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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7548740 中間チャンバーを備える半導体気相エッチング装置 2024年 9月10日
特許 7547037 周期的堆積プロセスによって基材の誘電体表面上にモリブデン金属膜を堆積させる方法および関連する半導体デバイス構造 2024年 9月 9日
特許 7542939 基材表面および関連する半導体デバイス構造上のギャップ特徴を充填するための方法 2024年 9月 2日
特許 7540881 カセットの格納および取り扱いのためのカセット供給システム、ならびにそれを装備した加工装置 2024年 8月27日
特許 7539774 反応チャンバーにおいて循環堆積プロセスにより基材上に酸化ハフニウムランタン膜を堆積させるための方法 2024年 8月26日
特許 7534075 基材処理装置および方法 2024年 8月14日
特許 7532479 逐次浸透合成装置 2024年 8月13日
特許 7527817 反応器マニホールド 2024年 8月 5日
特許 7527928 基板処理装置、基板処理方法 2024年 8月 5日
特許 7523936 金属表面上の金属酸化物の選択的堆積 2024年 7月29日
特許 7517863 装置稼働方法と基板処理装置 2024年 7月17日
特許 7516012 気相化学反応器およびその使用方法 2024年 7月16日
特許 7516485 周期的堆積により基材上に金属性膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造 2024年 7月16日
特許 7515411 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 2024年 7月12日
特許 7511609 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法 2024年 7月 5日

42 件中 1-15 件を表示

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7548740 7547037 7542939 7540881 7539774 7534075 7532479 7527817 7527928 7523936 7517863 7516012 7516485 7515411 7511609

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