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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第266位 82件
(2024年:第425位 74件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第411位 41件
(2024年:第488位 54件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7726664 | 基板を処理するための基板処理システム | 2025年 8月20日 | |
特許 7719593 | カルコゲン化物膜および膜を含む構造体を堆積させるための方法および装置 | 2025年 8月 6日 | |
特許 7719829 | 逐次浸透合成装置 | 2025年 8月 6日 | |
特許 7719843 | 周期的堆積プロセスによって基材上に遷移金属含有膜を形成する方法、遷移金属ハロゲン化物化合物を反応チャンバーに供給する方法、及び関連蒸着装置 | 2025年 8月 6日 | |
特許 7717862 | エッジパージを用いる基材サセプタ | 2025年 8月 4日 | |
特許 7715509 | ロックアウトタグアウトアセンブリおよびシステム、ならびにそれらを使用する方法 | 2025年 7月30日 | |
特許 7712319 | 単一処理チャンバー内の半導体膜からの酸化物及び炭素の除去のための装置及び方法 | 2025年 7月23日 | |
特許 7709272 | 垂直バッチ炉組立体 | 2025年 7月16日 | |
特許 7709274 | 孔を備える構造を形成する方法 | 2025年 7月16日 | |
特許 7704535 | 側面支持体付きプロセスチャンバー | 2025年 7月 8日 | |
特許 7703317 | 窒化バナジウム層および窒化バナジウム層を含む構造体を形成する方法 | 2025年 7月 7日 | |
特許 7703376 | シリコンを備える層を形成するための方法 | 2025年 7月 7日 | |
特許 7699909 | 反応器、反応器を含むシステム、並びにこれを製造する方法及び使用する方法 | 2025年 6月30日 | |
特許 7691223 | 半導体基材処理用サセプタ | 2025年 6月11日 | |
特許 7691286 | 基材処理装置、装置の反応器を移動させるための反応器移動装置、および装置の反応器を保守する方法 | 2025年 6月11日 |
41 件中 1-15 件を表示
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7726664 7719593 7719829 7719843 7717862 7715509 7712319 7709272 7709274 7704535 7703317 7703376 7699909 7691223 7691286
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