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特開2016-172201薄膜の作製方法及び薄膜作製用基板
発明の名称 薄膜の作製方法及び薄膜作製用基板
出願人 三星ディスプレイ株式會社 （識別番号 512187343）
特許公開件数ランキング 108 位（74件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 208 位（36件）（共同出願を含む）
出願人 国立大学法人岩手大学 （識別番号 504165591）
特許公開件数ランキング 4146 位（2件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 3333 位（4件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2016-172201
公報発行日 2016年9月29
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-172201
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