特開2019-141331粒子線照射システムおよび照射計画装置

発明の名称　粒子線照射システムおよび照射計画装置

出願人　株式会社日立製作所　（識別番号 5108）

　　　　特許公開件数ランキング 13 位（1147件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 15 位（923件）（共同出願を含む）

出願人　国立大学法人北海道大学　（識別番号 504173471）

　　　　特許公開件数ランキング 579 位（126件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 463 位（105件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2019-141331

公報発行日　2019年8月29

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2019-141331

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