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株式会社FLOSFIA商標一覧

2025年12月5日更新

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商標ランキング2018年 98位(4件)  前年 位(件)
総区分数8区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出10A01... (出現率75%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ9類 & 7類 他... (出現率50%)
指定商品・指定役務総数961商標あたりの平均数24
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位ドラ (出現率50%)
1位ミス (出現率50%)
2位ガオ (出現率25%)
2位ギオ (出現率25%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位ドイ (出現率50%)
1位ミイ (出現率50%)
1位ミト (出現率50%)
2位ガオ (出現率25%)
2位ギオ (出現率25%)
2位ジオ (出現率25%) 他

株式会社FLOSFIA2018年の商標登録

4件
直近の商標登録(2025年12月5日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6080096
登録日:2018年9月14日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日:2017年10月13日
商願2017-135502
商標登録6080096
ガオ
ギャオ
ジイエイオオ
9類
半導体 半導体デバイス 半導体素子 トランジスタ ダイオード 続く…
10A01(第9類) 10B01(第9類) 11A01(第9類) 11A03(第9類) 11B01(第9類) 続く
登録6053937
登録日:2018年6月22日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2017年9月6日
商願2017-117797
商標登録6053937
フロスフィア
40類
化学的、機械的、熱的、熱機械的、化学蒸着、物理的蒸着、真空蒸着過程による物品の表面への薄膜の塗布 ミストCVDによる物品の表面への薄膜の塗布 ラミネート加工 金属被覆加工 金属の加工 続く…
40C01(第40類) 40C02(第40類) 40C03(第40類) 40C04(第40類) 40C05(第40類) 続く
登録6025051
登録日:2018年3月9日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日:2017年4月21日
商願2017-57019
商標登録6025051
ミストドライ
ミスト
ドライ
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 半導体基板・薄膜・シリコンディスク及びウェーハの処理・つやだし・洗浄及び製造装置及びそれらの部品 半導体製造装置 半導体製造装置の部品および附属品 化学機械器具 続く…
9類
半導体 半導体デバイス 電気通信機械器具及びその部品 電子応用機械器具及びその部品 測定機械器具及びその部品 続く…
40類
金属めっき めっき装置の貸与 化学的、機械的、熱的、熱機械的、化学蒸着、物理的蒸着、真空蒸着過程による物品の表面への薄膜の塗布 ミストCVDによる物品の表面への薄膜の塗布 ラミネート加工 続く…
09A06(第7類) 09A07(第7類) 09A63(第7類) 09A67(第7類) 09A68(第7類) 続く
登録6025050
登録日:2018年3月9日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日:2017年4月21日
商願2017-57018
商標登録6025050
ミストドライ
ミスト
ドライ
デイアアルワイ
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 半導体基板・薄膜・シリコンディスク及びウェーハの処理・つやだし・洗浄及び製造装置及びそれらの部品 半導体製造装置 半導体製造装置の部品および附属品 化学機械器具 続く…
9類
半導体 半導体デバイス 電気通信機械器具及びその部品 電子応用機械器具及びその部品 測定機械器具及びその部品 続く…
40類
金属めっき めっき装置の貸与 化学的、機械的、熱的、熱機械的、化学蒸着、物理的蒸着、真空蒸着過程による物品の表面への薄膜の塗布 ミストCVDによる物品の表面への薄膜の塗布 ラミネート加工 続く…
09A06(第7類) 09A07(第7類) 09A63(第7類) 09A67(第7類) 09A68(第7類) 続く

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