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TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.商標一覧

2025年6月30日更新

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商標ランキング2017年 107位(6件)  前年 位(件)
総区分数6区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出01A01 (出現率83%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数291商標あたりの平均数5
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位テイ (出現率33%)
2位イイ (出現率17%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位イー (出現率17%)
1位エス (出現率17%)
1位オラ (出現率17%)
1位タム (出現率17%)
1位テム (出現率17%) 他

TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.2017年の商標登録

6件
直近の商標登録(2025年6月30日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録5978376
登録日:2017年9月8日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2017年1月30日
商願2017-8015
商標登録5978376
エヌシイデイエス
1類
太陽電池用拡散剤 半導体高濃度拡散剤 化学品
01A01(第1類)
登録5977669
登録日:2017年9月1日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2017年2月23日
商願2017-22506
商標登録5977669
ピイエムイイアアル
ピイマー
ピイメル
1類
化学品 工業用化学品 電子部品製造用化学品 半導体製造用化学品 写真材料 続く…
01A01(第1類) 10E01(第1類)
登録5930157
登録日:2017年3月10日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2016年8月30日
商願2016-95179
商標登録5930157
オスラ
1類
半導体の回路パターンの倒壊防止剤 フォトレジストパターンの倒壊防止剤 化学品
01A01(第1類)
登録5930063
登録日:2017年3月10日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2016年8月5日
商願2016-84434
商標登録5930063
タップエム
テイエイピイエム
17類
ポリイミド樹脂フィルム ポリイミド樹脂シート ポリイミドフィルム製プラスチック基礎製品 ポリイミド樹脂フィルムの半製品からなるフィルター材 樹脂製多孔質フィルム 続く…
34A01(第17類)
登録5913403
登録日:2017年1月13日
商標ランキング 出願から16ヵ月
出願日:2015年9月10日
商願2015-87619
商標登録5913403
テイピイアイアアル
テイピル
1類
化学品 写真材料 フォトレジスト ナノインプリント用レジスト
01A01(第1類) 10E01(第1類)
登録5908490
登録日:2016年12月22日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2016年7月1日
商願2016-71657
商標登録5908490
イイエムリムーバー
リムーバー
1類
化学品 半導体製造工程において使用する基板洗浄剤 半導体製造工程において使用する半導体ウエハ洗浄剤 半導体製造工程において使用する半導体層洗浄剤 工業用洗浄剤 続く…
01A01(第1類) 04A01(第1類)

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