特開2019-220543(P2019-220543A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ 日立金属株式会社の特許一覧

特開2019-220543酸化物半導体層、酸化物半導体層形成用スパッタリングターゲット、および薄膜トランジスタ