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JSR株式会社商標一覧

2025年9月2日更新

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商標ランキング2025年 78位(5件)  前年 位(件)
総区分数5区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数441商標あたりの平均数9
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エイ (出現率40%)
1位ジイ (出現率40%)
2位イイ (出現率20%)
2位エヌ (出現率20%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エス (出現率40%)
1位ジル (出現率40%)
2位イス (出現率20%)
2位エイ (出現率20%) 他

JSR株式会社2025年の商標登録

5件
直近の商標登録(2025年9月2日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6939955
登録日:2025年6月19日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2024年11月8日
商願2024119932
商標登録6939955
ジェイエスアアル
1類
液晶ディスプレイ製造用化学品 半導体製造用化学品 工業用化学品 科学用体外診断剤 科学用又は研究用試薬 続く…
01A01(第1類) 01A02(第1類) 10E01(第1類) 34A01(第1類)
登録6911551
登録日:2025年3月25日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2024年6月6日
商願2024061045
商標登録6911551
イイユウブイエックス
1類
化学品 半導体製造用化学品 その他化学品 フォトレジスト 写真材料 続く…
01A01(第1類) 10E01(第1類)
登録6907856
登録日:2025年3月14日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2024年8月15日
商願2024088426
商標登録6907856
ジェイエスアアルエヌエスシイ
ジェイエスアアル
エヌエスシイ
1類
半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質 半導体製造用化学品 工業用化学品 工業用接着剤 写真材料 続く…
01A01(第1類) 01A02(第1類) 10E01(第1類) 34A01(第1類)
登録6891596
登録日:2025年1月31日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2024年6月6日
商願2024061044
商標登録6891596
エイアアルエックス
1類
化学品 半導体製造用化学品 その他化学品 フォトレジスト 写真材料 続く…
01A01(第1類) 10E01(第1類)
登録6889742
登録日:2025年1月27日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2024年6月6日
商願2024061043
商標登録6889742
エイイイエックス
1類
化学品 半導体製造用化学品 その他化学品 フォトレジスト 写真材料 続く…
01A01(第1類) 10E01(第1類)

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