特開2020-200416IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

研磨パッド、研磨パッドの製造方法及び研磨方法に関する。本発明の研磨パッドは、ガラス基板、シリコンウェハ、半導体デバイス等の研磨に好適に使用される。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】本発明は、高硬度研磨パッドを得ることであり、さらに、得られる研磨パッドの硬度を高めつつ、ポットライフを長くして製造安定性を高め、耐摩耗性を向上することが可能な組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のウレタン樹脂組成物は、ウレタンプレポリマー(A)を含む主剤(i)と、硬化剤(ii)とを含み、前記ウレタンプレポリマー(A)が、ポリオール(x1)とポリイソシアネート(y1)との反応物であるウレタンプレポリマー(A1)と、ポリオール(x2)とポリイソシアネート(y2)との反応物であるウレタンプレポリマー(A2)とを含み、前記ポリイソシアネート(y1)における芳香族ポリイソシアネートの含有率が50質量%以上であり、前記ポリイソシアネート(y2)における芳香族ポリイソシアネートの含有率が50質量%未満である。
【選択図】なし

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

近年、研磨パッドの研磨特性として被研磨材の平坦性(プラナリティー)及び面内均一性に優れることが強く要求されている。被研磨材の平坦性及び面内均一性は、研磨層を高弾性率化することによりある程度改善できることが広く知られている。しかしながら、高硬度研磨パッドのウレタン樹脂組成物とすると、(すなわち、イソシアネート当量(NCO当量)を低い範囲にすると)、どうしても反応が速くなってしまい(ポットライフが短くなってしまい)、製造が困難になる(成形できなくなる)。また、高硬度組成だと耐磨耗性が落ちてしまう傾向があった。例えば、特許文献1に記載の研磨パッド用の組成物では、ウレタンプレポリマー製造時にウレタン化触媒を用いていないため、反応性の低い4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートはウレタンプレポリマーの反応に寄与せず残存すること、そのため、研磨パッドの硬度を高めること(高弾性率化)は可能であるものの、ポットライフ(主剤と硬化剤とを混合してから、安定的な製造が可能な粘度を維持できる時間)が短くなり、成形が困難になる場合があること、また、耐摩耗性が十分でない場合があることが明らかになった。ポットライフが短いと、硬化までの時間が短いため、混合不良となり、品質が安定しない、あるいは研磨パッドの製造自体が困難になる場合がある。本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、高硬度研磨パッドを得ることであり、さらに、得られる研磨パッドの硬度を高めつつ、ポットライフを長くして製造安定性を高め、さらに耐摩耗性を向上することが可能な組成物を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者らは、課題に鑑み鋭意検討した結果、ウレタン樹脂組成物の主剤にウレタンプレポリマーを2種類用い、それぞれのウレタンプレポリマーに用いる芳香族ポリイソシアネートの含有率を異なるものとすることで、課題を解決できることを見出して、本発明を完成した。
【発明の効果】
本発明のウレタン樹脂組成物は、研磨パッド成形性を維持したまま、粘度を抑制し、さらに、得られる研磨パッドの硬度を高めることが可能である。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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