特表 2022-501086 ティッシュ及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】特表2022-501086(P2022-501086A)

(43)【公表日】2022年1月6日

(54)【発明の名称】ティッシュ及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   A47K 10/16 20060101AFI20211210BHJP

   B31F 1/07 20060101ALI20211210BHJP

   D21H 27/00 20060101ALI20211210BHJP

   D21H 27/40 20060101ALI20211210BHJP

【ＦＩ】

   A47K10/16 C

   A47K10/16 D

   B31F1/07

   D21H27/00 F

   D21H27/40

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2021-502583(P2021-502583)

(86)(22)【出願日】2019年11月27日

(85)【翻訳文提出日】2021年1月14日

(86)【国際出願番号】CN2019121113

(87)【国際公開番号】WO2021031438

(87)【国際公開日】20210225

(31)【優先権主張番号】201910760175.5

(32)【優先日】2019年8月16日

(33)【優先権主張国】CN

(81)【指定国】 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,TJ,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,RO,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM,TN,TR,TT

(71)【出願人】

【識別番号】519423839

【氏名又は名称】維達紙業（中国）有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＶＩＮＤＡ ＰＡＰＥＲ （ＣＨＩＮＡ） ＣＯＭＰＡＮＹ ＬＴＤ．

(74)【代理人】

【識別番号】110000729

【氏名又は名称】特許業務法人 ユニアス国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】胡 永▲進▼

(72)【発明者】

【氏名】姚 昌林

【テーマコード（参考）】

2D135

3E078

4L055

【Ｆターム（参考）】

2D135AA07

2D135AA17

2D135AB03

2D135AB05

2D135AB06

2D135AC03

2D135AC04

2D135AC08

2D135AD15

3E078AA20

3E078BB51

3E078BC06

3E078DD09

4L055AH37

4L055AJ01

4L055AJ07

4L055BE08

4L055CH20

4L055EA15

4L055FA11

4L055FA13

4L055FA30

4L055GA28

(57)【要約】

ティッシュ及びその製造方法であって、前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、前記第３エンボス層に貼り付けられ、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持されることで、製品の厚さが最大限に向上され、伝統的な３層エンボスプロセス構造と比較すれば、製品の厚さが５２％程度アップされ、第１エンボス層での第１エンボス層高突起は、第２エンボス層、第３エンボス層を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成し、これにより、ティッシュ製品の厚さ、触感、吸収性等の点の物理性能を大幅にアップする。
【選択図】図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１エンボス層、第２エンボス層、及び第３エンボス層を含み、
前記第１エンボス層に第１エンボス層低突起及び第１エンボス層高突起がエンボスされており、前記第１エンボス層低突起は、第１エンボス層低突起幅及び第１エンボス層低突起高さを含み、前記第１エンボス層高突起は、第１エンボス層高突起幅及び第１エンボス層高突起高さを含み、
前記第２エンボス層に第２エンボス層突起及び第２エンボス層突起間平面があり、前記第２エンボス層突起は、第２エンボス層突起幅及び第２エンボス層突起高さを含み、前記第２エンボス層突起間平面は、第２エンボス層突起間平面幅を有し、
前記第３エンボス層に第３エンボス層突起及び第３エンボス層突起間平面がエンボスされており、前記第３エンボス層突起は、第３エンボス層突起幅及び第３エンボス層突起高さを含むティッシュであって、
前記第１エンボス層高突起高さは、前記第２エンボス層突起高さよりも大きく、前記第２エンボス層突起高さは、前記第３エンボス層突起高さ以上であり、
前記第１エンボス層低突起幅は、前記第２エンボス層突起幅または第２エンボス層突起間平面幅以下であり、
前記第１エンボス層低突起の密度は、前記第２エンボス層突起の密度よりも大きく、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、
或いは、前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合することを特徴とするティッシュ。

【請求項2】

複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起及び前記第２エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とする請求項１に記載のティッシュ。

【請求項3】

複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起間平面は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起及び前記第２エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とする請求項１に記載のティッシュ。

【請求項4】

前記第１エンボス層、前記第２エンボス層、及び前記第３エンボス層は、いずれも１層、２層または多層であることを特徴とする請求項２または３に記載のティッシュ。

【請求項5】

前記第１エンボス層低突起は圧点であり、前記第１エンボス層高突起は点線の組み合わせ図形であることを特徴とする請求項２または３に記載のティッシュ。

【請求項6】

前記第２エンボス層突起は波浪構造であり、或いは、前記第２エンボス層突起はエンボス圧点であることを特徴とする請求項２または３に記載のティッシュ。

【請求項7】

前記波浪構造はしわ、波紋輪郭、波状輪郭であることを特徴とする請求項６に記載のティッシュ。

【請求項8】

前記結合剤は、のりや水や天然抽出液であり、前記結合剤は、色や香りがあり、または無色で無味であることを特徴とする請求項２または３に記載のティッシュ。

【請求項9】

請求項１〜８のいずれか一項に記載のティッシュの製造方法であって、エンボスローラにより第１エンボス層、第２エンボス層、及び第３エンボス層が形成され、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、前記第３エンボス層に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起と前記第２エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とするティッシュの製造方法。

【請求項10】

請求項１〜８のいずれか一項に記載のティッシュの製造方法であって、エンボスローラにより第１エンボス層、第３エンボス層が形成され、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、前記第３エンボス層に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起間平面は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起と前記第２エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とするティッシュの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は２０１９年０８月１６日にて中国特許庁に提出され、出願番号が２０１９１０７６０１７５．５であり、発明名称が「ティッシュ及び製造方法」である中国特許出願の優先権を主張し、その全ての内容が援用されることで本出願に結合される。

【0002】

本発明はティッシュ及びその製造方法に関わり、具体的には、多層製品の製造方法である。

【背景技術】

【0003】

ティッシュは一般的に、木材パルプ、竹パルプ、綿パルプ、わらパルプ等の天然の無公害の原料によって製造されてなり、用途に応じて区分すれば、フェイシャルティッシュ、ナプキン原紙、紙のハンカチ、ウェットティッシュ、ペーパータオル、キッチンペーパー等が含まれ、ティッシュの構造に応じて単層、２層、多層に区分でき、多層ティッシュは、抜き取り過程において階層剥離しやすい可能性があり、紙の階層を変更するために、エンボスにより各層の紙を接着させ、エンボス過程においてティッシュの厚さ、触感（表面の柔軟性）、吸収性（ふわふわと柔軟性）等の物理性能に対しても影響を及ぼし、エンボスプロセスは、製紙技術においてティッシュ性能に影響を及ぼすキーポイントになる。

【0004】

現在、市場に出回っているローレットトイレットペーパーの構造は主に、ローレット工程及びローレット後のトイレットペーパーの粘着によって制作されてなる（エンボス複合構造）。従来のローレットトイレットペーパーは主に、２パスローレットが主立つが、従来の既知の開示された３パスローレットトイレットペーパーはプロセス制約を受けるため、従来の３パスローレット構造の製品は２パスローレットの製品に対して優勢が明らかではない。

【0005】

ＣＮ２０１５１０４３９７６４．５は、多層エンボストイレットロール紙の生産方法であり、エンボス待ちの原料紙を巻き出す、原料紙の巻き出しと、１層または１層以上の面層原料紙を上細エンボスローラ対に導いて細エンボスをプレスすることで細エンボス紙を得る、面層の細エンボスと、得られた細エンボス紙と１層のコア層原料紙とを組み合わせて粗エンボスローラ対に導いて粗エンボスを行うことで粗エンボス紙を得る、面層及びコア層の粗エンボスと、得られた粗エンボス紙を、結合剤の塗布水ゴムローラと粗エンボススチールローラとからなるローラ対に導き、得られた粗エンボス紙のコア層側の凹面に結合剤を塗布することで調剤粗エンボス紙を得る、結合剤の塗布と、１層の底層原料紙を下細エンボスローラ対に導いて細エンボスをプレスすることで底層細エンボス紙を得る、底層の細エンボスと、得られた調剤粗エンボス紙と得られた底層細エンボス紙とを巻き戻し、調剤粗エンボス紙の粗エンボス凹面と底層細エンボス紙の凹面とが巻き戻し過程において粘着し接続され、包装を行い、面層凸面と底層凸面とがいずれも相対的に設けられた多層エンボストイレットロール紙を得る、巻き戻し、包装とを含む。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

上記方案は、面層、コア層、底層という３パスエンボスを実現したが、プロセス制約を受けるため、従来の３パスローレット構造の製品は２パスローレットの製品に対して優勢が明らかではない。面層は、２回のエンボスを受けたので、トイレットペーパーにおける繊維結合点が大きく引張破断されて破壊されるから、面層トイレットペーパーの強度が低くなり、濡れると腐りやすく、ユーザー体験が低下することになる。２回エンボスされた面層とコア層とを結合した後に形成された構造は、製品の厚さ構造を大きくアップできず、吸収性及び手触りの変化が明らかではない。

【0007】

これに鑑みて、本発明は、従来技術に存在する問題を解決するための、ティッシュ及びその製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、第１エンボス層、第２エンボス層、及び第３エンボス層を含み、
前記第１エンボス層に第１エンボス層低突起及び第１エンボス層高突起がエンボスされており、前記第１エンボス層低突起は、第１エンボス層低突起幅及び第１エンボス層低突起高さを含み、前記第１エンボス層高突起は、第１エンボス層高突起幅及び第１エンボス層高突起高さを含み、
前記第２エンボス層に第２エンボス層突起及び第２エンボス層突起間平面があり、前記第２エンボス層突起は、第２エンボス層突起幅及び第２エンボス層突起高さを含み、前記第２エンボス層突起間平面は、第２エンボス層突起間平面幅を有し、
前記第３エンボス層に第３エンボス層突起及び第３エンボス層突起間平面がエンボスされており、前記第３エンボス層突起は、第３エンボス層突起幅及び第３エンボス層突起高さを含むティッシュであって、
前記第１エンボス層高突起高さは、前記第２エンボス層突起高さよりも大きく、前記第２エンボス層突起高さは、前記第３エンボス層突起高さ以上であり、
前記第１エンボス層低突起幅は、前記第２エンボス層突起幅または第２エンボス層突起間平面幅以下であり、
前記第１エンボス層低突起の密度は、前記第２エンボス層突起の密度よりも大きく、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、
或いは、前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合するティッシュを提供する。

【0009】

好ましくは、複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起と前記第２エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌される。

【0010】

好ましくは、複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより前記第３エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起間平面は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起と前記第２エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌される。

【0011】

好ましくは、前記第１エンボス層、前記第２エンボス層、及び前記第３エンボス層は、いずれも１層、２層または多層である。

【0012】

好ましくは、前記第１エンボス層低突起は圧点であり、前記第１エンボス層高突起は点線の組み合わせ図形である。

【0013】

好ましくは、前記第２エンボス層突起は波浪構造であり、或いは、前記第２エンボス層突起は圧点である。

【0014】

好ましくは、前記波浪構造はしわ、波紋輪郭、波状輪郭である。

【0015】

好ましくは、前記結合剤は、のりや水や天然抽出液である。前記結合剤は、色があり、または香りがあり、または無色で無味である。

【0016】

本出願はさらに、エンボスローラにより第１エンボス層、第２エンボス層、及び第３エンボス層が形成され、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、前記第３エンボス層に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起及び前記第２エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。

【0017】

本出願はさらに、エンボスローラにより第１エンボス層、第３エンボス層が形成され、
前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起間平面に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は、前記第２エンボス層突起に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層及び前記第２エンボス層は、前記第３エンボス層に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起及び前記第２エンボス層突起間平面は、前記第３エンボス層突起間平面に粘着され、前記第３エンボス層突起及び前記第２エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。

【0018】

上述のように、本発明は、ティッシュ及びその製造方法を提供し、３層エンボスパターンへの限定により、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起または第２エンボス層突起間平面とは、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、第１エンボス層及び第２エンボス層の複合過程において、第２エンボス層の表面に第１エンボス層高突起のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられ、ローラにより一定の力で押し出された後前記第３エンボス層に貼り合わせられており、前記第１エンボス層低突起の密度が前記第２エンボス層突起の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起は前記第２エンボス層突起に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は前記第２エンボス層突起間平面に支持され、製品の厚さが最大限に向上され、伝統的な３層エンボスプロセス構造と比較すれば、製品の厚さが５２％程度アップされ、第１エンボス層及び第３エンボス層は主に一定密度のエンボス小点であり、エンボス点の密度は第２エンボス層の密度よりも大きいので、似ているタッチ手触りが得られ、第１エンボス層での第１エンボス層高突起は、第２エンボス層、第３エンボス層を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成し、これにより、ティッシュ製品の厚さ、触感、吸収性等の点の物理性能を大幅にアップする。

【図面の簡単な説明】

【0019】

本発明の実施例または従来技術における技術案をより明瞭に説明するために、以下、実施例または従来技術への記載に使用する必要がある図面を簡単に紹介し、明らかなように、以下の記載における図面は、本発明の実施例だけであり、当業者にとって、創造的な労働を費やさない場合、さらに提供される図面に応じて他の図面を得ることができる。

【図1】従来技術の３パスエンボスの模式図である。

【図2】従来技術の３パスエンボスの模式図である。

【図3】第１エンボス層の模式図である。

【図4】第２エンボス層の模式図である。

【図5】第３エンボス層の模式図である。

【図6】第１〜第３エンボス層の分解模式図である。

【図7】第１及び第２エンボス層の複合模式図である。

【図8】複合後の第１及び第２エンボス層と第３エンボス層との複合模式図である。

【図9】３層エンボスの実施例１の模式図である。

【図10】３層エンボスの実施例２の模式図である。

【図11】３層エンボスの実施例３の模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

本発明の実施例は、従来技術に存在する問題を解決するための、ティッシュ及びその製造方法を提供する。

【0021】

以下、本発明の実施例における技術案を明瞭で完全に記述し、明らかなように、記述された実施例は、本発明の一部の実施例だけであり、全ての実施例ではない。本発明における実施例に基づき、当業者が創造的な労働を費やさない場合に得られた全てのほかの実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属する。

【0022】

本発明をより詳しく説明するために、以下、本発明により提供されるティッシュ及びその製造方法を、図面を参照して具体的に記述する。

【0023】

エンボス層平面は、エンボス前のティッシュ層の平面を指し、エンボス突起幅は、エンボス層平面がエンボスされた後に形成された突起底面の幅を指し、エンボス突起高さは、エンボス層平面とエンボス後に形成された突起底面との間の距離を指し、エンボス突起間平面は、エンボス突起の間のエンボスされていないエンボス層平面を指す。

【0024】

図８に示すように、ティッシュであって、第１エンボス層１０、第２エンボス層２０、及び第３エンボス層３０を含み、
図３に示すように、前記第１エンボス層１０に第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２及び第１エンボス層平面１３がエンボスされ、
前記第１エンボス層低突起１１は、第１エンボス層低突起幅ｄ１１及び第１エンボス層低突起高さｈ１１を含み、第１エンボス層低突起幅ｄ１１は、エンボス後に形成された突起底面の幅を指し、第１エンボス層低突起高さｈ１１は、エンボス層平面とエンボス後に形成された突起底面との間の距離を指し、前記第１エンボス層低突起１１は、第１エンボス層低突起左側辺１１１、第１エンボス層低突起右側辺１１３及び第１エンボス層低突起底面１１２からなり、第１エンボス層低突起１１は、エンボス触感を改善するためのものであってもよく、通常、高さｈ１１が０．６ｍｍ程度であり、第１エンボス層低突起幅ｄ１１が０．３〜０．７ｍｍの間にあり、第１エンボス層低突起左側辺１１１、第１エンボス層低突起右側辺１１３の片側勾配は２５〜３５度程度であり、第１エンボス層低突起１１の密度は一般的に４０〜８０点／ｃｍ^２の間にある。

【0025】

前記第１エンボス層高突起１２は、第１エンボス層高突起幅ｄ１２及び第１エンボス層高突起高さｈ１２を含み、前記第１エンボス層高突起１２は、第１エンボス層高突起左側辺１２１、第１エンボス層高突起右側辺１２３及び第１エンボス層高突起底面１２２からなり、前記第１エンボス層高突起１２は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第１エンボス層高突起幅ｄ１２は一般的に０．４〜１．６ｍｍの間にあり、第１エンボス層高突起左側辺１２１、第１エンボス層高突起右側辺１２３の片側勾配は２０〜３０度程度であり、第１エンボス層高突起高さｈ１２の高さは、第１エンボス層低突起高さｈ１１よりも０．３〜１ｍｍの間高くなる。

【0026】

図４に示すように、前記第２エンボス層２０に第２エンボス層突起２１及び第２エンボス層突起間平面２２があり、前記第２エンボス層突起２１は、第２エンボス層突起幅ｄ２１及び第２エンボス層突起高さｈ２１を含み、第２エンボス層突起２１は、第２エンボス層突起左側辺２１１、第２エンボス層突起右側辺２１２、及び第２エンボス層突起底面２１３からなり、前記第２エンボス層突起間平面２２は、第２エンボス層突起間平面幅ｄ２２を有し、第２エンボス層突起幅ｄ２１は一般的に０．４〜１．６ｍｍの間にあり、第２エンボス層突起左側辺２１１、第２エンボス層突起右側辺２１２の片側勾配は２０〜３０度程度であり、第２エンボス層突起２１の密度は一般的に、１０〜６０点／ｃｍ^２程度であり、
図５に示すように、前記第３エンボス層３０に第３エンボス層突起３１、第３エンボス層突起間平面３２及び第３エンボス層平面３３がエンボスされ、第３エンボス層突起３１は、第３エンボス層突起幅ｄ３１及び第３エンボス層突起高さｈ３１を含み、第３エンボス層突起３１は、第３エンボス層突起左側辺３１１、第３エンボス層突起右側辺３１２及び第３エンボス層突起底面３１３からなり、第３エンボス層突起高さｈ３１は一般的に０．６〜１．５ｍｍ程度であり、第３エンボス層突起幅ｄ３１の大きさは一般的に０．３〜１．６ｍｍの間にあり、第３エンボス層突起左側辺３１１、第３エンボス層突起右側辺３１２の片側勾配は２５〜３５度程度であり、第３エンボス層突起３１の密度は一般的に３０〜８０点／ｃｍ^２程度である。

【0027】

前記第１エンボス層高突起高さｈ１２は、前記第２エンボス層突起高さｈ１１よりも大きく、前記第２エンボス層突起高さｈ２１は、前記第３エンボス層突起高さｈ３１以上であり、第１エンボス層１０での第１エンボス層高突起１２は、第２エンボス層２０、第３エンボス層３０を貫通して離散または連続した結合点を形成し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成し、
前記第１エンボス層低突起幅ｄ１１は、前記第２エンボス層突起幅ｄ２１または第２エンボス層突起間平面幅ｄ２２以下であり、前記第１エンボス層低突起１１の密度が前記第２エンボス層突起２１の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起２１に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、離散または連続した支持点が形成され、製品の厚さが最大限に向上され、一部の第２エンボス層突起２１は前記第３エンボス層突起３１に支持され、一部の第２エンボス層突起２１は第３エンボス層突起間平面３２に支持される。

【0028】

前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起１２と前記第２エンボス層突起２１は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起２１に支持され、
或いは、前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０がローラにより複合する過程において、前記第１エンボス層高突起１２と前記第２エンボス層突起間平面２２は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、ローラにより前記第３エンボス層３０と複合する。

【0029】

複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、ローラにより前記第３エンボス層３０と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１及び前記第２エンボス層突起間平面２２は互いに押し出されて象嵌される。

【0030】

複合して結合剤が塗布された後の第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、ローラにより前記第３エンボス層３０と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起間平面２２は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１及び前記第２エンボス層突起２１は互いに押し出されて象嵌される。

【0031】

前記第１エンボス層１０、第２エンボス層２０、及び第３エンボス層３０は、いずれも１層、２層または多層である。

【0032】

前記第１エンボス層低突起１１は圧点であり、前記第１エンボス層高突起１２は点線組み合わせ図形である。

【0033】

前記第２エンボス層突起２１は波浪構造であり、或いは、前記第２エンボス層突起２１は圧点である。

【0034】

前記波浪構造はしわ、波紋輪郭、波状輪郭である。

【0035】

前記結合剤４０は、のりや水や天然抽出液であり、前記結合剤は、色や香りがあり、または無色で無味である。前記結合剤は、色や香りがあり、または無色で無味であることについて、具体的なティッシュ製品に応じて添加できる。

【0036】

本出願はさらに、エンボスローラにより第１エンボス層１０、第２エンボス層２０、及び第３エンボス層３０が形成され、
前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、ローラにより複合して結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起２１に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布された前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、前記第３エンボス層３０に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１と前記第２エンボス層突起間平面２２は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。

【0037】

本出願はさらに、エンボスローラにより第１エンボス層１０、第３エンボス層３０が形成され、第２エンボス層２０が従来の既に成形された製品である、ティッシュの製造方法を提供する。

【0038】

前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、ローラにより複合して結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起間平面２２は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層低突起１１の密度が前記第２エンボス層突起２１の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は、前記第２エンボス層突起２１に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０は、前記第３エンボス層３０に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起間平面２２は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１及び前記第２エンボス層突起２１は互いに押し出されて象嵌される。

【0039】

実施例１について、図９に示すように、エンボスローラにより第１エンボス層１０、第２エンボス層２０ａ、及び第３エンボス層３０が形成され、
前記第１エンボス層１０に第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２及び第１エンボス層平面１３がエンボスされ、第１エンボス層低突起１１は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第１エンボス層高突起１２は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２はともに下向きであり、
前記第２エンボス層上２０ａは、第２エンボス層突起２１及び第２エンボス層突起間平面２２を有し、第２エンボス層突起２１は下向きであり、
前記第３エンボス層３０に第３エンボス層突起３１、第３エンボス層突起間平面３２及び第３エンボス層平面３３がエンボスされ、第３エンボス層突起３１は上向きであり、
前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ａは、ローラにより複合して結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布され、第１エンボス層１０及び第２エンボス層２０ａの複合過程において、第２エンボス層突起底面２１３に第１エンボス層高突起１２のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第１エンボス層低突起ｄ１１の幅が前記第２エンボス層突起幅ｄ２１以下であり、前記第１エンボス層低突起１１の密度が前記第２エンボス層突起２１の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起２１に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布された前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ａは、前記第３エンボス層３０に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１と前記第２エンボス層突起間平面２２は互いに押し出されて象嵌され、第１エンボス層１０での第１エンボス層高突起２１は、第２エンボス層２０ａ、第３エンボス層３０を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成する、ティッシュ。

【0040】

実施例２について、図１０に示すように、エンボスローラにより第１エンボス層１０、第２エンボス層２０ｂ、及び第３エンボス層３０が形成され、
前記第１エンボス層１０に第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２及び第１エンボス層平面１３がエンボスされ、第１エンボス層低突起１１は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第１エンボス層高突起１２は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２はともに下向きであり、
前記第２エンボス層２０ｂは、第２エンボス層突起２１及び第２エンボス層突起間平面２２を有し、第２エンボス層突起２１は上向きであり、
前記第３エンボス層３０に第３エンボス層突起３１、第３エンボス層突起間平面３２及び第３エンボス層平面３３がエンボスされ、第３エンボス層突起３１は上向きであり、
前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ｂは、ローラにより複合して結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起間平面２２は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布され、第１エンボス層１０及び第２エンボス層２０ｂの複合過程において、第２エンボス層突起間平面２２に第１エンボス層高突起１２のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第１エンボス層低突起ｄ１１の幅が第２エンボス層突起間平面幅ｄ２２以下であり、前記第１エンボス層低突起１１の密度が前記第２エンボス層突起２１の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起１１は第２エンボス層突起間平面２２の上端の２つの第２エンボス層突起ｄ２１に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起間平面２２に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布された前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ｂは、前記第３エンボス層３０に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起間平面２２は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１及び前記第２エンボス層突起２１は互いに押し出されて象嵌され、第１エンボス層での第１エンボス層高突起２１は、第２エンボス層２０ｂ、第３エンボス層３０を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成する、ティッシュ。

【0041】

実施例３について、図１１に示すように、エンボスローラにより第１エンボス層１０、第３エンボス層３０が形成され、第２エンボス層２０ｃは、しわ、波紋輪郭、波状輪郭の従来の既知製品であり、
前記第１エンボス層１０に第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２及び第１エンボス層平面１３がエンボスされ、第１エンボス層低突起１１は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第１エンボス層高突起１２は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第１エンボス層低突起１１、第１エンボス層高突起１２はともに下向きであり、
前記第２エンボス層はしわ、波紋輪郭、波状輪郭等の波浪構造であり、上向きの突起及び下向きの突起を有し、下向きの突起を、第２エンボス層突起と理解でき、
前記第２エンボス層突起は、湿紙の抄紙プロセス過程に形成された波浪構造であり、或いは、前記第２エンボス層突起は、乾紙にエンボス機を使用することで形成されたエンボス圧点である、ティッシュ。

【0042】

前記波浪構造はしわ、波紋輪郭、波状輪郭であり、その加工方法は、従来技術、例えば、ＴＡＤ、ＮＴＴ、ＱＲＴ、ＡＴＭＯＳ、ｅＴＡＤ等の技術によって形成されてもよい。

【0043】

前記第３エンボス層３０に第３エンボス層突起３１、第３エンボス層突起間平面３２及び第３エンボス層平面３３がエンボスされ、第３エンボス層突起３１は上向きであり、
前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ｃは、ローラにより複合して結合剤４０が塗布され、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布され、第１エンボス層１０及び第２エンボス層２０ｃの複合過程において、第２エンボス層突起底面２１３に第１エンボス層高突起１２のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第１エンボス層低突起ｄ１１の幅が前記第２エンボス層突起幅ｄ２１以下であり、前記第１エンボス層低突起１１の密度が前記第２エンボス層突起２１の密度よりも大きく、前記第１エンボス層低突起１１は前記第２エンボス層突起２１に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤４０が塗布された前記第１エンボス層１０及び前記第２エンボス層２０ｃは、前記第３エンボス層３０に貼り付けられ、前記第１エンボス層高突起１２及び前記第２エンボス層突起２１は、前記第３エンボス層突起間平面３２に粘着され、前記第３エンボス層突起３１及び前記第２エンボス層突起間平面２２は互いに押し出されて象嵌され、第１エンボス層での第１エンボス層高突起２１は、第２エンボス層２０ｃ、第３エンボス層３０を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成する。

【0044】

上述のように、本発明は、ティッシュ及びその製造方法を提供し、３層エンボスパターンへの限定により、前記第１エンボス層高突起と前記第２エンボス層突起または第２エンボス層突起間平面とは、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、第１エンボス層及び第２エンボス層の複合過程において、第２エンボス層の表面に第１エンボス層高突起のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられ、ローラにより一定の力で押し出された後に前記第３エンボス層に貼り合わせられており、前記第１エンボス層低突起の密度が前記第２エンボス層突起の密度よりも大きく、一部の前記第１エンボス層低突起は前記第２エンボス層突起に支持され、一部の前記第１エンボス層低突起は前記第２エンボス層突起間平面に支持され、製品の厚さが最大限に向上され、伝統的な３層エンボスプロセス構造と比較すれば、製品の厚さが５２％アップされ、第３エンボス層は主に一定密度のエンボス小点であり、エンボス点の密度は一般的に第１エンボス層と似ているので、似ているタッチ手触りが得られ、第１エンボス層での第１エンボス層高突起は、第２エンボス層、第３エンボス層を貫通し、最終的に３つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて１つの強固な立体構造を形成し、これにより、ティッシュ製品の厚さ、触感、吸収性等の点の物理性能を大幅にアップする。

【0045】

以上に記載のことは、本発明の好ましい実施形態だけであり、指摘すべきは、当業者にとって、本発明の原理から逸脱しない上に、若干の改良と修飾を行ってもよく、これら改良と修飾も、本発明の保護範囲とみなされるべきである。

【符号の説明】

【0046】

１０ ・・・第１エンボス層；
１１ ・・・第１エンボス層低突起；
ｄ１１ ・・・第１エンボス層低突起幅；
ｈ１１ ・・・第１エンボス層低突起高さ；
１１１ ・・・第１エンボス層低突起左側辺；
１１３ ・・・第１エンボス層低突起右側辺；
１１２ ・・・第１エンボス層低突起底面；
１２ ・・・第１エンボス層高突起；
ｄ１２ ・・・第１エンボス層高突起幅；
ｈ１２ ・・・第１エンボス層高突起幅；
１２１ ・・・第１エンボス層高突起左側辺；
１２２ ・・・第１エンボス層高突起右側辺；
１２３ ・・・第１エンボス層高突起底面；
１３ ・・・第１エンボス層平面；
２０ ・・・第２エンボス層；
２１ ・・・第２エンボス層突起；
ｄ２１ ・・・第２エンボス層突起幅；
ｈ２１ ・・・第２エンボス層突起高さ；
２１１ ・・・第２エンボス層突起左側辺；
２１２ ・・・第２エンボス層突起右側辺；
２１３ ・・・第２エンボス層突起底面；
２２ ・・・第２エンボス層突起間平面；
ｄ２２ ・・・第２エンボス層突起間平面幅；
２３ ・・・第２エンボス層平面；
３０ ・・・第３エンボス層；
３１ ・・・第３エンボス層突起；
３１１ ・・・第３エンボス層突起左側辺；
３１２ ・・・第３エンボス層突起右側辺；
３１３ ・・・第３エンボス層突起底面；
ｄ３１ ・・・第３エンボス層突起幅；
ｈ３１ ・・・第３エンボス層突起高さ；
３２ ・・・第３エンボス層突起平面；
３３ ・・・第３エンボス層平面。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【国際調査報告】