特開2016-197719(P2016-197719A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2016-197719３Ｄ ＮＡＮＤメモリデバイスにおける垂直エッチング性能の改善のための、膜のプラズマ化学気相堆積
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