成されている、実施態様1に記載の分子励起チャンバ。
(3) 前記分子励起チャンバが、第2のベントを備える、実施態様1または2に記載の分子励起チャンバ。
(4) 前記第2のベントが、前記第1の壁と前記第2の壁の前記突出部分とによって画定されている、実施態様3に記載の分子励起チャンバ。
(5) 前記第2のベントが、前記第1のベントの反対側に配設されている、実施態様3または4に記載の分子励起チャンバ。
【0330】
(6) 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第1のベントおよび前記第2のベントの両方と交差しない、実施態様5に記載の分子励起チャンバ。
(7) 前記空間がシールされ、さらに、前記空間が約0.0001〜約50トルの圧力に排気されている、実施態様1〜6のいずれかに記載の分子励起チャンバ。
(8) 前記空間が、約0.005〜約5トルの圧力に排気されている、実施態様7に記載の分子励起チャンバ。
(9) 実施態様1〜8のいずれかに記載の分子励起チャンバの前記第1のベントを開くことを含む、方法。
(10) (a)長さを有する主要部分と長さを有する突出部分とを備える第1の壁であって、前記主要部分が、任意選択で前記突出部分に垂直に延在し、前記第1の壁の前記突出部分に対する前記第1の壁の前記主要部分の前記長さの比率が、約1000:1〜約1:1である、第1の壁と、
(b)長さを有する主要部分を備え、任意選択で長さを有する突出部分を備える、第2の壁と、を組み立てることであって、
前記組み立てが、前記第1の壁の前記突出部分と前記第2の壁とによって画定される第1のベントを画定するように行われる、組み立てることと、
前記第1の壁と前記第2の壁との間の空間をシールするように前記第1のベントをシールすることと、を含む、方法。
【0331】
(11) 前記シールすることが、シーリング材料を用いて達成される、実施態様10に記載の方法。
(12) 前記シーリング材料が、シーリング中に前記第1のベントを少なくとも部分的に閉塞するように作用する、実施態様11に記載の方法。
(13) 前記シーリング材料が、シーリング中にメニスカスを形成する、実施態様12に記載の方法。
(14) 前記第1の壁および前記第2の壁が、それらの間に第2のベントを画定する、実施態様10に記載の方法。
(15) 前記第2のベントが、前記第1の壁と前記第2の壁の突出部分とによって画定される、実施態様14に記載の方法。
【0332】
(16) 前記空間が主軸を画定し、前記主軸に平行に引かれた線が前記第1のベントおよび前記第2のベントの両方と交差しない、実施態様14または15に記載の方法。
(17) 約0.0001〜約50トルの前記空間内の圧力を生じさせるように熱を加えることをさらに含む、実施態様10〜16のいずれかに記載の方法。
(18) 前記熱が、約0.005〜約5トルの前記空間内の圧力を生じさせるように加えられる、実施態様17に記載の方法。
(19) 内部容積を境界付ける第1の壁と、
第2の壁であって、前記第1の壁と前記第2の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第1の壁から距離を置いて離間された、第2の壁と、
前記断熱空間に面する前記第2の壁の内面と、前記断熱空間に面する前記第1の壁の外面と、を備え、
(a)前記第1の壁が、(i)前記第1の壁の第1の端部から前記第2の壁の前記内面に向かって延在し、任意選択で前記第2の壁の前記内面に本質的に垂直である、および/もしくは(ii)前記第1の壁の第2の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第1の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第2の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
(b)前記第2の壁が、(i)前記第2の壁の第1の端部から前記第1の壁の前記外面に向かって延在し、任意選択で前記第1の壁の前記外面に本質的に垂直である、および/もしくは(ii)前記第2の壁の第2の端部に向かって延在する、延長部分を備え、前記第2の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第1の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備えるか、または、
(a)および(b)の両方であり、かつ、
前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第1のベント、を備え、
前記ベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
(20) 前記第1および第2の壁が、それぞれ、第1の管および第2の管として特徴付けられている、実施態様19に記載の断熱構成要素。
【0333】
(21) 前記第1および第2の管が、互いに同軸に配置されている、実施態様20に記載の断熱構成要素。
(22) 前記第1の壁の前記延長部分が、前記第1の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さLE1を画定する、実施態様19〜21のいずれかに記載の断熱構成要素。
(23) 前記第1の壁が、長さWL1を画定し、LE1対WL1の比率が、約1:1000〜約1:2である、実施態様22に記載の断熱構成要素。
(24) 前記LE1対WL1の比率が、約1:10〜約1:5である、実施態様23に記載の断熱構成要素。
(25) 前記第2の壁の前記延長部分が、前記第2の壁に垂直な線によって測定されるとき、長さLE2を画定する、実施態様19〜24のいずれかに記載の断熱構成要素。
【0334】
(26) 前記第2の壁が、長さWL2を画定し、LE2対WL2の比率が、約1:1000〜約1:2である、実施態様25に記載の断熱構成要素。
(27) 前記LE2対WL2の比率が、約1:100〜約1:5である、実施態様26に記載の断熱構成要素。
(28) 前記第2の壁が、前記第1のベントが開かれるように、有効な条件が前記第1の壁に対する前記第2の壁の熱膨張に影響を与えるように構成されている、実施態様19〜27のいずれかに記載の断熱構成要素。
(29) 前記第1のベントが、前記第1の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施態様19〜28のいずれかに記載の断熱構成要素。
(30) 第2のベントをさらに含み、前記第2のベントが、前記第2の壁の前記ランド部分によって少なくとも部分的に画定されている、実施態様29に記載の断熱構成要素。
【0335】
(31) 前記第2の壁の前記内面に平行に延在する線に沿って、前記第1のベントおよび前記第2のベントが互いに重なり合わない、実施態様30に記載の断熱構成要素。
(32) 前記断熱空間をシールするように前記第1のベントをシールするシーラントをさらに含み、前記シーラントが、任意選択で前記第1のベントを少なくとも部分的に閉塞するように配設されている、実施態様19〜31のいずれかに記載の断熱構成要素。
(33) 実施態様19〜32のいずれかに記載の断熱構成要素の前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
(34) 実施態様19〜32のいずれかに記載の断熱構成要素の前記内部容積内で少なくとも部分的に配設された材料を加熱することを含む、方法。
(35) 前記加熱が、前記材料を燃焼させずに前記材料を加熱することを含む、実施態様34に記載の方法。
【0336】
(36) 前記材料が、喫煙可能な材料を含む、実施態様34または35に記載の方法。
(37) 内部容積を境界付ける第1の壁と、前記第1の壁から距離を置いて離間された第2の壁と、を備え、
容積が、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定され、
(a)前記第1の壁が、前記第2の壁に向かって延在し、任意選択で前記第2の壁の内面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第1の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第2の壁の前記内面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
(b)前記第2の壁が、前記第1の壁の外面に向かって延在し、任意選択で前記第1の壁の前記外面に本質的に垂直である延長部分を備え、前記第2の壁の前記延長部分が、任意選択で前記第1の壁の前記外面に本質的に平行であるランド部分をさらに備え、
または(a)および(b)の両方であり、かつ
(c)前記第1の壁の前記ランド部分が、前記第1の壁と前記第2の壁との間の容積を画定するように前記第2の壁に接触し、(d)前記第2の壁の前記ランド部分が、前記第1の壁と前記第2の壁との間の容積を画定するように前記第1の壁に接触し、
または(c)および(d)の両方であり、
前記第1の壁に対して前記第2の壁の熱膨張をもたらすのに有効な条件下で前記第1の壁および前記第2の壁を加熱すること、を含み、
前記熱膨張が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、および/もしくは前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、それにより、気体分子が、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定された前記容積を出ることを可能にする、方法。
(38) 前記加熱が、大気圧未満で行われる、実施態様37に記載の方法。
(39) 前記熱膨張が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様37または38に記載の方法。
(40) 前記熱膨張が、前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様37〜39のいずれかに記載の方法。
【0337】
(41) 前記熱膨張が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させ、かつ、前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の空間を生じさせるかまたは増大させる、実施態様37〜40のいずれかに記載の方法。
(42) 前記加熱が、前記第1の壁の前記ランド部分と前記第2の壁との間の前記空間および/もしくは前記第2の壁の前記ランド部分と前記第1の壁との間の前記空間のシーラントによってシーリングをもたらすのに有効である、実施態様37〜41のいずれかに記載の方法。
(43) 内部容積を境界付ける第1の壁と、
第2の壁であって、前記第1の壁と前記第2の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第1の壁から距離を置いて離間された、第2の壁と、
第1のキャップであって、前記第1のキャップが、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールし、
前記第1のキャップが第1のランドを備え、前記第1のランドが任意選択で前記第1の壁にシールされ、かつ、前記第1のキャップが第2のランドをさらに備え、前記第2のランドが任意選択で前記第2の壁にシールされる、第1のキャップと、
前記断熱空間と連通して、前記断熱空間からの気体分子のための出口経路を提供する第1のベントと、を備え、
前記第1のベントが、前記ベントからの気体分子の流出に続いて前記断熱空間をシーリングするためにシール可能である、断熱構成要素。
(44) 前記第1のベントが、前記第1のランドおよび前記第1の壁によって画定されている、実施態様43に記載の断熱構成要素。
(45) 第2のキャップをさらに備え、前記第2のキャップが、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、実施態様43または44に記載の断熱構成要素。
【0338】
(46) 前記第2のキャップが、第1のランドおよび第2のランドを備える、実施態様45に記載の断熱構成要素。
(47) 前記第2のキャップの前記第1のランドおよび前記第2のランドが、概して同じ方向に延在する、実施態様45に記載の断熱構成要素。
(48) 前記第2のキャップの前記第1のランドおよび前記第2のランドが、概して反対方向に延在する、実施態様45に記載の断熱構成要素。
(49) 前記第1のキャップの前記第1のランドおよび前記第2のランドが、概して同じ方向に延在する、実施態様43〜48のいずれかに記載の断熱構成要素。
(50) 前記第1のキャップの前記第1のランドおよび前記第2のランドが、概して反対方向に延在する、実施態様43〜48のいずれかに記載の断熱構成要素。
【0339】
(51) (a)前記第1のキャップの前記第1のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、(b)前記第1のキャップの前記第2のランドが、前記キャップの周囲の周りで変化する高さを画定するか、または(a)および(b)である、実施態様43〜50のいずれかに記載の断熱構成要素。
(52) 実施態様43〜51のいずれかに記載の断熱構成要素を用いて、前記内部容積内で流体を連通することを含む、方法。
(53) 実施態様43〜51のいずれかに記載の断熱構成要素を用いて、前記第1のキャップの前記第1のランドを前記第1の壁にシールすることを含む、方法。
(54) 第1の壁と、
第2の壁と、を備え、
前記第1の壁が前記第2の壁を囲み、
前記第1の壁が、前記第2の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第1の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
前記第2の壁が、前記第1の壁に向かって延在する傾斜部分を備え、前記第2の壁がまた、前記傾斜部分から延在するランド部分を備え、
第3の壁と、
第4の壁と、を備え、前記第3の壁が前記第4の壁を囲み、
前記第1の壁の前記ランドが前記第3の壁にシールされ、前記第2の壁の前記ランドが前記第4の壁にシールされ、それにより、前記第3の壁と前記第4の壁との間の空間と流体連通している前記第1の壁と前記第2の壁との間の空間を少なくとも部分的にシールする、断熱構成要素。
(55) 内部容積を境界付ける第1の壁と、
第2の壁であって、前記第1の壁と前記第2の壁との間に断熱空間を画定するように、前記第1の壁から距離を置いて離間された、第2の壁と、
湾曲したプロファイルを画定する第1のキャップであって、
前記第1のキャップが、前記第1の壁と前記第2の壁との間に画定された前記断熱空間を少なくとも部分的にシールする、第1のキャップと、
湾曲したプロファイルを画定する第2のキャップであって、
前記第2のキャップが、前記第1の壁にシールされた第1の部分を備え、
前記第2のキャップが、前記第2の壁にシールされた第2の部分をさらに備える、第2のキャップと、を備え、
第1の壁の前記湾曲したプロファイルおよび前記第2の壁の前記湾曲したプロファイルが、互いに離れて凹状である、断熱構成要素。
【0340】
(56) 前記第1のキャップが、前記第1の壁および前記第2の壁の対向面にシールされている、実施態様53に記載の断熱構成要素。
(57) 前記第1のキャップが、前記第1の壁および前記第2の壁の非対向面にシールされている、実施態様53に記載の断熱構成要素。
(58) 前記第2のキャップが、前記第1の壁および前記第2の壁の対向面にシールされている、実施態様53に記載の断熱構成要素。
(59) 前記第2のキャップが、前記第1の壁および前記第2の壁の非対向面にシールされている、実施態様53に記載の断熱構成要素。
(60) 構成要素を打撃、振動、またはその両方にさらすことであって、
前記構成要素が、前記構成要素内にシールされた排気領域を含む、さらすことと、
前記さらすことに関連する1つ以上の情報の項目を処理することと、
前記1つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けることと、を含む、試験方法。
【0341】
(61) 前記打撃が、自動化された方法でもたらされる、実施態様60に記載の試験方法。
(62) 前記打撃が、手動でもたらされる、実施態様60に記載の試験方法。
(63) 前記打撃が、前記構成要素を基板上に落下させることによってもたらされ、前記基板は、任意選択でストライカープレートである、実施態様58に記載の試験方法。
(64) 前記振動が、前記構成要素と機械的に連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施態様60に記載の試験方法。
(65) 前記振動が、前記構成要素と流体連通しているバイブレータ装置によってもたらされる、実施態様60に記載の試験方法。
【0342】
(66) 前記1つ以上の情報の項目が、前記構成要素の第1の表面から受け取られ、前記さらすことが前記構成要素の第2の表面上でもたらされる、実施態様60〜65のいずれかに記載の試験方法。
(67) 前記構成要素を、前記構成要素の第1の表面で固定することをさらに含み、前記さらすことが前記構成要素の第2の表面上でもたらされる、実施態様60〜66のいずれかに記載の試験方法。
(68) 前記構成要素の前記打撃、振動、またはその両方への前記さらすことの間、前記構成要素をある方向に維持することをさらに含む、実施態様60〜67のいずれかに記載の試験方法。
(69) 前記構成要素を、環境振動から少なくとも部分的に振動分離して維持することをさらに含む、実施態様60〜68のいずれかに記載の試験方法。
(70) 前記物理的特性が、前記構成要素の断熱特性を含む、実施態様60〜69のいずれかに記載の試験方法。
【0343】
(71) 前記構成要素内の前記シールされた排気領域が、環状の構成として特徴付けられる、実施態様60〜70のいずれかに記載の試験方法。
(72) 前記構成要素が、ある量の1つ以上のセラミックを含む、実施態様60〜71のいずれかに記載の試験方法。
(73) バイブレータ装置と、
構成要素マウントと、
前記構成要素マウントに固定された構成要素であって、前記構成要素がある量のセラミックを含み、前記構成要素が前記構成要素内のシールされた排気領域を含み、またはその両方であり、
前記構成要素は、前記構成要素が前記バイブレータ装置と機械的に連通するか、前記バイブレータ装置と流体連通するか、またはその両方になるように固定されている、構成要素と、を備える、試験システム。
(74) 前記構成要素の表面に配設されたトランスデューサをさらに備える、実施態様73に記載の試験システム。
(75) 前記システムは、前記トランスデューサが、前記バイブレータ装置から振動を受け取る前記構成要素の表面とは異なる前記構成要素の表面に配設されるように構成されている、実施態様74に記載の試験システム。
【0344】
(76) 前記システムが、前記構成要素を前記振動装置からのエネルギーにさらすことに関連する前記構成要素から発した1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記1つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施態様73〜75のいずれかに記載の試験システム。
(77) 打撃プレートと、
前記打撃プレートへの構成要素の衝突から発したエネルギーを受け取るように構成されたトランスデューサと、を備える、試験システム。
(78) 前記トランスデューサが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突時に前記構成要素から発したエネルギーを受け取るように構成されている、実施態様77に記載の試験システム。
(79) 前記システムが、前記構成要素の前記打撃プレートへの衝突に関連する1つ以上の情報の項目を受け取るように構成され、任意選択で、前記システムが、前記1つ以上の情報の項目を前記構成要素の物理的特性に関連付けるように構成されている、実施態様77または78に記載の試験システム。
(80) バイブレータ装置と、構成要素マウントと、プロセッサと、を備える、試験システム。
【0345】
(81) 断熱構成要素を調製する方法であって、
第1の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第1の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
第2の境界構成要素の表面の少なくとも一部を調整することによって、前記第2の境界構成要素の前記表面の調整された領域を形成することと、
前記第1の境界構成要素と前記第2の境界構成要素との間にシールされた排気領域を生じさせるのに十分な条件下で前記第1の境界構成要素および前記第2の境界構成要素を処理することであって、
前記シールされた排気領域が、前記第1の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域および前記第2の境界構成要素の前記表面の前記調整された領域によって少なくとも部分的に画定されている、処理することと、を含む、方法。
(82) 前記調整が、前記第1の境界構成要素の前記調整された領域、前記第2の境界構成要素の前記調整された領域、またはその両方の不純物を低減するように行われる、実施態様81に記載の方法。
(83) 前記調整が、前記第1の境界構成要素と前記第2の境界構成要素との間の空間に流体を引き込むことを含む、実施態様81または82に記載の方法。
(84) 前記調整が、加熱することを含む、実施態様81〜83のいずれかに記載の方法。
(85) スペーサ材料が前記シールされた排気領域内に留まるように、前記第1の境界構成要素と前記第2の境界構成要素との間に前記スペーサ材料を配設することをさらに含む、実施態様81〜84のいずれかに記載の方法。
【0346】
(86) 前記スペーサ材料が、セラミックを含む、実施態様85に記載の方法。
(87) 前記スペーサ材料が、窒化ホウ素を含む、実施態様85に記載の方法。
(88) 前記調整が、前記スペーサ材料の少なくとも一部を調整すること、前記スペーサ材料の少なくとも一部を加熱すること、またはその両方を含む、実施態様85〜87のいずれかに記載の方法。
(89) 前記第1の境界構成要素および前記第2の境界構成要素の一方または両方が、セラミックを含む、実施態様81〜88のいずれかに記載の方法。
(90) 前記第1の境界構成要素および前記第2の境界構成要素の一方または両方が、金属を含む、実施態様80〜89のいずれかに記載の方法。
【0347】
(91) 前記処理が、ろう付けを含む、実施態様80〜90のいずれかに記載の方法。
(92) 前記処理が、前記第1の境界構成要素および前記第2の境界構成要素の一方または両方をシーラー構成要素にシールすることを含む、実施態様80〜91のいずれかに記載の方法。
(93) 前記シーラー構成要素が、リングを含む、実施態様92に記載の方法。
(94) 前記リングが、セラミックを含む、実施態様93に記載の方法。
(95) 前記シールされた排気空間が、約1〜約1000分子/cm
3の分子密度を画定する、実施態様80〜94のいずれかに記載の方法。
【0348】
(96) 実施態様80〜95のいずれかに従って調製された、断熱構成要素。