発明の名称 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
出願人 株式会社ニューフレアテクノロジー (識別番号 504162958)
特許公開件数ランキング 389 位(16件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 641 位(7件)(共同出願を含む)
公報番号 特開-2016-219829
公報発行日 2016年12月22
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-219829
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