特開2016-160120(P2016-160120A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2016-160120酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜
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  • 特開2016160120-酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜 図000005
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