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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】特開2019-220676(P2019-220676A)
(43)【公開日】2019年12月26日
(54)【発明の名称】配線固定構造及び処理装置
(51)【国際特許分類】
   H05K 7/00 20060101AFI20191129BHJP
   H01L 21/3065 20060101ALI20191129BHJP
   H05H 1/46 20060101ALN20191129BHJP
【FI】
   H05K7/00 P
   H01L21/302 101C
   H05H1/46 L
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】OL
【全頁数】11
(21)【出願番号】特願2019-30943(P2019-30943)
(22)【出願日】2019年2月22日
(31)【優先権主張番号】特願2018-116223(P2018-116223)
(32)【優先日】2018年6月19日
(33)【優先権主張国】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100107766
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠重
(74)【代理人】
【識別番号】100070150
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠彦
(72)【発明者】
【氏名】阿部 純一
(72)【発明者】
【氏名】中尾 博人
【テーマコード(参考)】
2G084
4E352
5F004
【Fターム(参考)】
2G084BB07
2G084CC13
2G084CC33
2G084DD03
2G084DD13
2G084DD25
2G084DD32
2G084DD38
2G084DD55
2G084DD62
2G084DD63
2G084DD64
2G084FF04
2G084FF15
2G084FF38
4E352AA09
4E352BB02
4E352BB07
4E352CC33
4E352DD02
4E352DD16
4E352DR02
4E352DR12
4E352DR34
5F004BA20
5F004BB13
5F004BC08
5F004CA06
(57)【要約】
【課題】金属部材若しくは誘電体部材の上に配線を狭ピッチで配置して固定することができる技術を提供する。
【解決手段】本開示の一態様による配線固定構造は、金属面を有する金属部材と、板厚方向に貫通する貫通孔を有する導体板を、所定間隔をあけて互いに平行に複数配置した配線と、前記貫通孔に嵌合可能な凸部が形成された複数の第1の保持部と、前記複数の第1の保持部を前記所定間隔で接続する第1の接続部と、前記第1の接続部から前記第1の保持部と平行に延びて形成され、前記金属面に固定される脚部と、を有する第1の絶縁部材と、前記複数の第1の保持部の各々と協働して前記導体板を挟持して保持する複数の第2の保持部と、前記複数の第2の保持部を前記所定間隔で接続する第2の接続部と、を有する第2の絶縁部材と、を備え、前記配線は、前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材によって、前記金属面から離間して保持される。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
金属面を有する金属部材と、
板厚方向に貫通する貫通孔を有する導体板を、所定間隔をあけて互いに平行に複数配置した配線と、
前記貫通孔に嵌合可能な凸部が形成された複数の第1の保持部と、前記複数の第1の保持部を前記所定間隔で接続する第1の接続部と、前記第1の接続部から前記第1の保持部と平行に延びて形成され、前記金属面に固定される脚部と、を有する第1の絶縁部材と、
前記複数の第1の保持部の各々と協働して前記導体板を挟持して保持する複数の第2の保持部と、前記複数の第2の保持部を前記所定間隔で接続する第2の接続部と、を有する第2の絶縁部材と、
を備え、
前記配線は、前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材によって、前記金属面から離間して保持される、
配線固定構造。
【請求項2】
前記第1の接続部は、板状に形成され、板厚方向に貫通する複数の開口を有し、
前記複数の開口の各々に前記複数の第2の保持部の各々が挿通されることにより、前記導体板が挟持される、
請求項1に記載の配線固定構造。
【請求項3】
前記導体板の主面は、前記金属面と直交する、
請求項1又は2に記載の配線固定構造。
【請求項4】
前記凸部の高さは、前記導体板の厚さ以上である、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線固定構造。
【請求項5】
前記第2の保持部には、前記凸部と接触する位置に凹部が形成されている、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線固定構造。
【請求項6】
前記第2の接続部は、隣接する前記第2の保持部の一方との接続部から他方との接続部に向かって断面凸状に屈曲する屈曲部を有する、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線固定構造。
【請求項7】
前記第2の絶縁部材は、弾性部材により形成されている、
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の配線固定構造。
【請求項8】
前記弾性部材は、ポリエーテルイミドである、
請求項7に記載の配線固定構造。
【請求項9】
前記金属部材は、基板を収容して処理を施す処理容器の天井壁を形成する、
請求項1乃至8のいずれか一項に記載の配線固定構造。
【請求項10】
固定面を有する窓部材を含む処理容器と、
板厚方向に貫通する貫通孔を有する導体板を、所定間隔をあけて互いに平行に複数配置した配線と、
前記貫通孔に嵌合可能な凸部が形成された複数の第1の保持部と、前記複数の第1の保持部を前記所定間隔で接続する第1の接続部と、前記第1の接続部から前記第1の保持部と平行に延びて形成され、前記固定面に固定される脚部と、を有する第1の絶縁部材と、
前記複数の第1の保持部の各々と協働して前記導体板を挟持して保持する複数の第2の保持部と、前記複数の第2の保持部を前記所定間隔で接続する第2の接続部と、を有する第2の絶縁部材と、
を備え、
前記配線は、前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材によって、前記固定面から離間して保持される、
処理装置。
【請求項11】
前記窓部材は、金属窓である、請求項10に記載の処理装置。
【請求項12】
前記窓部材は、誘電体窓である、請求項10に記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、配線固定構造及び処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、金属部材の上に絶縁部材を介して配線が存在する構造が知られている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2011−029584号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、金属部材若しくは誘電体部材の上に配線を狭ピッチで配置して固定することができる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様による配線固定構造は、金属面を有する金属部材と、板厚方向に貫通する貫通孔を有する導体板を、所定間隔をあけて互いに平行に複数配置した配線と、前記貫通孔に嵌合可能な凸部が形成された複数の第1の保持部と、前記複数の第1の保持部を前記所定間隔で接続する第1の接続部と、前記第1の接続部から前記第1の保持部と平行に延びて形成され、前記金属面に固定される脚部と、を有する第1の絶縁部材と、前記複数の第1の保持部の各々と協働して前記導体板を挟持して保持する複数の第2の保持部と、前記複数の第2の保持部を前記所定間隔で接続する第2の接続部と、を有する第2の絶縁部材と、を備え、前記配線は、前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材によって、前記金属面から離間して保持される。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、金属部材若しくは誘電体部材の上に配線を狭ピッチで配置して固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1】配線固定構造の構成例を示す斜視図
図2図1の配線固定構造の分解斜視図
図3図1のA−A線断面図
図4】配線固定構造の別の構成例を示す斜視図
図5図4の配線固定構造の分解斜視図
図6図4のB−B線断面図
図7】配線固定構造を備える処理装置の構成例を示す断面図
図8図7の処理装置の高周波アンテナの構成例を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、添付の図面を参照しながら、本開示の限定的でない例示の実施形態について説明する。添付の全図面中、同一又は対応する部材又は部品については、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。
【0009】
〔配線固定構造〕
本開示の実施形態に係る配線固定構造の一例について説明する。図1は、配線固定構造の構成例を示す斜視図である。図2は、図1の配線固定構造の分解斜視図である。図3は、図1のA−A線断面図である。
【0010】
図1から図3に示されるように、配線固定構造100は、金属部材1と、配線2と、第1の絶縁部材3と、第2の絶縁部材4と、を備える。第1の絶縁部材3及び第2の絶縁部材4は、協働して配線2を保持する配線保持具として機能する。
【0011】
金属部材1は、配線固定構造100を固定する固定面である金属面11を有する。金属部材1は、例えばアルミニウム、アルミニウムを含む合金であってよい。
【0012】
配線2は、所定間隔(例えば10〜15mm)をあけて互いに平行に配置された複数(例えば9つ)の導体板21により形成されている。配線2は、第1の絶縁部材3及び第2の絶縁部材4によって、金属面11から離間して保持される。各導体板21の主面は、例えば金属面11と直交する。各導体板21は、板厚方向に貫通する一又は複数の貫通孔22を有する。図示の例では、各導体板21に2つの貫通孔22が導体板21の長手方向に沿って形成されている。導体板21は、例えば銅によって形成されている。
【0013】
第1の絶縁部材3は、例えばポリエーテルイミド等の弾性部材により形成されている。第1の絶縁部材3は、複数の第1の保持部31と、第1の接続部32と、脚部33と、を有する。
【0014】
第1の保持部31は、略矩形状の板状に形成された部位である。第1の保持部31の一方の面には、貫通孔22に嵌合可能な凸部34が形成されている。凸部34の高さは、例えば導体板21の厚さ以上であることが好ましい。
【0015】
第1の接続部32は、複数の第1の保持部31を所定間隔で接続する部位である。所定間隔は、配線2を構成する複数の導体板21の配列間隔と同一又は略同一の間隔である。第1の接続部32は、例えば複数の第1の保持部31が配列されている方向を長手方向とする板状に形成されている。第1の接続部32には、その長手方向に沿って所定間隔をあけて板厚方向に貫通する複数の開口35が形成されている。所定間隔は、配線2を構成する複数の導体板21の配列間隔と同一又は略同一の間隔である。複数の開口35は、後述する第2の絶縁部材4の複数の第2の保持部41が挿通可能な大きさに形成されている。第1の接続部32には、その長手方向の両端にボルト等の第1の締結部材5が挿通可能な挿通孔36が形成されている。
【0016】
脚部33は、金属面11に固定される部位である。脚部33は、第1の接続部32の長手方向の両端における下面から第1の保持部31と平行に下方に延びて形成されている。脚部33には、ボルト等の第2の締結部材6が挿通可能な挿通孔37が形成されている。金属面11に第2の締結部材6により脚部33が固定されることで、導体板21は金属面11から離間して保持される。
【0017】
第2の絶縁部材4は、例えばポリエーテルイミド等の弾性部材により形成されている。第2の絶縁部材4は、複数の第2の保持部41と、第2の接続部42と、を有する。
【0018】
第2の保持部41は、複数の第1の保持部31の各々と協働して複数の導体板21を挟持して保持する部位である。一実施形態では、第2の保持部41は、第1の接続部32に形成された開口35に挿通されることにより、第1の保持部31との間に導体板21を挟持して保持する。第2の保持部41の一方の面には、凸部34の先端と接触する位置に凹部43が形成されている。凹部43の深さは、導体板21の厚さ及び凸部34の高さに応じて定められ、例えば凸部34を導体板21の貫通孔22に挿通したときに貫通孔22から突出する部分の高さと同一又は略同一の深さとすることができる。
【0019】
第2の接続部42は、複数の第2の保持部41を所定間隔で接続する。所定間隔は、配線2を構成する複数の導体板21の配列間隔と同一又は略同一の間隔である。第2の接続部42は、隣接する第2の保持部41の一方との接続部から他方との接続部に向かって断面凸状に屈曲する屈曲部44を有する。これにより、第2の保持部41を開口35に挿通させる際、第2の保持部41が第2の接続部42の長手方向に弾性変形して撓むため、第1の絶縁部材3及び第2の絶縁部材4に製作公差があっても、開口35への挿通を容易に行うことができる。
【0020】
以上に説明した配線固定構造100によれば、第1の絶縁部材3(第1の保持部31)と第2の絶縁部材4(第2の保持部41)との間に導体板21を挟み込むことにより、複数の導体板21を所定間隔で保持する。これにより、金属部材1の上に配線2を狭ピッチで配置して固定することができる。また、一対の絶縁部材による挟み込み構造であることから、組立が容易であり、組立に要する工数を削減することができる。
【0021】
また、配線固定構造100によれば、配線2を構成する導体板21は板厚方向に貫通する貫通孔22を有し、第1の絶縁部材3は貫通孔22に嵌合可能な凸部34を有する。これにより、導体板21を固定する際、貫通孔22に凸部34が嵌合するので、導体板21がずれることを抑制することができる。
【0022】
また、配線固定構造100によれば、凸部34の高さは、導体板21の厚さ以上である。これにより、第1の絶縁部材3と第2の絶縁部材4とにより導体板21を挟持して保持したときに導体板21がずれることを特に抑制することができる。
【0023】
また、配線固定構造100によれば、第2の絶縁部材4は、弾性部材により形成されており、第2の接続部42は、隣接する第2の保持部41の一方との接続部から他方との接続部に向かって断面凸状に屈曲する屈曲部44を有する。これにより、第2の保持部41を開口35に挿通させる際、第2の保持部41が第2の接続部42の長手方向に弾性変形して撓むため、第1の絶縁部材3及び第2の絶縁部材4に製作公差があっても、開口35への挿通を容易に行うことができる。
【0024】
本開示の実施形態に係る配線固定構造の別の例について説明する。図4は、配線固定構造の別の構成例を示す斜視図である。図5は、図4の配線固定構造の分解斜視図である。図6は、図4のB−B線断面図である。
【0025】
図4から図6に示されるように、配線固定構造100Aは、板状に形成された第2の接続部42Aを有する第2の絶縁部材4Aを備える。言い換えると、配線固定構造100Aが備える第2の接続部42Aは屈曲部44を有していない。なお、その他の点については、配線固定構造100と同様である。
【0026】
配線固定構造100Aによれば、第1の絶縁部材3(第1の保持部31)と第2の絶縁部材4A(第2の保持部41)との間に導体板21を挟み込むことにより、複数の導体板21を所定間隔で保持する。これにより、金属部材1の上に配線2を狭ピッチで配置して固定することができる。また、一対の絶縁部材による挟み込み構造であることから、組立が容易であり、組立に要する工数を削減することができる。
【0027】
また、配線固定構造100Aによれば、配線2を構成する導体板21は板厚方向に貫通する貫通孔22を有し、第1の絶縁部材3は貫通孔22に嵌合可能な凸部34を有する。これにより、導体板21を固定する際、貫通孔22に凸部34が嵌合するので、導体板21がずれることを抑制することができる。
【0028】
また、配線固定構造100Aによれば、凸部34の高さは、導体板21の厚さ以上である。これにより、第1の絶縁部材3と第2の絶縁部材4Aとにより導体板21を挟持して保持したときに導体板21がずれることを特に抑制することができる。
【0029】
〔処理装置〕
本開示の実施形態に係る配線固定構造100,100Aを適用可能な処理装置の一例について説明する。図7は、配線固定構造を備える処理装置の構成例を示す断面図である。図8は、図7の処理装置の高周波アンテナの構成例を示す平面図である。
【0030】
図7に示される処理装置200は、例えば液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等のFPD(Flat Panel Display)用のガラス基板(以下「基板S」という。)に対してプラズマ処理を行うための真空処理装置である。
【0031】
処理装置200は、導電性材料により形成された角筒形状の気密な処理容器201を有する。処理容器201は、接地されている。処理容器201は、処理容器201と絶縁されて形成された窓部材である金属窓202により上下にアンテナ室203及び処理室204に区画されている。金属窓202は、一実施形態では処理室204の天井壁を構成する。金属窓202は、支持棚205及び支持梁211の上に絶縁物216を介して載置される。金属窓202は、例えば非磁性体で導電性の金属で構成される。非磁性体で導電性の金属としては、例えばアルミニウム、アルミニウムを含む合金が挙げられる。絶縁物216は、例えばセラミック、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であってよい。
【0032】
アンテナ室203の側壁203aと処理室204の側壁204aとの間には、処理容器201の内側に突出する支持棚205、及び処理ガス供給用のシャワー筐体を兼ねる十字形状の支持梁211が設けられている。支持梁211がシャワー筐体を兼ねる場合には、支持梁211の内部に、基板Sの表面に対して平行に伸びるガス流路212が形成され、ガス流路212には、処理室204内にガスを噴出する複数のガス吐出孔212aが連通される。また、支持梁211の上部には、ガス流路212に連通するようにガス供給管220aが設けられる。ガス供給管220aは、処理容器201の天井からその外側へ貫通し、処理ガス供給源及びバルブシステム等を含む処理ガス供給系220に接続されている。したがって、プラズマ処理においては、処理ガス供給系220から供給された処理ガスがガス供給管220aを介して支持梁211内に供給され、ガス吐出孔212aから処理室204内へ吐出される。支持棚205及び支持梁211は導電性材料、好ましくはアルミニウム等の金属で構成される。
【0033】
アンテナ室203内には金属窓202の上には、金属窓202に面するように高周波アンテナ213が配設されている。高周波アンテナ213は、金属窓202から離間している。プラズマ処理中、第1の高周波電源215から、誘導電界形成用の、例えば周波数が13.56MHzの高周波電力が整合器214を介して高周波アンテナ213へ供給される。
【0034】
高周波アンテナ213は、図8に示されるように、2つの渦巻状アンテナ213a,213bを有する。各渦巻状アンテナ213a,213bには、第1の高周波電源215からの高周波電力が整合器214を介して供給される。各渦巻状アンテナ213a,213bの終端にはコンデンサ218が接続され、各渦巻状アンテナ213a,213bはコンデンサ218を介して接地されている。このように高周波電力が供給された高周波アンテナ213により、処理室204内に誘導電界が形成され、誘導電界により複数のガス吐出孔212aから供給された処理ガスがプラズマ化される。高周波アンテナ213を構成する渦巻状アンテナ213a,213bを金属窓202から離間させて保持する際、前述した配線固定構造100,100Aを用いることができる。
【0035】
処理室204内の下方には、金属窓202を挟んで高周波アンテナ213と対向するように、基板Sを載置するための載置台223が設けられている。載置台223は、導電性材料、例えば表面が陽極酸化処理されたアルミニウムで構成されている。載置台223に載置された基板Sは、静電チャック(図示せず)により吸着保持される。
【0036】
載置台223は絶縁体枠224内に収納され、中空の支柱225に支持される。支柱225は処理容器201の底部を、気密状態を維持しつつ貫通し、処理容器201外に配設された昇降機構(図示せず)に支持され、基板Sの搬入出の際に昇降機構により載置台223が上下方向に駆動される。載置台223を収納する絶縁体枠224と処理容器201の底部との間には、支柱225を気密に包囲するベローズ226が配設されている。これにより、載置台223の上下動によっても処理室204内の気密性が保証される。処理室204の側壁204aには、基板Sを搬入出するための搬入出口227a及び搬入出口227aを開閉するゲートバルブ227が設けられている。
【0037】
載置台223には、中空の支柱225内に設けられた給電線225aにより、整合器228を介して第2の高周波電源229が接続されている。第2の高周波電源229は、プラズマ処理中に、バイアス用の高周波電力、例えば、周波数が3.2MHzの高周波電力を載置台223に印加する。バイアス用の高周波電力により、処理室204内に生成されたプラズマ中のイオンが効果的に基板Sに引き込まれる。
【0038】
載置台223内には、基板Sの温度を制御するため、セラミックヒータ等の加熱手段や冷媒流路等からなる温度制御機構と、温度センサとが設けられている(いずれも図示せず)。これらの機構や部材に対する配管や配線は、いずれも中空の支柱225を通して処理容器201外に導出される。
【0039】
処理室204の底部には、排気管231を介して真空ポンプ等を含む排気装置230が接続される。排気装置230により、処理室204が排気され、プラズマ処理中、処理室204内が所定の真空雰囲気(例えば1.33Pa)に設定、維持される。
【0040】
処理装置200は、各部の動作を制御する制御部250を有する。制御部250は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、及びRAM(Random Access Memory)を有する。CPUは、RAM等の記憶領域に格納されたレシピに従って、所望の処理を実行する。レシピには、プロセス条件に対する装置の制御情報が設定されている。制御情報は、例えばガス流量、圧力、温度、プロセス時間であってよい。レシピ及び制御部250が使用するプログラムは、例えばハードディスク、半導体メモリに記憶されてもよい。レシピ等は、CD−ROM、DVD等の可搬性のコンピュータにより読み取り可能な記憶媒体に収容された状態で所定の位置にセットされ、読み出されるようにしてもよい。
【0041】
以上に説明した処理装置200によれば、第1の絶縁部材3(第1の保持部31)と第2の絶縁部材4,4A(第2の保持部41)との間に導体板21を挟み込むことにより、複数の導体板21を所定間隔で保持する配線固定構造100,100Aを備える。これにより、金属窓202の上に高周波アンテナ213を狭ピッチで配置して固定することができるので、単位面積当たりの巻き数を増やすことができる。
【0042】
また、上記の処理装置200については窓部材が金属窓202である場合について説明したが、窓部材が誘電体窓であってもよい。高周波アンテナ213を直接誘電体窓に配置した場合、誘電体窓の表面において沿面放電を起こすことがあり、このような場合には上記の配線固定構造100、100Aを適用することにより沿面放電を防ぐことができる。誘電体窓の場合も、金属窓202の場合と同様の構造で支持梁211により支持することができ、誘電体窓の固定面に配線固定構造100、100Aを固定することができる。なお、金属窓202の場合と同様に第1の絶縁部材3の脚部33を直接誘電体窓の固定面にボルトなどで固定してもよいが、他の部材を介して間接的に固定してもよい。誘電体窓の材料は、例えば、セラミックスや石英で構成される。
【0043】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【符号の説明】
【0044】
100 配線固定構造
1 金属部材
11 金属面
2 配線
21 導体板
3 第1の絶縁部材
31 第1の保持部
32 第1の接続部
33 脚部
34 凸部
4 第2の絶縁部材
41 第2の保持部
42 第2の接続部
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8