特開2016-215394分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法

発明の名称　分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法

出願人　東京応化工業株式会社　（識別番号 220239）

　　　　特許公開件数ランキング 249 位（40件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 349 位（24件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2016-215394

公報発行日　2016年12月22

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-215394

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