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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第570位 29件
（
2020年：第433位 79件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第545位 24件
（2020年：第402位 64件）
（ランキング更新日：2021年7月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6899705 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6893842 | パターン検査方法およびパターン検査装置 | 2021年 6月23日 | |
| 特許 6883478 | 半導体装置 | 2021年 6月 9日 | |
| 特許 6884059 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 6月 9日 | |
| 特許 6877239 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6878247 | パターン検査方法およびパターン検査装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6869695 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869815 | 検査方法および検査装置 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6866111 | 成膜装置および成膜方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6861508 | マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861543 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6863208 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6863259 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6854215 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6851178 | パターン検査方法及びパターン検査装置 | 2021年 3月31日 |
25 件中 1-15 件を表示
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6899705 6893842 6883478 6884059 6877239 6878247 6869695 6869815 6866111 6861508 6861543 6863208 6863259 6854215 6851178
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