特開2020-74418高抵抗率ＳＯＩウエハおよびその製造方法

発明の名称　高抵抗率ＳＯＩウエハおよびその製造方法

出願人　グローバルウェーハズ　カンパニー　リミテッド　（識別番号 518112516）

　　　　特許公開件数ランキング 807 位（10件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 728 位（10件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2020-74418

公報発行日　2020年5月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2020-74418

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