特開2020-96183(P2020-96183A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2020-96183窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム
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  • 特開2020096183-窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム 図000003
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  • 特開2020096183-窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム 図000006
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