商標ランキング/商標調査ツール特許庁公報に基づく商標データを便利にお使い頂けます

ホーム > 商標ランキング > 日本結晶光学株式会社 > 2021年 > 2021年

日本結晶光学株式会社商標一覧

2025年6月9日更新

商標ランキング一覧に戻る

商標ランキング2021年 120位(1件)  前年 111位(2件)
総区分数1区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出07E01... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数111商標あたりの平均数11
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エヌ (出現率100%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エイ (出現率100%)

日本結晶光学株式会社2021年の商標登録

1件
直近の商標登録(2025年6月9日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6396080
登録日:2021年5月31日
商標ランキング 出願から3ヵ月
出願日:2021年2月15日
商願2021-17214
商標登録6396080
エヌケイアンドケイ
エヌケイケイ
9類
ガンマ(放射)線検知器 X線を利用した非破壊検査装置 放射線検知器 放射線測定装置 工業用の放射線装置 続く…
07E01(第9類) 10B01(第9類) 11C02(第9類)

1件中1-1件を表示

1