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日産化学株式会社商標一覧

2024年11月22日更新

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商標ランキング2010年 104位(23件)  前年 位(件)
総区分数23区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出01A01 (出現率83%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ
指定商品・指定役務総数271商標あたりの平均数1
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位シリ (出現率13%)
1位ジル (出現率13%)
1位ナノ (出現率13%)
2位イイ (出現率9%)
2位エヌ (出現率9%)
2位フイ (出現率9%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位シス (出現率13%)
2位エル (出現率9%) 他

日産化学株式会社2010年の商標登録

23件
直近の商標登録(2024年11月22日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録5363940
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から4ヵ月
出願日:2010年6月7日
商願2010-44940
商標登録5363940
エスアイエッチエム
エスアイエイチエム
シム
1類
半導体の製造に使用される化学品
01A01(第1類)
登録5363939
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から4ヵ月
出願日:2010年6月7日
商願2010-44938
商標登録5363939
スレード
スレイド
1類
半導体の製造に使用される化学品
01A01(第1類)
登録5363938
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から4ヵ月
出願日:2010年6月7日
商願2010-44937
商標登録5363938
イイユウエックス
ユークス
1類
半導体の製造に使用される化学品
01A01(第1類)
登録5363937
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から4ヵ月
出願日:2010年6月7日
商願2010-44936
商標登録5363937
イイユウエル
エウル
1類
半導体の製造に使用される化学品
01A01(第1類)
登録5363936
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から4ヵ月
出願日:2010年6月7日
商願2010-44935
商標登録5363936
エヌイイエックスエル
ネックスエル
ネクセル
1類
半導体の製造に使用される化学品
01A01(第1類)
登録5363935
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2010年5月31日
商願2010-42876
商標登録5363935
ナノファイバーゲル
ナノファイバージェル
ナノファイバー
ナノ
1類
増粘剤
01A01(第1類)
登録5360553
登録日:2010年10月15日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2010年5月13日
商願2010-37395
商標登録5360553
ナロック
1類
非感光性永久保護膜形成用液状塗布剤(化学品に属するものに限る)
01A01(第1類)
登録5360552
登録日:2010年10月15日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2010年5月13日
商願2010-37394
商標登録5360552
アロック
1類
非感光性永久保護膜形成用液状塗布剤(化学品に属するものに限る)
01A01(第1類)
登録5360551
登録日:2010年10月15日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2010年5月13日
商願2010-37393
商標登録5360551
パオック
1類
感光性永久保護膜形成用液状塗布剤(化学品に属するものに限る)
01A01(第1類)
登録5351846
登録日:2010年9月10日
商標ランキング 出願から6ヵ月
出願日:2010年3月25日
商願2010-23058
商標登録5351846
エヌレア
エヌアアルイイエイ
1類
フォトレジスト用現像処理剤の解像度向上のために添加する化学剤
01A01(第1類)

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