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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第457位 61件 (2023年:第405位 81件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7587353 | 気相反応器システムおよびその使用方法 | 2024年11月20日 | |
特許 7587387 | 膜を選択的にエッチングするための装置および方法 | 2024年11月20日 | |
特許 7584887 | 基材処理装置および方法 | 2024年11月18日 | |
特許 7578748 | モリブデン又はタングステン含有薄膜のALD用前駆体の合成及び使用方法 | 2024年11月 6日 | |
特許 7575187 | 基材を処理するための基材処理装置 | 2024年10月29日 | |
特許 7570853 | 反応物質気化システムのための加熱ゾーン分離 | 2024年10月22日 | |
特許 7563908 | トポロジー制御無定形炭素ポリマー膜を形成する方法 | 2024年10月 8日 | |
特許 7548740 | 中間チャンバーを備える半導体気相エッチング装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7547037 | 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7542939 | 基材表面および関連する半導体デバイス構造上のギャップ特徴を充填するための方法 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7540881 | カセットの格納および取り扱いのためのカセット供給システム、ならびにそれを装備した加工装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7539774 | 反応チャンバーにおいて循環堆積プロセスにより基材上に酸化ハフニウムランタン膜を堆積させるための方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7534075 | 基材処理装置および方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7532479 | 逐次浸透合成装置 | 2024年 8月13日 | |
特許 7527817 | 反応器マニホールド | 2024年 8月 5日 |
49 件中 1-15 件を表示
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7587353 7587387 7584887 7578748 7575187 7570853 7563908 7548740 7547037 7542939 7540881 7539774 7534075 7532479 7527817
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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