【実施例】
【0058】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【0059】
<ガラス転移温度>
前記ガラス転移温度(Tg)は、TG−DSCシステムTAS−100(理学電機株式会社製)を用いて、以下の方法により測定した。
まず、試料約10mgをアルミニウム製の試料容器に入れ、試料容器をホルダーユニットに載せ、電気炉中にセットした。室温から昇温速度10℃/minで150℃まで加熱した後、150℃で10分間放置し、室温まで試料を冷却して10分間放置した。その後、窒素雰囲気下、150℃まで昇温速度10℃/minで加熱して示差走査熱量計(DSC)によりDSC曲線を計測した。得られたDSC曲線から、TG−DSCシステムTAS−100システム中の解析システムを用いて、ガラス転移温度(Tg)近傍の吸熱カーブの接線とベースラインとの接点からガラス転移温度(Tg)を算出した。
【0060】
<重量平均分子量及び分子量分布>
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)法により、数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)を測定した。
測定条件は、次のとおりである。
・装置:HLC−8220(東ソー株式会社製)
・カラム:Shodex asahipak GF−510 HQ + GF−310×2(昭和電工株式会社製)TSK G2000HXL及びG4000HXL(東ソー株式会社製)
・温度:40℃
・溶離液:20mM リチウムブロミド、20mMリン酸含有ジメチルホルムアミド溶液
・流速:0.5mL/分
・検出器:HLC−8200 内蔵RI−UV−8220 濃度0.5質量%の試料1mLを装置にセットし、上記の条件で測定したポリマーの分子量分布から単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用してポリマーの数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を算出した。分子量分布は、多分散度として、MwをMnで除した値で示した。
【0061】
<核磁気共鳴分光分析>
核磁気共鳴分光装置(日本電子株式会社製、JOEL−ECS−400K)を用いて、得られた各ポリマーについて、核磁気共鳴分光分析を行った。重合度:nについて、核磁気共鳴分光分析(=
1H−NMR)により各部位の水素数を測定して算出した。具体的には、開始剤由来の
1Hの積分値総和(水素の数)と、繰り返し単位由来の
1Hの積分値総和の比率から算出した。
【0062】
<赤外分光分析>
フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)(日本分光株式会社製、FT/IR 4200)を用いて、得られたポリマーを同定した。
【0063】
<可視分光エリプソメトリー>
分光エリプソメータ(株式会社堀場製作所製、1H3LNWWP)を用いて、得られたポリマーの屈折率を測定した。具体的には、ポリマーをPGMEに溶解させ、スピンコートによりシリコンウエハ上に薄膜を形成して、波長632.8nmの光源を用いて測定した。また、光源をそれぞれ、波長587.56nm、486.13nm、及び656.27nmのものに変更して測定した屈折率をそれぞれnd、nF、nCとし、ポリマーのアッベ数を下記数式(C)により算出した。
[数式(C)]
アッベ数=(nd−1)/(nF−nC)
【0064】
(実施例1)
下記反応式Dに示すように、下記構造式(7)で表される化合物21.0mgと、下記構造式(6)で表される化合物1,113mgと、臭化銅(I)0.017gとを重合管に秤取り、重合管を脱気処理して酸素を除去した。
次に、窒素雰囲気下でN,N,N’,N”,N”−ペンタメチルジエチレントリアミン0.025gとNMP 10mLを重合管に加え、0℃で15分間攪拌した。
次に、反応液を減圧濃縮したのちクロロホルムを1mL加えて希釈したものをジエチルエーテルで再沈殿処理し、ろ別した固形物を乾燥することで、下記構造式(9)で表される化合物を合成した。
【0065】
[反応式D]
【化23】
ただし、前記構造式(9)中mは、前記構造式(9)で表される化合物の数平均分子量が3,700となる整数であり、XはBrを表す。なお、前記数平均分子量はGPC測定結果から算出した値である。
【0066】
次に、下記反応式Eに示すように、下記構造式(9)で表される化合物1,120mgと、下記構造式(10)で表される化合物31.2mgと、をNMP 10mL中で混合し、30℃で3時間攪拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮した後、クロロホルムを1mL加えて希釈したものをジエチルエーテルで再沈殿処理し、ろ別した固形物を乾燥することで、下記構造式(5)で表される化合物を製造した。
【0067】
[反応式E]
【化24】
ただし、前記構造式(9)中mは、前記構造式(9)で表される化合物の数平均分子量が3,700となる整数であり、XはBrを表す。前記構造式(5)中mは、前記構造式(5)で表される化合物の数平均分子量が4,700となる整数であり、XはBrを表す。なお、前記数平均分子量はGPC測定結果から算出した値である。
【0068】
次に、下記反応式Cに示すように、下記構造式(5)で表される化合物1,000mgと、下記構造式(6)で表される化合物452.4mgと、アゾイソブチロニトリル30mgと、をDMF 5mLに溶解させ、凍結脱気した後、封管し、60℃で24時間攪拌した。攪拌後の重合管にクロロホルムを1mL加えて希釈したものをジエチルエーテルで再沈殿処理し、ろ別した固形物を乾燥することで、実施例1のグラフトポリマーを得た。
【0069】
[反応式C]
【化25】
ただし、前記構造式(5)中mは、前記構造式(5)で表される化合物の数平均分子量が4,700となる整数であり、XはBrを表す。なお、前記数平均分子量はGPC測定結果から算出した値である。
【0070】
得られたポリマーの温度応答性評価については、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高く良好な温度応答性を示した。
また、フィルムの温度応答性評価としてはアッベ屈折率計にて屈折率の温度変化を評価したところ、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低く、良好な温度応答性を示した。
【0071】
(実施例2)
実施例1において、前記反応式Cのグラフトポリマーの製造で、前記構造式(6)で表される化合物452.4gを、下記構造式(8)で表される化合物520.3mgに変えた以外は、実施例1と同様にして、実施例2のポリマーを得た。
【0072】
[構造式(8)]
【化26】
【0073】
得られたポリマーの温度応答性評価については、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高く良好な温度応答性を示した。
また、フィルムの温度応答性評価としてはアッベ屈折率計にて屈折率の温度変化を評価したところ、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低く、良好な温度応答性を示した。
【0074】
(実施例3)
実施例1において、前記反応式Dの前記構造式(9)で表される化合物の製造で、前記構造式(6)で表される化合物1,113mgを、111.3mgに変えた以外は、実施例1と同様にして、実施例3のポリマーを得た。
【0075】
得られたポリマーの温度応答性評価については、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高く良好な温度応答性を示した。
また、フィルムの温度応答性評価としてはアッベ屈折率計にて屈折率の温度変化を評価したところ、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低く、良好な温度応答性を示した。
【0076】
(実施例4)
実施例1において、前記反応式Dにて構造式(7)で表される化合物21.0mgの変わりに下記構造式(11)で表される化合物25.4mgを用い、前記反応式Cにて構造式(6)で表される化合物452.4mgの変わりに下記構造式(14)で表される化合物1,816.3mgを用いた以外は、下記反応式D〜Fに基づき、実施例1と同様にして、実施例4のグラフトポリマーを得た。
【0077】
得られたポリマーの温度応答性評価については、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高く良好な温度応答性を示した。
また、フィルムの温度応答性評価としてはアッベ屈折率計にて屈折率の温度変化を評価したところ、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低く、良好な温度応答性を示した。
【0078】
【化27】
ただし、前記構造式(12)中mは、前記構造式(12)で表される化合物の数平均分子量が4,100となる整数であり、XはBrを表す。前記構造式(13)中mは、前記構造式(13)で表される化合物の数平均分子量が4,900となる整数であり、XはBrを表す。なお、前記数平均分子量はGPC測定結果から算出した値である。
【0079】
(実施例5)
実施例4において、上記反応式Dにて構造式(6)で表される化合物1,113.0mgを113.1mgに変えた以外は、実施例4と同様にして、実施例5のグラフトポリマーを得た。
【0080】
得られたポリマーの温度応答性評価については、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高く良好な温度応答性を示した。
また、フィルムの温度応答性評価としてはアッベ屈折率計にて屈折率の温度変化を評価したところ、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低く、良好な温度応答性を示した。
【0081】
(比較例1)
実施例1において、前記反応式Cのグラフトポリマーの製造で、前記構造式(6)で表される化合物452.4mgを、下記構造式(A)で表される化合物を4,804mgに変えた以外は、実施例1と同様にして、比較例1のポリマーを得た。
【0082】
得られたポリマーの温度応答性を評価したところ、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高いが、実施例のポリマーより低い値であった。
また、フィルムの温度応答性は、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低いが、5℃における屈折率と40℃における屈折率の差は実施例のポリマーより小さい値であった。
【0083】
[構造式(A)]
【化28】
【0084】
(比較例2)
カリックス[4]レゾルシンアレーンをテトラヒドロフランに溶解し、トリエチルアミンを加えた。
次いで、系内を10℃未満に冷却し温度を維持したまま、2−ブロモイソブチリルブロマイドを滴下して30分間程度攪拌した後、40℃で12時間攪拌した。反応液から析出物をろ過して取り除いた。ろ液をクロロホルムで希釈して有機層とし、これを炭酸水素ナトリウム水溶液で2回程度、塩化水素水溶液にて1回、純水にて3回洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。固形物をろ別後、減圧濃縮し、メタノールに滴下して白色固体を得、これをろ別して開始剤を得た。
【0085】
開始点濃度を10×10
−3mol/Lとなるように、市販のN−イソプロピルアクリルアミドと、下記構造式で表される開始剤と、臭化銅(I)を重合管に量り取った後、脱気処理を行って酸素を除去し、窒素雰囲気下でN,N,N’,N”,N”−ペンタメチルジエチレントリアミンを加えた後に封管し、70℃に加熱して0.5時間重合した。重合反応物にクロロホルムを1mL加えて希釈したものをジエチルエーテルに再沈殿処理し、固形物をろ別乾燥して、下記一般式(A)で表されるポリマーを得た。
【0086】
得られたポリマーの温度応答性を評価したところ、水溶液の温度応答性は市販の直鎖型PNIPAMよりも低い温度で吸光度が上昇しはじめ、また、測定温度範囲における最大の吸光度は、直鎖型PNIPAMよりも高いが、本発明のポリマーより低い値であった。
また、フィルムの温度応答性は、測定温度範囲において上に凸の放物線を描き、最大の屈折率を示す温度は、直鎖型PNIPAMよりも20℃以上低いが、5℃における屈折率と40℃における屈折率の差は実施例のポリマーより小さい値であった。
【0087】
[開始剤]
【化29】
【0088】
[一般式(A)]
【化30】
ただし、nは自然数であり、重合度を表す。
【0089】
<温度応答速度の評価>
温度応答速度の評価は、紫外可視分光光度計(日本分光株式会社製、V−660DS)を用いて評価した。得られたポリマー2.0mgを蒸留水20mLに溶解させ、40℃に加温し、400nmにおける吸光度を1秒間ごとに測定した。測定開始から測定値の変化が5%以内になった時点の測定時間を飽和時間とし、下記基準からの評価点を求めた。
[評価点]
0点:飽和時間が10秒間以上
1点:飽和時間が8秒間以上10秒間未満
3点:飽和時間が7秒間
5点:飽和時間が6秒間
7点:飽和時間が5秒間
8点:飽和時間が4秒間
9点:飽和時間が3秒間
10点:飽和時間が2秒間
【0090】
<機械特性及び加工性の評価>
衝撃試験により、機械特性及び加工性を評価した。
衝撃試験としては、得られたポリマー200mgを、直径20mmの円盤状に圧縮成形したのち、30cmの高さからガラスプレート上へ自由落下させた。着地したポリマー成形物のうち、最も大きさの大きいものの重量を測定し、下記の数式(D)に従って重量変化率を測定した。
[数式(D)]
重量変化率(%)=[(落下前重量(g)−最も大きさの大きいものの重量(g))/落下前重量(g)]×100
[評価基準]
0点:所定の円盤状に圧縮成形できない
1点:重量変化率が80%以上
2点:重量変化率が75%以上80%未満
3点:重量変化率が65%以上75%未満
4点:重量変化率が65%未満
【0091】
<加工性の評価>
得られたポリマーの加工性は、以下の手法にて測定し、評価した。
得られたポリマーを熱溶融成形して、幅100mm×厚み5mm×長さ100mmのシートを作製し、このシートの上に、
図1A〜
図1Bに示すように、外径26mm×内径10.5mm×厚み2.3mmの平板ワッシャーを9個重ならないように並べて加工点とし、試験試料とした。なお、
図1Aは、ポリマーを熱溶融成形したシート上に平板ワッシャーを9個重ならないように並べた一例を示す模式図である。
図1Bは、
図1Aの側面図である。
試験試料を下記表1のそれぞれのプレス条件において、以下の装置を用いてプレスした後、室温(25℃)まで放冷後に平板ワッシャーを取り外し、
図1C〜
図1Dに示すように、d1及びd2を測定し、加工深度を以下式にてそれぞれ算出した。なお、厚みは打点式厚み計(装置名:定圧厚さ測定器PG−02J、テクロック社製)を用いて測定した。
図1Cは、
図1Aの平板ワッシャーの拡大図である。
図1Dは、
図1CのA−A’端面図である。
また、加工深度は各加工点で1点ずつ算出し、平均値をその試験試料の平均加工深度とした。
なお、加工性の評価は、プレス条件に因らず、前記平均加工深度が100に近い値を採用し、さらに、プレスにより試験試料が破損して測定不能となった加工点が発生した場合は減点処理とし、下記評価基準に基づいて、「加工性」を評価した。
[評価基準]
−平均加工深度−
平均加工深度が90%以上100%以下:20点
平均加工深度が80%以上90%未満 :18点
平均加工深度が70%以上80%未満 :16点
平均加工深度が60%以上70%未満 :14点
平均加工深度が50%以上60%未満 :12点
平均加工深度が50%未満 :0点
【0092】
−破損数−
破損して測定不能となった加工点が1点の場合:−1点
破損して測定不能となった加工点が2点の場合:−2点
破損して測定不能となった加工点が3点の場合:−3点
破損して測定不能となった加工点が4点の場合:−5点
破損して測定不能となった加工点が5点の場合:−7点
破損して測定不能となった加工点が6点の場合:−9点
なお、破損して測定不能となった加工点が7点以上ある場合は、平均加工深度に因らず、0点とした。
【0093】
−プレス装置−
装置:アズワン社製 小型熱プレス機 AH−10TD
温度:50℃、100℃、150℃
圧力:0.1t、0.5t、1.0t
時間:5分間
加工深度:(d1−d2)/2.3×100
【0094】
【表1】
【0095】
<総合評価>
総合評価は、各評価点を合計し、いずれかに0点がある場合をE、合計点が20点以下をD、20点超25点以下をC、25点超30点以下をB、30点超をAとした。
【0096】
【表2】
【0097】
【表3】
【0098】
表2及び表3の結果から、実施例1〜5で得られたポリマーは、いずれも低いガラス転移点を示しており、加工性が良好であり、機械的強度に優れ、かつ温度応答性に優れていた。
また、比較例1〜2の総合評価がいずれもD以下であるのに対して、実施例1〜5では総合評価がいずれもB以上となった。
このように、実施例1〜5のポリマーは、グラフト化された特殊な分岐構造による強固な分子間及び分子内相互作用と、低いガラス転移点と、刺激応答性部位を同時に有しており、優れた温度応答性、機械特性及び加工性を両立している。そのため、光スイッチング素子等の光学材料に適用することができる。
また、実施例1〜5で得られたポリマーは、いずれも高い屈折率とアッベ数を示しており、光学材料の用途に適している。
【0099】
本発明の態様は、例えば、以下のとおりである。
<1> 下記一般式(1)で表される化合物と、下記一般式(2)で表される化合物及び下記一般式(3)で表される化合物の少なくともいずれかと、が共重合した構造を有することを特徴とするポリマーである。
[一般式(1)]
【化31】
ただし、前記一般式(1)中、R
1、R
2、及びR
3は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。Xは、水素原子及びハロゲン原子のいずれかを表す。R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。nは、1〜10の整数である。mは、1〜100の整数である。
[一般式(2)]
【化32】
ただし、前記一般式(2)中、R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。
[一般式(3)]
【化33】
ただし、前記一般式(3)中、R
6は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。R
7は、水素原子、炭素数1〜2のアルキル基、メトキシポリエチレングリコール、フェノキシポリエチレングリコール、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、及び4−ヒドロキシブチルのいずれかの基を表す。
<2> 重量平均分子量が30,000以上1,000,000以下である前記<1>に記載のポリマーである。
<3> 重量平均分子量が50,000以上300,000以下である前記<2>に記載のポリマーである。
<4> 前記一般式(1)中のXが、臭素原子である前記<1>から<3>のいずれかに記載のポリマーである。
<5> 前記<1>から<4>のいずれかに記載のポリマーを含むことを特徴とする光学材料である。
<6> 前記<1>から<4>のいずれかに記載のポリマーを含むことを特徴とする調光材料である。
<7> 前記<1>から<4>のいずれかに記載のポリマーを含むことを特徴とする光スイッチング材料である。
<8> 下記一般式(1)で表される化合物と、下記一般式(2)で表される化合物及び下記一般式(3)で表される化合物の少なくともいずれかと、を共重合することを特徴とするポリマーの製造方法である。
[一般式(1)]
【化34】
ただし、前記一般式(1)中、R
1、R
2、及びR
3は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。Xは、水素原子及びハロゲン原子のいずれかを表す。R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。nは、1〜10の整数である。mは、1〜100の整数である。
[一般式(2)]
【化35】
ただし、前記一般式(2)中、R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。
[一般式(3)]
【化36】
ただし、前記一般式(3)中、R
6は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。R
7は、水素原子、炭素数1〜2のアルキル基、メトキシポリエチレングリコール、フェノキシポリエチレングリコール、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、及び4−ヒドロキシブチルのいずれかの基を表す。
<9> 前記一般式(1)中のXが、臭素原子である前記<8>に記載のポリマーの製造方法である。
<10> 前記一般式(1)で表される化合物と、前記一般式(2)で表される化合物及び前記一般式(3)で表される化合物の少なくともいずれかとの共重合が、ラジカル開始剤の存在下で行われる前記<8>から<9>のいずれかに記載のポリマーの製造方法である。
<11> 下記一般式(1)で表されることを特徴とする一般式(1)のポリマーである。
[一般式(1)]
【化37】
ただし、前記一般式(1)中、R
1、R
2、及びR
3は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。Xは、水素原子及びハロゲン原子のいずれかを表す。R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。nは、1〜10の整数である。mは、1〜100の整数である。
<12> 重量平均分子量が10,000以上300,000以下である前記<11>に記載の一般式(1)のポリマーである。
<13> 前記一般式(1)中のXが、臭素原子である前記<11>から<12>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマーである。
<14> 下記一般式(4)で表される化合物と下記一般式(2)で表される化合物から導かれる下記一般式(5)で表される化合物と、下記一般式(6)で表される化合物とを共重合させることを特徴とする一般式(1)のポリマーの製造方法である。
[一般式(4)]
【化38】
[一般式(5)]
【化39】
[一般式(6)]
【化40】
[一般式(2)]
【化41】
ただし、前記一般式(2)中、R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。
[一般式(1)]
【化42】
ただし、前記一般式(1)、(2)、(4)、(5)、及び(6)中、R
1、R
2、及びR
3は、水素原子及び炭素数1〜2のアルキル基のいずれかを表す。Xは、水素原子及びハロゲン原子のいずれかを表す。R
4、及びR
5は、炭素数1〜2のアルキル基を表す。nは、1〜10の整数である。mは、1〜100の整数である。
<15> 前記一般式(1)中のXが、臭素原子である前記<14>に記載の一般式(1)のポリマーの製造方法である。
<16> 前記<11>から<13>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマーを含むことを特徴とする光学材料である。
<17> 前記<11>から<13>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマーを含むことを特徴とする調光材料である。
<18> 前記<11>から<13>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマーを含むことを特徴とする光スイッチング材料である。
【0100】
前記<1>から<4>のいずれかに記載のポリマー、前記<5>に記載の光学材料、前記<6>に記載の調光材料、前記<7>に記載の光スイッチング材料、前記<8>から<10>のいずれかに記載のポリマーの製造方法、前記<11>から<13>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマー、前記<14>から<15>のいずれかに記載の一般式(1)のポリマーの製造方法、前記<16>に記載の光学材料、前記<17>に記載の調光材料、及び前記<18>に記載の光スイッチング材料によると、従来における前記諸問題を解決し、前記本発明の目的を達成することができる。