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HODOGAYA CHEMICAL CO.,LTD.商標一覧

2025年2月17日更新

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商標ランキング2024年 101位(4件)  前年 位(件)
総区分数6区分1商標あたりの平均区分数1.5区分
類似群コード最頻出区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ7類 & 1類 (出現率50%)
指定商品・指定役務総数1071商標あたりの平均数27
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位トプ (出現率50%)
1位トリ (出現率50%)
1位トー (出現率50%)
2位スタ (出現率25%)
2位テイ (出現率25%)
2位トラ (出現率25%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位トザ (出現率50%)
2位スト (出現率25%) 他

HODOGAYA CHEMICAL CO.,LTD.2024年の商標登録

4件
直近の商標登録(2025年2月17日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録6867276
登録日:2024年11月21日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2024年3月6日
商願2024022925
商標登録6867276
トップスタウト
トップ
テイオオピイ
スタウト
1類
アルミニウムの陽極酸化処理用剤 金属の陽極酸化処理用剤 金属めっき用化学品 化学品 工業用化学品 続く…
01A01(第1類)
登録6865050
登録日:2024年11月14日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2024年4月9日
商願2024037679
商標登録6865050
メタイオン
メタエオン
メタイイオン
1類
電解質の化学品及び電解質の化学物質 化学添加剤 電池用電解液用化学添加剤 電池添加剤 電解質(化学品) 続く…
01A01(第1類)
登録6832261
登録日:2024年8月8日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2023年11月14日
商願2023126545
商標登録6832261
トリザ
トーリーザ
トップリザ
トップライザ
1類
半導体の製造に使用される化学品 電子部品用表面処理剤 半導体製造用エッチング液 めっき剥離剤 フォトレジスト用剥離溶剤 続く…
7類
半導体製造用表面処理装置 半導体製造装置 半導体製造用機械 半導体製造用めっき装置 半導体ウエハ・集積回路の表面処理装置 続く…
01A01(第1類) 09A01(第7類) 09A06(第7類) 09A09(第7類) 09A11(第7類) 続く
登録6787498
登録日:2024年3月14日
商標ランキング 出願から9ヵ月
出願日:2023年6月30日
商願2023073212
商標登録6787498
トリーザ
トーリーザ
トライザ
トーライザ
1類
半導体の製造に使用される化学品 電子部品用表面処理剤 半導体製造用エッチング液 めっき剥離剤 フォトレジスト用剥離溶剤 続く…
7類
半導体製造用表面処理装置 半導体製造装置 半導体製造用機械 半導体製造用めっき装置 半導体ウエハ・集積回路の表面処理装置 続く…
01A01(第1類) 09A01(第7類) 09A06(第7類) 09A09(第7類) 09A11(第7類) 続く

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