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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第841位 19件
(2024年:第904位 27件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第888位 15件
(2024年:第1274位 16件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7720843 | 水平磁場を用いたシリコンの製造のためのシステムおよび方法 | 2025年 8月 8日 | |
特許 7720980 | ユニット化るつぼアセンブリを形成するための方法、るつぼ鋳型、およびユニット化るつぼ | 2025年 8月 8日 | |
特許 7710498 | シリコン箔層の移転方法 | 2025年 7月18日 | |
特許 7699633 | ばね部材を有し半導体構造を劈開するための劈開システム、及びそのような構造を劈開するための方法 | 2025年 6月27日 | |
特許 7690107 | 劈開された半導体ウェハカメラシステムおよび方法 | 2025年 6月 9日 | |
特許 7688702 | ハウジングを通って延在する流体充填排気管を有する結晶引上げシステム | 2025年 6月 4日 | |
特許 7686067 | サイドヒータの下方に配置されるヒートシールドを有するインゴット引上げ装置及びそのような装置でインゴットを製造する方法 | 2025年 5月30日 | |
特許 7678833 | 単結晶シリコンインゴットの製造中の不純物の蓄積を決定するための複数のサンプルロッドの成長 | 2025年 5月16日 | |
特許 7672989 | 本体長さ後半の歪みが低減されたインゴットの製造方法 | 2025年 5月 8日 | |
特許 7661348 | 強化されたウエハ製造のためのシステムおよび方法 | 2025年 4月14日 | |
特許 7638871 | 高抵抗率および超高抵抗率単結晶シリコンインゴット成長用ファットネックスラブの改良された比抵抗安定化測定 | 2025年 3月 4日 | |
特許 7630040 | 連続チョクラルスキー法を用いる窒素ドープ単結晶シリコンインゴットの成長方法およびこの方法により成長させた単結晶シリコンインゴット | 2025年 2月14日 | |
特許 7623271 | 低酸素含有シリコンを生産するシステム及び方法 | 2025年 1月28日 | |
特許 7611945 | 炉内の半導体ウエハを支持するためのウエハボート | 2025年 1月10日 | |
特許 7611959 | ホウ酸をドーパントとする単結晶シリコンインゴットの製造方法および固相ドーパントを使用するインゴット引上げ装置 | 2025年 1月10日 |
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7720843 7720980 7710498 7699633 7690107 7688702 7686067 7678833 7672989 7661348 7638871 7630040 7623271 7611945 7611959
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