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WONIK IPS CO.,LTD.商標一覧

2025年11月28日更新

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商標ランキング2025年 98位(4件)  前年 位(件)
総区分数4区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数1441商標あたりの平均数36
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位クア (出現率25%)
1位クラ (出現率25%)
1位ハイ (出現率25%)
1位ヒエ (出現率25%)
1位レバ (出現率25%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位クト (出現率25%)
1位クロ (出現率25%)
1位ハタ (出現率25%)
1位ヒタ (出現率25%)
1位レタ (出現率25%)

WONIK IPS CO.,LTD.2025年の商標登録

4件
直近の商標登録(2025年11月28日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6916743
登録日:2025年4月8日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2024年8月7日
商願2024085830
商標登録6916743
クラーロ
クラロ
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 プラズマを用いた重合薄膜形成装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜成長装置およびその部品 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の化学蒸着装置 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のスパッタリング装置 続く…
09A68(第7類) 09A99(第7類)
登録6916742
登録日:2025年4月8日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2024年8月7日
商願2024085828
商標登録6916742
レバータ
レバタ
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 プラズマを用いた重合薄膜形成装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜成長装置およびその部品 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の化学蒸着装置 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のスパッタリング装置 続く…
09A68(第7類) 09A99(第7類)
登録6916741
登録日:2025年4月8日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2024年8月7日
商願2024085826
商標登録6916741
クアルト
クアート
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 プラズマを用いた重合薄膜形成装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜成長装置およびその部品 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の化学蒸着装置 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のスパッタリング装置 続く…
09A68(第7類) 09A99(第7類)
登録6916740
登録日:2025年4月8日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2024年8月7日
商願2024085825
商標登録6916740
ハイエタ
ヒエタ
7類
半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 プラズマを用いた重合薄膜形成装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜成長装置およびその部品 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の化学蒸着装置 液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のスパッタリング装置 続く…
09A68(第7類) 09A99(第7類)

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