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東京応化工業株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第216位 11件
（
2025年：第239位 141件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第260位 8件
（2025年：第361位 74件）
（ランキング更新日：2026年1月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7805108 | 洗浄組成物、塗布成膜装置の洗浄方法、リソグラフィー用基板の製造方法、及びレジストパターン形成方法 | 2026年 1月23日 | |
| 特許 7805195 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 | 2026年 1月23日 | |
| 特許 7801841 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2026年 1月19日 | |
| 特許 7799286 | 磁歪特性を有する組成物及びその硬化物 | 2026年 1月15日 | |
| 特許 7799390 | ポリイミド多孔質膜 | 2026年 1月15日 | |
| 特許 7798603 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤 | 2026年 1月14日 | |
| 特許 7799025 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 | 2026年 1月14日 | |
| 特許 7797319 | 組成物、及び感光性組成物 | 2026年 1月13日 |
8 件中 1-8 件を表示
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7805108 7805195 7801841 7799286 7799390 7798603 7799025 7797319
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