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東横化学株式会社商標一覧

2025年4月1日更新

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商標ランキング2018年 98位(4件)  前年 位(件)
総区分数4区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出09A68 (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数121商標あたりの平均数3
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位アイ (出現率50%)
1位エー (出現率50%)
2位アネ (出現率25%)
2位ヒー (出現率25%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位アク (出現率50%)
1位エク (出現率50%)
2位アス (出現率25%)
2位ヒン (出現率25%) 他

東横化学株式会社2018年の商標登録

4件
直近の商標登録(2025年4月1日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6017510
登録日:2018年2月9日
商標ランキング 出願から10ヵ月
出願日:2017年4月11日
商願2017-50054
商標登録6017510
ヘルン
ヒーラン
7類
半導体製造用ガス回収装置 ヘリウム回収装置 半導体製造装置
09A06(第7類) 09A68(第7類)
登録6017509
登録日:2018年2月9日
商標ランキング 出願から10ヵ月
出願日:2017年4月11日
商願2017-50053
商標登録6017509
エールシック
アイレシック
7類
半導体製造装置 半導体製造用熱処理装置
09A68(第7類)
登録6013953
登録日:2018年1月26日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2017年4月11日
商願2017-50052
商標登録6013953
エールシック
アイレシック
7類
半導体製造装置 半導体製造用熱処理装置
09A68(第7類)
登録6013952
登録日:2018年1月26日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2017年4月11日
商願2017-50051
商標登録6013952
アネシス
7類
半導体製造装置 プラスチック加工機械器具用液体材料供給装置 半導体製造装置用液体材料供給装置 フラットディスプレイパネル製造装置用液体材料供給装置 太陽電池製造装置用液体材料供給装置
09A67(第7類) 09A68(第7類)

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