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株式会社 M&M研究所商標一覧

2025年9月3日更新

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商標ランキング2013年 114位(2件)  前年 位(件)
総区分数4区分1商標あたりの平均区分数2区分
類似群コード最頻出09A01... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ40類 & 7類 (出現率100%)
指定商品・指定役務総数121商標あたりの平均数6
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エイ (出現率100%)
1位エチ (出現率100%)
2位コー (出現率50%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エイ (出現率100%)
2位エキ (出現率50%) 他

株式会社 M&M研究所2013年の商標登録

2件
直近の商標登録(2025年9月3日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録5586531
登録日:2013年5月31日
商標ランキング 出願から6ヵ月
出願日:2012年11月22日
商願2012-95169
商標登録5586531
エイチエルピイコーソクレーザメッキ
エッチエルピイコーソクレーザメッキ
エイチエルピイコーソク
エッチエルピイコーソク
エイチエルピイ
続く…
7類
金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき処理装置
40類
金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき加工
09A01(第7類) 09A06(第7類) 40C01(第40類) 40H99(第40類)
登録5578117
登録日:2013年4月26日
商標ランキング 出願から2ヵ月
出願日:2013年2月12日
商願2013-8711
商標登録5578117
エイチエルピイ
エッチエルピイ
7類
レーザめっき処理装置 半導体製造用のレーザめっき処理装置 金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき処理装置 半導体製造用の金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき処理装置
40類
レーザめっき加工 半導体用リードフレームのレーザめっき加工 プリント配線基板のレーザめっき加工 金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき加工 半導体用リードフレームの金属ナノ粒子ペーストを用いたレーザめっき加工 続く…
09A01(第7類) 09A06(第7類) 09A68(第7類) 40C01(第40類) 40H99(第40類)

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