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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第419位 54件 (2023年:第405位 81件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7548740 | 中間チャンバーを備える半導体気相エッチング装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7547037 | 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7542939 | 基材表面および関連する半導体デバイス構造上のギャップ特徴を充填するための方法 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7540881 | カセットの格納および取り扱いのためのカセット供給システム、ならびにそれを装備した加工装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7539774 | 反応チャンバーにおいて循環堆積プロセスにより基材上に酸化ハフニウムランタン膜を堆積させるための方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7534075 | 基材処理装置および方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7532479 | 逐次浸透合成装置 | 2024年 8月13日 | |
特許 7527817 | 反応器マニホールド | 2024年 8月 5日 | |
特許 7527928 | 基板処理装置、基板処理方法 | 2024年 8月 5日 | |
特許 7523936 | 金属表面上の金属酸化物の選択的堆積 | 2024年 7月29日 | |
特許 7517863 | 装置稼働方法と基板処理装置 | 2024年 7月17日 | |
特許 7516012 | 気相化学反応器およびその使用方法 | 2024年 7月16日 | |
特許 7516485 | 周期的堆積により基材上に金属性膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造 | 2024年 7月16日 | |
特許 7515411 | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 | 2024年 7月12日 | |
特許 7511609 | 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法 | 2024年 7月 5日 |
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7548740 7547037 7542939 7540881 7539774 7534075 7532479 7527817 7527928 7523936 7517863 7516012 7516485 7515411 7511609
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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