特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2025年出願公開件数ランキング　　　第248位　30件（2024年：第253位　138件）

　■　2025年特許取得件数ランキング　　　第313位　20件（2024年：第258位　123件）

（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7645697	光硬化性組成物及びパターン形成方法	2025年 3月14日
特許 7645806	ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法及びロール体	2025年 3月14日
特許 7644923	有機修飾金属酸化物ナノ粒子、有機修飾金属酸化物ナノ粒子含有溶液、有機修飾金属酸化物ナノ粒子含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2025年 3月13日
特許 7644658	エッチング処理に用いられる薬液	2025年 3月12日
特許 7637941	発電体	2025年 3月 3日
特許 7638072	表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法	2025年 3月 3日
特許 7635930	感エネルギー性組成物、硬化物、及びパターン化された硬化物の形成方法	2025年 2月26日
特許 7634931	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2025年 2月25日
特許 7633777	ネガ型感光性樹脂組成物及び硬化膜の製造方法	2025年 2月20日
特許 7633804	ワニス組成物、ポリイミド樹脂の製造方法、及び添加剤	2025年 2月20日
特許 7633933	絶縁膜形成用硬化性組成物、絶縁膜の形成方法、及び末端マレイミド変性ポリフェニレンエーテル樹脂	2025年 2月20日
特許 7627127	表面処理液、及び親水化処理方法	2025年 2月 5日
特許 7627132	化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法	2025年 2月 5日
特許 7627232	保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法	2025年 2月 5日
特許 7624839	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2025年 1月31日

21 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7645697 7645806 7644923 7644658 7637941 7638072 7635930 7634931 7633777 7633804 7633933 7627127 7627132 7627232 7624839

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数