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株式会社ブイ・テクノロジー商標一覧

2025年8月29日更新

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商標ランキング2010年 125位(2件)  前年 位(件)
総区分数3区分1商標あたりの平均区分数1.5区分
類似群コード最頻出09A68 (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ40類 & 7類 (出現率50%)
指定商品・指定役務総数241商標あたりの平均数12
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位イー (出現率50%)
1位エー (出現率50%)
1位ゲマ (出現率50%)
1位ゲン (出現率50%)
1位ジマ (出現率50%) 他
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位イス (出現率50%)
1位エス (出現率50%)
1位ゲマ (出現率50%)
1位ジマ (出現率50%)

株式会社ブイ・テクノロジー2010年の商標登録

2件
直近の商標登録(2025年8月29日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録5364042
登録日:2010年10月29日
商標ランキング 出願から6ヵ月
出願日:2010年4月27日
商願2010-33981
商標登録5364042
ジェンマ
ゲンマ
ジェマ
ゲマ
7類
半導体製造装置 半導体製造用レーザ加工装置 レーザ加工機 太陽電池製造装置 太陽電池製造用のレーザ加工装置
40類
レーザスクライビング加工
09A01(第7類) 09A68(第7類) 40C01(第40類)
登録5297425
登録日:2010年1月29日
商標ランキング 出願から12ヵ月
出願日:2009年1月28日
商願2009-5405
商標登録5297425
イージス
エージス
7類
半導体製造装置 半導体製造用露光装置 半導体製造用のレーザ加工装置 フラットパネルディスプレイ製造装置 フラットパネルディスプレイ製造用露光装置 続く…
09A68(第7類) 09A99(第7類)

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