商標ランキング/商標調査ツール特許庁公報に基づく商標データを便利にお使い頂けます

ホーム > 商標ランキング > ネオ パフォーマンス マテリアルズ (シンガポール) プライベート リミテッド > 2018年 > 2018年

ネオ パフォーマンス マテリアルズ (シンガポール) プライベート リミテッド商標一覧

2025年2月17日更新

商標ランキング一覧に戻る

商標ランキング2018年 99位(3件)  前年 位(件)
総区分数6区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出01A01... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ40類 & 1類 (出現率100%)
指定商品・指定役務総数181商標あたりの平均数6
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エヌ (出現率100%)
1位ネオ (出現率100%)
2位パフ (出現率33%)
2位マグ (出現率33%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エイ (出現率100%)
1位エオ (出現率100%)
1位ネオ (出現率100%)
2位ネズ (出現率33%)
2位ネチ (出現率33%)
2位パス (出現率33%) 他

ネオ パフォーマンス マテリアルズ (シンガポール) プライベート リミテッド2018年の商標登録

3件
直近の商標登録(2025年2月17日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6027512
登録日:2018年3月16日
商標ランキング 出願から17ヵ月
出願日:2016年10月19日
商願2016-115474
商標登録6027512
ネオパフォーマンスマテリアルズ
ネオ
エヌイイオオ

エヌイイ
続く…
1類
様々な希土類元素からなる液状・塩化物状・酸化物状・金属状・粉状化した態様の化合物 ガリウム・ニオビウム・タンタル・レニウム及びその他の希少金属 セリウム・ランタニウム・その他の希土類元素を含有する浄水処理用化学品
40類
二次原材料又はスクラップから高純度のガリウム・ゲルマニウム・インジウム・レニウム・タンタルを回収するための加工処理 浄水処理 浄水処理情報の提供
01A01(第1類) 06A02(第1類) 40F01(第40類) 40F02(第40類) 40H99(第40類)
登録6027511
登録日:2018年3月16日
商標ランキング 出願から17ヵ月
出願日:2016年10月19日
商願2016-115468
商標登録6027511
ネオマグネクエンチ
ネオ
エヌイイオオ

エヌイイ
続く…
1類
様々な希土類元素からなる液状・塩化物状・酸化物状・金属状・粉状化した態様の化合物 ガリウム・ニオビウム・タンタル・レニウム及びその他の希少金属 セリウム・ランタニウム・その他の希土類元素を含有する浄水処理用化学品
40類
二次原材料又はスクラップから高純度のガリウム・ゲルマニウム・インジウム・レニウム・タンタルを回収するための加工処理 浄水処理 浄水処理情報の提供
01A01(第1類) 06A02(第1類) 40F01(第40類) 40F02(第40類) 40H99(第40類)
登録6027510
登録日:2018年3月16日
商標ランキング 出願から17ヵ月
出願日:2016年10月19日
商願2016-115467
商標登録6027510
ネオ
エヌイイオオ

エヌイイ
1類
様々な希土類元素からなる液状・塩化物状・酸化物状・金属状・粉状化した態様の化合物 ガリウム・ニオビウム・タンタル・レニウム及びその他の希少金属 セリウム・ランタニウム・その他の希土類元素を含有する浄水処理用化学品
40類
二次原材料又はスクラップから高純度のガリウム・ゲルマニウム・インジウム・レニウム・タンタルを回収するための加工処理 浄水処理 浄水処理情報の提供
01A01(第1類) 06A02(第1類) 40F01(第40類) 40F02(第40類) 40H99(第40類)

3件中1-3件を表示

1