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特開2016-203426金属被膜付絶縁体、半導体装置、および金属被膜付絶縁体の製造方法
発明の名称 金属被膜付絶縁体、半導体装置、および金属被膜付絶縁体の製造方法
出願人 ナミックス株式会社 （識別番号 591252862）
特許公開件数ランキング 1128 位（20件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 729 位（28件）（共同出願を含む）
出願人 江東電気株式会社 （識別番号 168078）
特許公開件数ランキング 31340 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 9371 位（1件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2016-203426
公報発行日 2016年12月8
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-203426
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