特開 2020-98334 表示装置用基板及びその製造方法、並びにそれらに用いる反射防止層用樹脂組成物溶液

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2020-98334(P2020-98334A)

(43)【公開日】2020年6月25日

(54)【発明の名称】表示装置用基板及びその製造方法、並びにそれらに用いる反射防止層用樹脂組成物溶液

(51)【国際特許分類】

   G02B 1/111 20150101AFI20200529BHJP

   G02B 5/20 20060101ALI20200529BHJP

   G03F 7/004 20060101ALI20200529BHJP

【ＦＩ】

   G02B1/111

   G02B5/20 101

   G03F7/004 505

   G03F7/004 501

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2019-225507(P2019-225507)

(22)【出願日】2019年12月13日

(31)【優先権主張番号】特願2018-234382(P2018-234382)

(32)【優先日】2018年12月14日

(33)【優先権主張国】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000006644

【氏名又は名称】日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001047

【氏名又は名称】特許業務法人セントクレスト国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小野 悠樹

【テーマコード（参考）】

2H148

2H225

2K009

【Ｆターム（参考）】

2H148BC06

2H148BC12

2H148BD11

2H148BE36

2H148BE37

2H148BF04

2H148BF16

2H148BF20

2H148BF30

2H148BG02

2H148BH03

2H225AC36

2H225AC43

2H225AC44

2H225AC46

2H225AC54

2H225AD06

2H225AE12P

2H225AN02P

2H225AN39P

2H225AP03P

2H225AP11P

2H225CA18

2H225CB05

2H225CC01

2H225CC13

2K009AA02

2K009CC09

2K009CC21

2K009DD05

2K009DD06

2K009DD12

(57)【要約】

【課題】光の反射が十分に抑制された遮光膜を備える表示装置用基板を提供すること。
【解決手段】透明基板、及び
該透明基板上に配置され、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．０１〜１μｍの反射防止層と、該反射防止層上に配置され、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．１〜３０μｍの遮光層とからなり、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが４０〜２００ｎｍである遮光膜
を備えていることを特徴とする表示装置用基板。
【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基板、及び
該透明基板上に配置され、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．０１〜１μｍの反射防止層と、該反射防止層上に配置され、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．１〜３０μｍの遮光層とからなり、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが４０〜２００ｎｍである遮光膜
を備えていることを特徴とする表示装置用基板。

【請求項2】

前記無機フィラーの平均粒子径が２５〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用基板。

【請求項3】

前記無機フィラーの含有量が前記反射防止層全体に対して５〜９５質量％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置用基板。

【請求項4】

透明基板、及び該透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと光硬化性透明樹脂とを含有し、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層及び前記遮光層用樹脂組成物層に一括で露光処理を施した後、一括で現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、前記無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する反射防止層及び前記遮光成分と樹脂硬化物とを含有し、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする表示装置用基板の製造方法。

【請求項5】

前記反射防止層用樹脂組成物層中の光硬化性透明樹脂及び前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がともにアルカリ可溶性であり、前記現像処理がアルカリ現像処理であることを特徴とする請求項４に記載の表示装置用基板の製造方法。

【請求項6】

透明基板、及び該透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種とを含有する反射防止層用樹脂組成物に加熱硬化処理を施して、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層を形成する工程と、
前記反射防止層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物に露光処理を施した後、現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする表示装置用基板の製造方法。

【請求項7】

前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がアルカリ可溶性であり、前記現像処理がアルカリ現像処理であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置用基板の製造方法。

【請求項8】

平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層用樹脂組成物層を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記光硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が２５〜３００ｎｍであり、前記有機溶媒中で分散可能な無機フィラーを樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％と、光硬化性透明樹脂を樹脂組成物全体に対して１．５４〜９５質量％と、光重合性モノマーを前記光硬化性透明樹脂と前記光重合性モノマーとの合計量に対して０〜５０質量％と、光重合開始剤を前記光硬化性透明樹脂と前記光重合性モノマーとの合計量１００質量部に対して０〜３０質量部含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記光硬化性樹脂組成物と前記有機溶媒との合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする反射防止層用樹脂組成物溶液。

【請求項9】

平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層を形成することが可能な熱硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記熱硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が２５〜３００ｎｍであり、前記有機溶媒中で分散可能な無機フィラーを樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％と、熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種を樹脂組成物全体に対して３．２〜９４．０６質量％と、熱硬化剤を前記熱硬化性透明樹脂と前記熱硬化性単量体との合計量１００質量部に対して１〜２５質量部含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記反射防止層用樹脂組成物と前記有機溶媒との合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする反射防止層用樹脂組成物溶液。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示装置用基板及びその製造方法、並びにそれらに用いる反射防止層用樹脂組成物溶液に関し、より詳しくは、遮光膜を備える表示装置用基板及びその製造方法、並びにそれらに用いる反射防止層用樹脂組成物溶液に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶ディスプレイ等の表示装置においては、コントラストの向上や光漏れの防止等を目的として、赤、緑、青等の各画素の境界に格子状、ストライプ状又はモザイク状のブラックマトリックス等の遮光膜が形成されている。このような遮光膜としては、黒色顔料等の遮光成分を含有する感光性樹脂組成物を用いて透明基板上に形成されたものが知られているが、このような遮光膜が表面に配置された透明基板を備える表示装置においては、透明基板側から入射した光が遮光膜の表面（透明基板との界面）で反射するため、周囲に置かれている物等が画面に映り込むという問題があった。

【0003】

そこで、このような映り込み等の問題を解決するために、遮光膜表面での光の反射を抑制する方法が検討されている。例えば、国際公開第２０１０／０７０９２９号（特許文献１）には、透明基板と遮光層とを備える表示パネル用基板において、透明基板上に遮光層として光学濃度が異なる２種類の遮光層を設け、かつ、透明基板と光学濃度が高い遮光層との間に前記光学濃度が高い遮光層よりも光学濃度が低い遮光層を配置することによって、遮光層表面での光の反射が抑制されることが記載されている。また、国際公開第２０１４／１７８１４９号（特許文献２）には、透明基板とブラックマトリックスとを備える表示装置用基板において、透明基板上にブラックマトリックスとして実効的な光学濃度が特定の範囲内にある反射率低減層と遮光層とを積層して設けることによって、ブラックマトリックス表面での光の反射が抑制されることが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】国際公開第２０１０／０７０９２９号

【特許文献2】国際公開第２０１４／１７８１４９号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１及び２に記載の表示装置用基板においては、遮光膜（遮光層、ブラックマトリックス）表面での光の反射が必ずしも十分に抑制されておらず、コントラストを向上させたり、光漏れを防止したりするためには、遮光膜での光の反射を更に抑制する必要があった。

【0006】

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、光の反射が十分に抑制された遮光膜を備える表示装置用基板及びその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、透明基板及び遮光膜を備える表示装置用基板において、透明基板上に遮光膜として反射防止層と遮光層とからなり、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが特定の範囲にある遮光膜を設けることによって、遮光膜表面での光の反射が更に抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0008】

すなわち、本発明の表示装置用基板は、透明基板、及び該透明基板上に配置され、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．０１〜１μｍの反射防止層と、該反射防止層上に配置され、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と樹脂硬化物とを含有する、平均厚さが０．１〜３０μｍの遮光層とからなり、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが４０〜２００ｎｍである遮光膜を備えていることを特徴とするものである。

【0009】

このような表示装置用基板においては、前記無機フィラーの平均粒子径が２５〜３００ｎｍであることが好ましく、また、前記無機フィラーの含有量が前記反射防止層全体に対して５〜９５質量％であることが好ましい。

【0010】

また、本発明の第一の表示装置用基板の製造方法は、透明基板、及び該透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと光硬化性透明樹脂とを含有し、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層及び前記遮光層用樹脂組成物層に一括で露光処理を施した後、一括で現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、前記無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する反射防止層及び前記遮光成分と樹脂硬化物とを含有し、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法である。

【0011】

このような第一の表示装置用基板の製造方法においては、前記反射防止層用樹脂組成物層中の光硬化性透明樹脂及び前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がともにアルカリ可溶性であり、前記現像処理がアルカリ現像処理であることが好ましい。

【0012】

さらに、本発明の第二の表示装置用基板の製造方法は、透明基板、及び該透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーと熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種とを含有する反射防止層用樹脂組成物に加熱硬化処理を施して、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層を形成する工程と、
前記反射防止層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物に露光処理を施した後、現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法である。

【0013】

このような第二の表示装置用基板の製造方法においては、前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がアルカリ可溶性であり、前記現像処理がアルカリ現像処理であることが好ましい。

【0014】

また、本発明の第一の反射防止層用樹脂組成物溶液は、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層用樹脂組成物層を形成することが可能な光硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記光硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が２５〜３００ｎｍであり、前記有機溶媒中で分散可能な無機フィラーを樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％と、光硬化性透明樹脂を樹脂組成物全体に対して１．５４〜９５質量％と、光重合性モノマーを前記光硬化性透明樹脂と前記光重合性モノマーとの合計量に対して０〜５０質量％と、光重合開始剤を前記光硬化性透明樹脂と前記光重合性モノマーとの合計量１００質量部に対して０〜３０質量部含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記反射防止層用樹脂組成物と前記有機溶媒との合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とするものである。

【0015】

さらに、本発明の第二の反射防止層用樹脂組成物溶液は、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層を形成することが可能な熱硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記熱硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が２５〜３００ｎｍであり、前記有機溶媒中で分散可能な無機フィラーを樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％と、熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種を樹脂組成物全体に対して３．２〜９４．０６質量％と、熱硬化剤を前記熱硬化性透明樹脂と前記熱硬化性単量体との合計量１００質量部に対して１〜２５質量部含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記反射防止層用樹脂組成物と前記有機溶媒との合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とするものである。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、光の反射が十分に抑制された遮光膜を備える表示装置用基板を得ることが可能となる。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。

【0018】

先ず、本発明の表示装置用基板について説明する。本発明の表示装置用基板は、透明基板、及びこの透明基板上に配置され、屈折率が特定の範囲内にある無機フィラーと透明樹脂硬化物を含有し、平均厚さが特定の範囲内にある反射防止層と、この反射防止層上に配置され、有機黒色顔料、混色擬似黒色顔料及び無機黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と樹脂硬化物とを含有し、平均厚さが特定の範囲内にある遮光層とからなり、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが特定の範囲内にある遮光膜を備えるものである。

【0019】

本発明に用いられる透明基板としては特に制限はなく、例えば、ガラス基板、透明樹脂フィルム（ＰＥＴフィルム、ＰＥＮフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム等）を始め、公知の表示装置に用いられる透明基板が挙げられる。

【0020】

本発明にかかる遮光膜は、反射防止層と遮光層とからなるものであり、本発明の表示装置用基板において、カラーフィルターやＣＭＯＳセンサー等のブラックマトリックス、タッチパネル用額縁（ベゼル）、ブラックカラムスペーサー、黒色隔壁（バンク材）等を構成するものである。また、このような遮光膜は前記透明基板上に配置されており、より詳細には、反射防止層が前記透明基板上に配置され、遮光層が前記反射防止層上に配置されている。

【0021】

前記反射防止層は屈折率が１．２〜１．８の無機フィラーを含有するものである。このような屈折率を有する無機フィラーは後述する遮光成分の屈折率より小さい屈折率を有するものである。このような屈折率の小さい無機フィラーを用いることにより、遮光膜の反射率が低減され、遮光膜での光の反射が抑制される。このような無機フィラーの屈折率としては、１．３〜１．６が好ましく、１．４〜１．５がより好ましい。

【0022】

このような屈折率を有する無機フィラーとしては、シリカ（屈折率：１．４６）、フッ化マグネシウム（屈折率：１．３８）、フッ化リチウム（屈折率：１．３９）、フッ化カルシウム（屈折率：１．４０）等が挙げられ、中でも、シリカ（屈折率：１．４６）が特に好ましい。また、このような無機フィラー（特に、シリカ）は、有機溶媒中で分散可能なように製造又は表面処理されていることが好ましい。このような有機溶媒中で分散可能なように製造又は表面処理されたシリカとしては、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ、オルガノシリカゾルが挙げられ、例えば、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾル、株式会社アドマテックス製のアドマファイン及びアドマナノ、扶桑化学工業株式会社製コロイダルシリカ、オルガノシリカゾル及びシリカナノパウダー、日本アエロジル株式会社製ヒュームドシリカ等の商品名で販売されているもののうち有機溶剤に分散可能なものを用いることができる。

【0023】

前記無機フィラーの平均粒子径としては、２５〜３００ｎｍが好ましく、３０〜２６０ｎｍがより好ましく、３０〜２２０ｎｍが特に好ましい。前記無機フィラーの平均粒子径が前記下限未満になると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にある。なお、無機フィラーの平均粒子径は動的光散乱法等を利用した粒度分布測定により求めることができる。

【0024】

前記無機フィラーの含有量としては、反射防止層全体に対して５〜９５質量％が好ましく、１５〜９０質量％がより好ましく、２５〜８５質量％が特に好ましい。前記無機フィラーの含有量が前記下限未満になると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にある。

【0025】

また、前記反射防止層は透明樹脂硬化物を含有するものである。このような透明樹脂硬化物としては特に制限はなく、例えば、後述する光硬化性透明樹脂や熱硬化性透明樹脂、熱硬化性単量体の硬化物が挙げられる。前記透明樹脂硬化物の含有量としては、反射防止層全体に対して４〜９５質量％が好ましく、９〜８５質量％がより好ましく、１４〜７５質量％が特に好ましい。前記透明樹脂硬化物の含有量が前記下限未満になると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にある。

【0026】

本発明にかかる遮光膜において、前記反射防止層の平均厚さは０．０１〜１μｍである。前記反射防止層の平均厚さが前記下限未満になると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にある。このような反射防止層の平均厚さとしては、前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲内になりやすいという観点から、０．０２〜０．５μｍが好ましく、０．０４〜０．３μｍがより好ましい。なお、反射防止層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて反射防止層表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均することによって求めることができる。

【0027】

前記遮光層は有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分を含有するものである。有機黒色顔料としては、ペリレンブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、ラクタムブラック等が挙げられる。無機黒色顔料としては、カーボンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック等が挙げられる。混色擬似黒色顔料としては、赤、青、緑、紫、黄、シアニン、マゼンタ等のうちの２種以上の顔料を混合して疑似黒色化したものが挙げられる。これらの遮光成分は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。また、これらの遮光成分の中でも、遮光性、表面平滑性、分散安定性、樹脂との相溶性が良好であるという観点から、カーボンブラックが特に好ましい。

【0028】

前記遮光成分の平均粒子径としては、１０〜３００ｎｍが好ましく、３０〜２５０ｎｍがより好ましく、５０〜２２０ｎｍが特に好ましい。前記遮光成分の平均粒子径が前記下限未満になると、前記遮光層の遮光性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記遮光層の表面平滑性、前記遮光成分の分散均一性が低下する傾向にある。なお、遮光成分の平均粒子径は動的光散乱法等を利用した粒度分布測定により求めることができる。

【0029】

前記遮光成分の含有量としては、遮光成分としてカーボンブラックを使用する場合には、遮光層全体に対して１０〜６５質量％が好ましく、１５〜６０質量％がより好ましく、２０〜５５質量％が特に好ましい。また、遮光成分としてカーボンブラック以外のものを使用する場合には、遮光層全体に対して１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。前記遮光成分の含有量が前記下限未満になると、前記遮光層の遮光性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記遮光層の表面平滑性、前記遮光成分の分散均一性が低下する傾向にある。

【0030】

また、前記遮光層は樹脂硬化物を含有するものである。このような樹脂硬化物としては特に制限はなく、例えば、後述する光硬化性樹脂の硬化物が挙げられる。前記樹脂硬化物の含有量としては、遮光成分としてカーボンブラックを使用する場合には、遮光層全体に対して３４〜９０質量％が好ましく、３９〜８５質量％がより好ましく、４４〜８０質量％が特に好ましい。また、遮光成分としてカーボンブラック以外のものを使用する場合には、遮光層全体に対して９〜９０質量％が好ましく、１９〜８０質量％がより好ましく、２９〜７０質量％が特に好ましい。前記樹脂硬化物の含有量が前記下限未満になると、前記遮光層の表面平滑性、前記遮光成分の分散均一性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記遮光層の遮光性が低下する傾向にある。

【0031】

本発明にかかる遮光膜において、前記遮光層の平均厚さは０．１〜３０μｍである。前記遮光層の平均厚さが前記下限未満になると、前記遮光層の遮光性が低下し、他方、前記上限を超えると、アルカリ現像に要する時間が長くなり、生産性が低下する。このような遮光層の平均厚さとしては、遮光性と生産性を両立させるという観点から、０．５〜２０μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。なお、遮光層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて遮光膜表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均して遮光膜の平均厚さを求め、この遮光膜の平均厚さから前記反射防止層の平均厚さを差引くことによって求めることができる。

【0032】

また、本発明にかかる遮光膜においては、前記反射防止層と前記遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが４０〜２００ｎｍである。前記反射防止層の表面粗さが前記下限未満になると、遮光膜の反射率が十分に低減されず、遮光膜での光の反射を十分に防止することができない。他方、前記反射防止層の表面粗さが前記上限を超えると、遮光膜の平坦性を所望のレベルにすることが困難になる。このような反射防止層の表面粗さとしては、遮光膜の反射率が低くなり、遮光膜での光の反射が抑制され、また、遮光膜の平坦性を担保するという観点から、５０〜１８０ｎｍが好ましく、８０〜１６０ｎｍがより好ましい。

【0033】

次に、本発明の表示装置用基板の製造方法について説明する。本発明の第一の表示装置用基板の製造方法は、透明基板、及びこの透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が特定の範囲内にある無機フィラーと光硬化性透明樹脂とを含有し、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物層を形成する工程と、
前記反射防止層用樹脂組成物層及び前記遮光層用樹脂組成物層に一括で露光処理を施した後、一括で現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、前記無機フィラーと透明樹脂硬化物とを含有する反射防止層及び前記遮光成分と樹脂硬化物とを含有し、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含む方法である。

【0034】

また、本発明の第二の表示装置用基板の製造方法は、透明基板、及び該透明基板上に配置されている、反射防止層と遮光層とからなる遮光膜を備えている表示装置用基板の製造方法であって、
前記透明基板上に、屈折率が特定の範囲内にある無機フィラーと熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種とを含有する反射防止層用樹脂組成物に加熱硬化処理を施して、平均厚さが０．０１〜１μｍであり、表面粗さが４０〜２００ｎｍである反射防止層を形成する工程と、
前記反射防止層上に、有機黒色顔料、無機黒色顔料及び混色擬似黒色顔料からなる群から選択される少なくとも１種の遮光成分と光硬化性樹脂とを含有する遮光層用樹脂組成物に露光処理を施した後、現像処理を施し、さらに、加熱処理（ポストベーク）を施して、平均厚さが０．１〜３０μｍである遮光層を形成する工程と、
を含む方法である。このような第二の表示装置用基板の製造方法においては、前記遮光層（遮光層パターン）を形成した後、必要に応じて、前記反射防止層のうち、上部に遮光層が形成されていない部分（現像処理において上部の遮光層用樹脂組成物層が除去された部分）の反射防止層をエッチング処理により除去して、反射防止層についてもパターンを形成してもよい。

【0035】

本発明の第一及び第二の表示装置用基板の製造方法に用いられる透明基板、屈折率が特定の範囲内にある無機フィラー、及び遮光成分は、前述の本発明の表示装置用基板の説明において記載した透明基板、無機フィラー、及び遮光成分である。

【0036】

本発明の第一の表示装置用基板の製造方法に用いられる反射防止層用樹脂組成物（以下、「第一の反射防止層用樹脂組成物」という）は前記無機フィラーと光硬化性透明樹脂とを含有するものである。この光硬化性透明樹脂としては、光照射（例えば、ＵＶ照射）により硬化する透明樹脂であれば特に制限はないが、現像性に優れているという観点から、アルカリ可溶性の光硬化性透明樹脂が好ましく、さらに、光硬化性、パターニング特性にも優れているという観点から、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂、すなわち、エポキシ基を２個以上有する化合物（より好ましくは、ビスフェノール類とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ化合物）と（メタ）アクリル酸（「アクリル酸及び／又はメタアクリル酸」を意味する）との反応物に、さらに多価カルボン酸又はその酸無水物を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物が好ましく、ビスフェノールフルオレン化合物から誘導されるエポキシアクリレート酸付加物が特に好ましい。

【0037】

このような第一の反射防止層用樹脂組成物において、前記無機フィラーの含有量としては、第一の反射防止層用樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％が好ましく、１５〜９０質量％がより好ましく、２５〜８５質量％が特に好ましい。また、前記光硬化性透明樹脂の含有量としては、第一の反射防止層用樹脂組成物全体に対して１．５４〜９５質量％が好ましく、３．４６〜８５質量％がより好ましく、５．３８〜７５質量％が特に好ましい。前記無機フィラーの含有量が前記下限未満になると（或いは、前記光硬化性透明樹脂の含有量が前記上限を超えると）、形成される反射防止層と遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にあり、他方、前記無機フィラーの含有量が前記上限を超えると（或いは、前記光硬化性透明樹脂の含有量が前記下限未満になると）、形成される反射防止層と遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にある。

【0038】

また、このような第一の反射防止層用樹脂組成物には光重合性モノマーが含まれていてもよい。これにより、反射防止層を光加工する場合の感度を適正化したり、形成される反射防止層の表面硬度等の膜の機械物性を適正化したりすることが可能になる。このような光重合性モノマーとしては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー（例えば、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する（メタ）アクリル酸エステル類）が挙げられる。このような光重合性モノマーの含有量としては、前記光硬化性透明樹脂と光重合性モノマーとの合計量に対して、０〜５０質量％が好ましく、０〜４０質量％がより好ましく、０〜３０質量％が特に好ましい。

【0039】

さらに、前記第一の反射防止層用樹脂組成物には光重合開始剤が含まれていることが好ましい。このような光重合開始剤としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された光重合開始剤が挙げられるが、これらの中でも、オキシムエステル系重合開始剤が特に好ましい。このような光重合開始剤の含有量は、前記第一の反射防止層用樹脂組成物の光硬化性等に応じて適宜設定することができ、例えば、光硬化性樹脂と光重合性モノマーとの合計量１００質量部に対して０〜３０質量部であることが好ましく、０〜２５質量部であることがより好ましい。

【0040】

また、透明基板の耐熱性が低く、現像後の加熱処理（ポストベーク）を１５０℃以下といった低温で行う場合には、前記第一の反射防止層用樹脂組成物にアゾ系重合開始剤が含まれていることが好ましい。これにより、現像後の加熱時（ポストベーク時）の前記第一の反射防止層用樹脂組成物の熱ラジカル重合性が向上する。このようなアゾ系重合開始剤としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−１８１９７６号公報に記載されたアゾ系重合開始剤が挙げられる。このようなアゾ系重合開始剤の含有量としては特に制限はなく、前記第一の反射防止層用樹脂組成物の熱ラジカル重合性等に応じて適宜設定することができる。

【0041】

さらに、前記第一の反射防止層用樹脂組成物には、必要に応じて、分散剤、前記光重合開始剤及びアゾ系重合開始剤以外の重合開始剤、連鎖移動剤、増感剤、非感光性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤、可塑剤、充填材、カップリング剤、界面活性剤、染料等の各種添加剤を配合することができる。

【0042】

また、前記第一の反射防止層用樹脂組成物は、溶液の状態で（すなわち、第一の反射防止層用樹脂組成物溶液として）使用することが好ましい。これにより、均一な反射防止層用樹脂組成物層を形成することができる。このような第一の反射防止層用樹脂組成物溶液に用いられる有機溶媒としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された溶剤が挙げられる。このような有機溶媒は、前記第一の反射防止層用樹脂組成物と有機溶媒との合計量に対して有機溶媒量が８０〜９９．９質量％となるように配合することが好ましく、前記第一の反射防止層用樹脂組成物溶液の溶液粘度（Ｂ型又はＥ型粘度計）が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃとなるように配合することがより好ましい。このような溶液粘度の好ましい範囲はコーティングの方法によって異なるため、前記有機溶媒量の好ましい範囲もコーティングの方法によって異なる。例えば、スピンコート法の場合には、前記有機溶媒量の好ましい範囲の下限値近くの８０〜８５質量％が好ましく、スリットコート法の場合には、前記有機溶媒量の好ましい範囲の上限値付近の９９．０〜９９．９質量％が好ましい。

【0043】

本発明の第一の反射防止層用樹脂組成物溶液として典型的な配合組成を有するものは、光硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記光硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が３０〜２２０ｎｍであり、前記有機溶剤中で分散可能なシリカ粒子を樹脂組成物全体に対して２５〜８５質量％と、エポキシ（メタ）アクリレート酸付加物を樹脂組成物全体に対して１５〜７５質量％含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記光硬化性樹脂組成物と前記有機溶媒の合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃである、樹脂組成物溶液である。このような第一の反射防止層用樹脂組成物溶液において、エポキシ（メタ）アクリレート酸付加物としては、ビスフェノールフルオレン化合物から誘導されるエポキシアクリレート酸付加物が特に好ましい。

【0044】

一方、本発明の第二の表示装置用基板の製造方法に用いられる反射防止層用樹脂組成物（以下、「第二の反射防止層用樹脂組成物」という）は前記無機フィラーと熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種とを含有するものである。この熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体としては、加熱処理により硬化する透明樹脂及び単量体であれば特に制限はなく、例えば、特開２０１６−１６１９２６号公報に記載された、エチレン性不飽和二重結合又は環状反応性基を有する樹脂（エポキシ化合物、オキセタン化合物等）及びエチレン性不飽和二重結合又は環状反応性基を有する単量体が挙げられる。

【0045】

このような第二の反射防止層用樹脂組成物において、前記無機フィラーの含有量としては、第二の反射防止層用樹脂組成物全体に対して５〜９５質量％が好ましく、１５〜９０質量％がより好ましく、２５〜８５質量％が特に好ましい。また、前記熱硬化性透明樹脂及び熱硬化性単量体のうちの少なくとも１種の含有量としては、第二の反射防止層用樹脂組成物全体に対して３．２〜９４．０６質量％が好ましく、７．２〜８４．１６質量％がより好ましく、１１．２〜７４．２６質量％が特に好ましい。前記無機フィラーの含有量が前記下限未満になると（或いは、前記熱硬化性透明樹脂の含有量が前記上限を超えると）、形成される反射防止層と遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にあり、他方、前記無機フィラーの含有量が前記上限を超えると（或いは、前記熱硬化性透明樹脂の含有量が前記下限未満になると）、形成される反射防止層と遮光層との界面における前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にある。

【0046】

また、前記第二の反射防止層用樹脂組成物には熱硬化剤が含まれていることが好ましい。このような熱硬化剤としては、例えば、アミン系化合物、多価カルボン酸系化合物、フェノール樹脂、アミノ樹脂、ジシアンジアミド、ルイス酸錯化合物等のエポキシ化合物の熱硬化剤として用いられるものが挙げられ、中でも、多価カルボン酸系化合物が好ましい。このような多価カルボン酸系化合物としては、多価カルボン酸、多価カルボン酸の無水物、及び多価カルボン酸の熱分解性エステルが挙げられる。多価カルボン酸は１分子中に２つ以上のカルボキシ基を有する化合物であり、具体的には、コハク酸、マレイン酸、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸、シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、シクロヘキセン−４，５−ジカルボン酸、ノルボルナン−２，３−ジカルボン酸、フタル酸、３，６−ジヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、シクロヘキサン−１，２，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボン酸、シクロヘキサン−１，２，４，５−テトラカルボン酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸等が挙げられる。多価カルボン酸の無水物としては上記に例示した多価カルボン酸の無水物が挙げられる。このような多価カルボン酸の無水物としては分子間酸無水物を用いてもよいが、一般には分子内で閉環した酸無水物が用いられる。多価カルボン酸の熱分解性エステルとしては、上記に例示した多価カルボン酸の熱分解性エステル（例えば、ｔ−ブチルエステル、１−（アルキルオキシ）エチルエステル、１−（アルキルスルファニル）エチルエステル等〔ただし、前記アルキルは炭素数１〜２０の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、この炭化水素基は直鎖状、分岐状、環状のいずれの構造を有していてもよく、また、任意の置換基を有していてもよい〕）が挙げられる。また、多価カルボン酸系化合物として、２つ以上のカルボキシ基を有する重合体又は共重合体を用いることもでき、そのカルボキシ基は無水物基又は熱分解性エステル基を形成していてもよい。このような２つ以上のカルボキシ基を有する重合体又は共重合体としては特に制限はないが、例えば、（メタ）アクリル酸を構成成分として含む重合体又は共重合体、無水マレイン酸を構成成分として含む共重合体、テトラカルボン酸二無水物をジアミンやジオールと反応させて酸無水物を開環させた化合物等が挙げられる。これらの多価カルボン酸系化合物の中でも、フタル酸、３，６−ジヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸の各多価カルボン酸の無水物が好ましい。このような熱硬化剤の含有量は、前記第二の反射防止層用樹脂組成物の熱硬化性等に応じて適宜設定することができ、例えば、熱硬化性透明樹脂と熱硬化性単量体との合計量１００質量部に対して１〜２５質量部であることが好ましい。

【0047】

さらに、前記第二の反射防止層用樹脂組成物には、必要に応じて、分散剤、非熱硬化性樹脂、硬化促進剤、酸化防止剤、可塑剤、充填材、カップリング剤、界面活性剤、染料等の各種添加剤を配合することができる。

【0048】

また、前記第二の反射防止層用樹脂組成物は、溶液の状態で（すなわち、第二の反射防止層用樹脂組成物溶液として）使用することが好ましい。これにより、均一な反射防止層用樹脂組成物層を形成することができる。このような第二の反射防止層用樹脂組成物溶液に用いられる有機溶媒としては特に制限はなく、例えば、特開２０１６−１６１９２６号公報に記載された溶剤が挙げられる。このような有機溶媒は、前記第二の反射防止層用樹脂組成物と有機溶媒との合計量に対して有機溶媒量が８０〜９９．９質量％となるように配合することが好ましく、前記第二の反射防止層用樹脂組成物溶液の溶液粘度（Ｂ型又はＥ型粘度計）が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃとなるように配合することがより好ましい。このような溶液粘度の好ましい範囲はコーティングの方法によって異なるため、前記有機溶媒量の好ましい範囲もコーティングの方法によって異なる。例えば、スピンコート法の場合には、前記有機溶媒量の好ましい範囲の下限値近くの８０〜８５質量％が好ましく、スリットコート法の場合には、前記有機溶媒量の好ましい範囲の上限値付近の９９．０〜９９．９質量％が好ましい。

【0049】

本発明の第二の反射防止層用樹脂組成物溶液として典型的な配合組成を有するものは、熱硬化性樹脂組成物及び有機溶媒を含有する樹脂組成物溶液であって、
前記熱硬化性樹脂組成物が、屈折率が１．２〜１．８であり、平均粒子径が３０〜２２０ｎｍであり、前記有機溶剤中で分散可能なシリカ粒子を樹脂組成物全体に対して２５〜８５質量％と、エポキシ化合物を樹脂組成物全体に対して１２〜７４．２６質量％と、熱硬化剤を前記エポキシ化合物１００質量部に対して１〜２５質量部含有するものであり、
前記有機溶媒の含有量が、前記光硬化性樹脂組成物と前記有機溶媒の合計量に対して８０〜９９．９質量％であり、
溶液粘度が１〜４ｍＰａ・ｓｅｃである、樹脂組成物溶液である。

【0050】

本発明の第一及び第二の表示装置用基板の製造方法に用いられる遮光層用樹脂組成物は前記遮光成分と光硬化性樹脂とを含有するものである。この光硬化性樹脂としては、光照射（例えば、ＵＶ照射）により硬化する樹脂であれば特に制限はないが、現像性に優れているという観点から、アルカリ可溶性の光硬化性樹脂が好ましく、さらに、光硬化性、パターニング特性にも優れているという観点から、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された、重合性不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂、すなわち、エポキシ基を２個以上有する化合物（より好ましくは、ビスフェノール類とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ化合物）と（メタ）アクリル酸（「アクリル酸及び／又はメタアクリル酸」を意味する）との反応物に、さらに多価カルボン酸又はその酸無水物を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物が好ましく、ビスフェノールフルオレン化合物から誘導されるエポキシアクリレート酸付加物が特に好ましい。

【0051】

このような遮光層用樹脂組成物において、前記遮光成分の含有量としては、遮光層用樹脂組成物全体に対して１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。また、前記光硬化性樹脂の含有量としては、遮光層用樹脂組成物全体に対して５．５４〜９０質量％が好ましく、１１．７〜８０質量％がより好ましく、１７．８〜７０質量％が特に好ましい。前記遮光成分の含有量が前記下限未満になると（或いは、前記光硬化性樹脂の含有量が前記上限を超えると）、形成される遮光層の遮光性が低下する傾向にあり、他方、前記遮光成分の含有量が前記上限を超えると（或いは、前記光硬化性樹脂の含有量が前記下限未満になると）、形成される遮光層の表面平滑性、前記遮光成分の分散安定性が低下する傾向にある。

【0052】

また、このような遮光層用樹脂組成物には光重合性モノマーが含まれていてもよい。これにより、遮光層を光加工する場合の感度を適正化したり、形成される遮光層の表面硬度等の膜の機械物性を適正化したりすることが可能になる。このような光重合性モノマーとしては、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー（例えば、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する（メタ）アクリル酸エステル類）が挙げられる。このような光重合性モノマーの含有量としては、前記光硬化性樹脂と光重合性モノマーとの合計量に対して、１〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましく、３〜１０質量％が特に好ましい。

【0053】

さらに、前記遮光層用樹脂組成物には光重合開始剤が含まれていることが好ましい。このような光重合開始剤としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された光重合開始剤が挙げられるが、これらの中でも、オキシムエステル系重合開始剤が特に好ましい。このような光重合開始剤の含有量は、前記遮光層用樹脂組成物の光硬化性等に応じて適宜設定することができ、例えば、光硬化性樹脂及び光重合性モノマーの合計量１００質量部に対して０．３〜３０質量部であることが好ましく、１〜２５質量部であることがより好ましい。

【0054】

また、透明基板の耐熱性が低く、現像後の加熱処理（ポストベーク）を１５０℃以下といった低温で行う場合には、前記遮光層用樹脂組成物にアゾ系重合開始剤が含まれていることが好ましい。これにより、現像後の加熱時（ポストベーク時）の前記遮光層用樹脂組成物の熱ラジカル重合性が向上する。このようなアゾ系重合開始剤としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−１８１９７６号公報に記載されたアゾ系重合開始剤が挙げられる。このようなアゾ系重合開始剤の含有量としては特に制限はなく、前記遮光層用樹脂組成物の熱ラジカル重合性等に応じて適宜設定することができる。

【0055】

さらに、前記遮光層用樹脂組成物には、必要に応じて、分散剤、前記光重合開始剤及びアゾ系重合開始剤以外の重合開始剤、連鎖移動剤、増感剤、非感光性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤、可塑剤、充填材、カップリング剤、界面活性剤、色調整用顔料、染料等の各種添加剤を配合することができる。

【0056】

また、前記遮光層用樹脂組成物は、溶液の状態で（すなわち、遮光層用樹脂組成物溶液として）使用することが好ましい。これにより、均一な遮光層用樹脂組成物層を形成することができる。このような遮光層用樹脂組成物溶液に用いられる有機溶媒としては特に制限はなく、例えば、特開２０１７−７２７６０号公報に記載された溶剤が挙げられる。このような有機溶媒は、前記遮光層用樹脂組成物と有機溶媒との合計量に対して有機溶媒量が６０〜９０質量％となるように配合することが好ましく、前記遮光層用樹脂組成物溶液の溶液粘度（Ｂ型又はＥ型粘度計）が１〜３０ｍＰａ・ｓｅｃとなるように配合することがより好ましい。

【0057】

本発明の第一の表示装置用基板の製造方法においては、先ず、前記透明基板上に、前記第一の反射防止層用樹脂組成物からなる層（以下、「第一の反射防止層用樹脂組成物層」という）を形成する。

【0058】

前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の平均厚さは０．０１〜１μｍである。前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の平均厚さが前記下限未満になると、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にある。このような第一の反射防止層用樹脂組成物層の平均厚さとしては、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さが所定の範囲内になりやすいという観点から、０．０２〜０．５μｍが好ましく、０．０４〜０．３μｍがより好ましい。なお、第一の反射防止層用樹脂組成物層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて第一の反射防止層用樹脂組成物層表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均することによって求めることができる。

【0059】

また、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは４０〜２００ｎｍである。前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さが前記下限未満になると、得られる遮光膜の反射率が十分に低減されず、遮光膜での光の反射を十分に防止することができない。他方、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さが前記上限を超えると、得られる遮光膜の平坦性を所望のレベルにすることが困難になる。このような第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さとしては、得られる遮光膜の反射率が低くなり、遮光膜での光の反射が抑制され、また、遮光膜の平坦性を担保するという観点から、５０〜１８０ｎｍが好ましく、８０〜１６０ｎｍがより好ましい。なお、第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは、触針式段差形状測定装置を用いて第一の反射防止層用樹脂組成物層表面の凹凸形状を測定して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線において無作為に抽出した０．１ｍｍの部分について粗さの算術平均値を求め、これを第一の反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さとすることによって求めることができる。

【0060】

このような第一の反射防止層用樹脂組成物層を形成する方法としては、例えば、前記透明基板上に、前記第一の反射防止層用樹脂組成物溶液を塗布した後、加熱処理（プレベーク）を施すことにより有機溶媒を除去する方法が挙げられる。

【0061】

次に、このようにして形成した第一の反射防止層用樹脂組成物層上に、前記遮光層用樹脂組成物からなる層（以下、「遮光層用樹脂組成物層」という）を形成する。このような遮光層用樹脂組成物層を形成する方法としては、例えば、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層上に、前記遮光層用樹脂組成物溶液を塗布した後、加熱処理（プレベーク）を施すことにより有機溶媒を除去する方法が挙げられる。

【0062】

第一の反射防止層用樹脂組成物溶液を塗布する方法及び遮光層用樹脂組成物溶液を塗布する方法としては、例えば、公知の溶液浸漬法、スプレー法のほか、ローラーコーター、ランドコーター、スリットコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。プレベークにおける加熱温度及び加熱時間は、使用する有機溶媒の種類等に応じて適宜設定することができ、例えば、加熱温度を６０〜１１０℃（前記透明基板の耐熱温度を超えないように設定）に、加熱時間を１〜３分間に設定することができる。

【0063】

次に、このようにして形成した前記第一の反射防止層用樹脂組成物層及び前記遮光層用樹脂組成物層に、所望の遮光膜パターン形成用マスクを用いて一括で露光処理を施し、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の感光部分（露光部分）の光硬化性透明樹脂及び前記遮光層用樹脂組成物層の感光部分（露光部分）の光硬化性樹脂を光硬化させる。露光処理条件は、使用する光硬化性樹脂や光重合開始剤の種類等に応じて適宜設定することができる。

【0064】

次に、露光後の第一の反射防止層用樹脂組成物層及び遮光層用樹脂組成物層に一括で現像処理を施して、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層及び前記遮光層用樹脂組成物層の未露光部分の樹脂組成物を除去することによって、前記無機フィラーと透明樹脂硬化物（前記第一の反射防止層用樹脂組成物の硬化物）とを含有する反射防止層及び前記遮光成分と樹脂硬化物（前記遮光層用樹脂組成物の硬化物）とを含有する遮光層が同時に形成される。さらに、前記反射防止層及び前記遮光層を十分に硬化させたり、現像液を十分に除去して前記透明基板と前記反射防止層との密着性を向上させたりするために、前記反射防止層及び前記遮光層に加熱処理（ポストベーク）を施すことによって、前記透明基板上に、前記反射防止層と前記遮光層とからなる遮光膜（遮光膜パターン）を備えている本発明の表示装置用基板を得ることができる。

【0065】

前記現像処理方法としては特に制限はなく、公知の現像方法を採用することができ、現像処理条件は、使用する光硬化性透明樹脂及び光硬化性樹脂の種類等に応じて適宜設定することができる。また、前記第一の反射防止層用樹脂組成物層中の光硬化性透明樹脂及び前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がアルカリ可溶性である場合には、アルカリ現像液を用いて現像処理（アルカリ現像処理）を行うことが好ましい。アルカリ現像液としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩や水酸化物の水溶液等の公知のアルカリ現像液を用いることができる。

【0066】

また、ポストベークにおける加熱温度及び加熱時間は、使用する透明基板や樹脂組成物の種類等に応じて適宜設定することができ、例えば、透明基板としてガラス基板等の耐熱性が十分なものを使用する場合には、加熱温度を１８０〜２５０℃に、加熱時間を２０〜６０分間に設定することができる。

【0067】

このようにして形成された遮光層の平均厚さは０．１〜３０μｍである。前記遮光層の平均厚さが前記下限未満になると、遮光性が低下し、他方、前記上限を超えると、前記アルカリ現像に要する時間が長くなり、生産性が低下する。このような遮光層の平均厚さとしては、遮光性と生産性を両立させるという観点から、０．５〜２０μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。なお、遮光層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて遮光層表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均して前記反射防止層と前記遮光層とからなる遮光膜の平均厚さを求め、この遮光膜の平均厚さから前記第一の反射防止層用樹脂組成物層の平均厚さを差引くことによって求めることができる。

【0068】

このように、本発明の第一の表示装置用基板の製造方法においては、第一の反射防止層用樹脂組成物及び遮光層用樹脂組成物のいずれにも光硬化性樹脂を使用しているため、第一の反射防止層用樹脂組成物層及び遮光層用樹脂組成物層に対して露光処理及び現像処理を一括で行うことができる。

【0069】

一方、本発明の第二の表示装置用基板の製造方法においては、先ず、前記透明基板上に、前記第二の反射防止層用樹脂組成物に加熱硬化処理を施して、前記無機フィラーと透明樹脂硬化物（前記第二の反射防止層用樹脂組成物の硬化物）とを含有する反射防止層を形成する。

【0070】

前記反射防止層の平均厚さは０．０１〜１μｍである。前記反射防止層の平均厚さが前記下限未満になると、前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の上限を超える傾向にあり、他方、前記上限を超えると、前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲の下限未満となる傾向にある。このような反射防止層の平均厚さとしては、前記反射防止層の表面粗さが所定の範囲内になりやすいという観点から、０．０２〜０．５μｍが好ましく、０．０４〜０．３μｍがより好ましい。なお、反射防止層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて反射防止層表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均することによって求めることができる。

【0071】

また、前記反射防止層の表面粗さは４０〜２００ｎｍである。前記反射防止層の表面粗さが前記下限未満になると、得られる遮光膜の反射率が十分に低減されず、遮光膜での光の反射を十分に防止することができない。他方、前記反射防止層の表面粗さが前記上限を超えると、得られる遮光膜の平坦性を所望のレベルにすることが困難になる。このような反射防止層の表面粗さとしては、得られる遮光膜の反射率が更に低くなり、遮光膜での光の反射が更に抑制され、また、遮光膜の平坦性を担保するという観点から、５０〜１８０ｎｍが好ましく、８０〜１６０ｎｍがより好ましい。なお、反射防止層の表面粗さは、触針式段差形状測定装置を用いて反射防止層表面の凹凸形状を測定して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線において無作為に抽出した０．１ｍｍの部分について粗さの算術平均値を求め、これを反射防止層の表面粗さとすることによって求めることができる。

【0072】

このような反射防止層を形成する方法としては、例えば、前記透明基板上に、前記第二の反射防止層用樹脂組成物溶液を塗布した後、この第二の反射防止層用樹脂組成物に加熱硬化処理を施す方法が挙げられる。

【0073】

第二の反射防止層用樹脂組成物溶液を塗布する方法としては、例えば、公知の溶液浸漬法、スプレー法のほか、ローラーコーター、ランドコーター、スリットコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。

【0074】

また、加熱硬化処理条件は、使用する透明基板や第二の反射防止層用樹脂組成物の種類等に応じて適宜設定することができ、例えば、透明基板としてガラス基板等の耐熱性が十分なものを使用する場合には、加熱温度を１８０〜２５０℃に、加熱時間を２０〜６０分間に設定することができる。

【0075】

次に、このようにして形成した反射防止層上に、前記遮光層用樹脂組成物からなる層（以下、「遮光層用樹脂組成物層」という）を形成する。このような遮光層用樹脂組成物層を形成する方法としては、例えば、前記第二の反射防止層用樹脂組成物層上に、前記遮光層用樹脂組成物溶液を塗布した後、加熱処理（プレベーク）を施すことにより有機溶媒を除去する方法が挙げられる。

【0076】

遮光層用樹脂組成物溶液を塗布する方法としては、例えば、公知の溶液浸漬法、スプレー法のほか、ローラーコーター、ランドコーター、スリットコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。プレベークにおける加熱温度及び加熱時間は、使用する有機溶媒の種類等に応じて適宜設定することができ、例えば、加熱温度を６０〜１１０℃（前記透明基板の耐熱温度を超えないように設定）に、加熱時間を１〜３分間に設定することができる。

【0077】

次に、このようにして形成した前記遮光層用樹脂組成物層に、所望の遮光膜パターン形成用マスクを用いて露光処理を施し、前記遮光層用樹脂組成物層の感光部分（露光部分）の光硬化性樹脂を光硬化させる。露光処理条件は、使用する光硬化性樹脂や光重合開始剤の種類等に応じて適宜設定することができる。

【0078】

次に、露光後の遮光層用樹脂組成物層に現像処理を施して、前記遮光層用樹脂組成物層の未露光部分の樹脂組成物を除去することによって、前記遮光成分と樹脂硬化物（前記遮光層用樹脂組成物の硬化物）とを含有する遮光層が形成される。さらに、前記遮光層を十分に硬化させたり、現像液を十分に除去するために、前記遮光層に加熱処理（ポストベーク）を施すことによって、前記透明基板上に、前記反射防止層と前記遮光層とからなる遮光膜（遮光膜パターン）を備えている本発明の表示装置用基板を得ることができる。

【0079】

前記現像処理方法としては特に制限はなく、公知の現像方法を採用することができ、現像処理条件は、使用する光硬化性樹脂の種類等に応じて適宜設定することができる。また、前記遮光層用樹脂組成物層中の光硬化性樹脂がアルカリ可溶性である場合には、アルカリ現像液を用いて現像処理（アルカリ現像処理）を行うことが好ましい。アルカリ現像液としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩や水酸化物の水溶液等の公知のアルカリ現像液を用いることができる。

【0080】

また、ポストベークにおける加熱温度及び加熱時間は、使用する透明基板や樹脂組成物の種類等に応じて適宜設定することができる。

【0081】

このようにして形成された遮光層の平均厚さは０．１〜３０μｍである。前記遮光層の平均厚さが前記下限未満になると、遮光性が低下し、他方、前記上限を超えると、前記アルカリ現像に要する時間が長くなり、生産性が低下する。このような遮光層の平均厚さとしては、遮光性と生産性を両立させるという観点から、０．５〜２０μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。なお、遮光層の平均厚さは、触針式段差形状測定装置を用いて遮光層表面と透明基板表面との段差を測定し、これを平均して前記反射防止層と前記遮光層とからなる遮光膜の平均厚さを求め、この遮光膜の平均厚さから前記反射防止層の平均厚さを差引くことによって求めることができる。

【実施例】

【0082】

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例及び比較例で使用した無機フィラー及び遮光成分の平均粒子径、反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）及び遮光層の平均厚さ、並びに反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の表面粗さは以下の方法により測定した。

【0083】

＜無機フィラー及び遮光成分の平均粒子径測定＞
無機フィラー又は遮光成分の粒子を、粒子濃度が０．１〜０．５質量％となるように、樹脂組成物溶液に使用する有機溶媒に分散させた。得られた分散液中の粒子の粒度分布を、粒度分布計（大塚電子株式会社製「粒径アナライザーＦＰＡＲ−１０００」）を用いて動的光散乱法により測定し、得られた粒度分布をキュムラント法により解析して平均粒子径（平均二次粒子径）を求めた。

【0084】

＜反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の平均厚さ測定＞
触針式段差形状測定装置（ケーエルエー・テンコール社製「Ｐ−１０」）を用い、測定範囲５００μｍ、走査速度５０μｍ／秒、サンプリングレート２０Ｈｚの条件で、ガラス基板表面と反射防止層表面（又は反射防止層用樹脂組成物層表面）との段差を測定し、その平均値を反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の平均厚さとした。

【0085】

＜遮光層の平均厚さ測定＞
触針式段差形状測定装置（ケーエルエー・テンコール社製「Ｐ−１０」）を用い、測定範囲５００μｍ、走査速度５０μｍ／秒、サンプリングレート２０Ｈｚの条件で、ガラス基板表面と遮光層表面との段差を測定し、その平均値を反射防止層と遮光層とからなる遮光膜の平均厚さとした。この遮光膜の平均厚さから前記反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の平均厚さを差引くことによって遮光層の平均厚さ（＝遮光膜の平均厚さ−反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の平均厚さ）を求めた。

【0086】

＜反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の表面粗さ測定＞
触針式段差形状測定装置（ケーエルエー・テンコール社製「Ｐ−１０」）を用い、測定範囲５００μｍ、走査速度１０μｍ／秒、サンプリングレート１００Ｈｚの条件で、反射防止層表面（又は反射防止層用樹脂組成物層表面）の凹凸形状を測定して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線において無作為に抽出した長さ０．１ｍｍの部分について粗さの算術平均値を求め、これを反射防止層（又は反射防止層用樹脂組成物層）の表面粗さとした。その結果を表１に示す。

【0087】

また、実施例及び比較例で使用したアルカリ可溶性の光硬化性透明樹脂は以下の方法により合成した。なお、合成例で使用した原料を以下に示す。
ＢＰＦＥ：ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物（９，９−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）フルオレンとクロロメチルオキシランとの反応物（エポキシ当量：
２５０ｇ／ｅｑ）。
ＡＡ：アクリル酸。
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。
ＴＥＡＢ：臭化テトラエチルアンモニウム。
ＢＰＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物。
ＴＨＰＡ：テトラヒドロ無水フタル酸。
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート。
ＤＣＰＭＡ：ジシクロペンタニルメタクリレート。
ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート。
Ｓｔ：スチレン。
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル。
ＴＤＭＡＭＰ：トリスジメチルアミノメチルフェノール。
ＨＱ：ハイドロキノン。
ＴＥＡ：トリエチルアミン。

【0088】

（合成例１）
還留冷却器付き四つ口フラスコ（容量５００ｍｌ）中に、ＢＰＦＥ（１１４．４ｇ（０．２３モル））、ＡＡ（３３．２ｇ（０．４６モル））、ＰＧＭＥＡ（１５７ｇ）及びＴＥＡＢ（０．４８ｇ）を仕込み、１００〜１０５℃で２０時間撹拌して反応させた。次いで、前記フラスコ内の反応生成物にＢＰＤＡ（３５．３ｇ（０．１２モル））及びＴＨＰＡ（１８．３ｇ（０．１２モル））を添加し、１２０〜１２５℃で６時間撹拌して光硬化性カルド樹脂を含有する樹脂溶液を得た。この樹脂溶液の固形分濃度は５６．１質量％であり、酸価（固形分換算）は１０３ｍｇＫＯＨ／ｇであり、ＧＰＣ分析によるＭｗは３６００であった。

【0089】

（合成例２）
還留冷却器付き四つ口フラスコ（容量１Ｌ）中に、ＰＧＭＥＡ（３００ｇ）を入れ、フラスコ内の気相を窒素で置換した後、１２０℃に昇温した。このフラスコ内にモノマー混合物（ＢｚＭＡ（３５．２ｇ（０．２０モル））、ＤＣＰＭＡ（７７．１ｇ（０．３５モル））、ＧＭＡ（４９．８ｇ（０．３５モル））及びＳｔ（１０．４ｇ（０．１０モル））の液状混合物にＡＩＢＮ（１０ｇ）を溶解した混合溶液）を滴下ロートから２時間かけて滴下し、その後、１２０℃で２時間撹拌して共重合体溶液を得た。

【0090】

次いで、フラスコ系内の気相を空気で置換した後、このフラスコ内の前記共重合体溶液にＡＡ（２４．０ｇ（グリシジル基の９５％））、ＴＤＭＡＭＰ（０．８ｇ）及びＨＱ（０．１５ｇ）を添加し、１２０℃で６時間撹拌して重合性不飽和基含有共重合体溶液を得た。

【0091】

さらに、この重合性不飽和基含有共重合体溶液にＴＨＰＡ（４５．７ｇ（ＡＡ添加モル数の９０％））、ＴＥＡ（０．５ｇ）を添加し、１２０℃で４時間反応させて光硬化性アクリル樹脂を含有する樹脂溶液を得た。この樹脂溶液の固形分濃度は４６質量％であり、酸価（固形分換算）は６８ｍｇＫＯＨ／ｇであり、ＧＰＣ分析によるＭｗは７９００であった。

【0092】

さらに、実施例及び比較例で使用したその他の各成分を以下に示す。
（熱硬化性透明樹脂）
エポキシ樹脂：２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（株式会社ダイセル有機合成カンパニー製「ＥＨＰＥ３１５０」）。
（光重合性モノマー）
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物（日本化薬株式会社製「ＤＰＨＡ」）。
（硬化剤）
ＴＭＡ：トリメリット酸。
（重合開始剤）
ＯＸＥ０２：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュアＯＸＥ０２」）。
（無機フィラー）
シリカＡ：ヒュームドシリカ（日本アエロジル株式会社製「アエロジル」）、屈折率：１．４６、平均粒子径（分布測定：動的光散乱法、分布解析：キュムラント法）：１７０ｎｍ。
シリカＢ：オルガノシリカゾル（日産化学株式会社製「ＰＭＡ―ＳＴ」）、屈折率：１．４６、平均粒子径（分布測定：動的光散乱法、分布解析：キュムラント法）：２０ｎｍ。
（遮光成分）
カーボンブラック：カーボンブラック（三菱ケミカル株式会社製「ＭＡ１４」）、平均粒子径（分布測定：動的光散乱法、分布解析：キュムラント法）：１５０ｎｍ。
（有機溶媒）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。

【0093】

（実施例１）
先ず、各成分が表１に示す含有量となるように、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂を含有する樹脂溶液、シリカＡ及びＰＧＭＥＡを混合して反射防止層用樹脂組成物溶液を調製した。また、各成分が表１に示す含有量となるように、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂を含有する樹脂溶液、ＤＰＨＡ、カーボンブラック、ＯＸＥ０２及びＰＧＭＥＡを混合して遮光層用樹脂組成物溶液を調製した。

【0094】

次に、ガラス基板上に、反射防止層用樹脂組成物溶液をスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で１分間加熱（プレベーク）して、平均厚さが８０ｎｍの反射防止層用樹脂組成物層を形成した。この反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは７５ｎｍであった。

【0095】

この反射防止層用樹脂組成物層上に、遮光層用樹脂組成物溶液をスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で１分間加熱（プレベーク）して遮光層用樹脂組成物層を形成した。

【0096】

このようにして形成した反射防止層用樹脂組成物層と遮光層用樹脂組成物層とからなる積層塗膜に、露光ギャップを１００μｍに調整して、ライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍの遮光膜パターン形成用マスクを被せ、ｉ線強度３０ｍＷ／ｃｍ^２の超高圧水銀ランプを用いて５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して一括で露光を行い、感光部分の樹脂を光硬化させた。露光後の積層塗膜に、０．０４％水酸化カリウム水溶液を用い、２４℃、１ｋｇｆ／ｃｍ^２圧の条件でシャワー現像を開始し、パターンが現れ始めた後、さらに２０秒間シャワー現像を継続した。その後、５ｋｇｆ／ｃｍ^２圧でスプレー水洗を行い、積層塗膜の未露光部分を除去して、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。その後、この遮光膜パターンに、熱風乾燥機を用いて２３０℃で３０分間加熱処理（ポストベーク）を施した。なお、前記遮光層パターンの平均厚さは１．３μｍであった。

【0097】

（実施例２〜３）
反射防止層用樹脂組成物溶液において、各成分が表１に示す含有量となるように、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂の樹脂溶液及びシリカＡの配合量を変更した以外は実施例１と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、実施例２で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは９８ｎｍであり、実施例３で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは１４２ｎｍであった。

【0098】

（実施例４）
平均厚さが４０ｎｍの反射防止層用樹脂組成物層を形成した以外は実施例３と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、実施例４で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは１５０ｎｍであった。

【0099】

（実施例５）
平均厚さが２００ｎｍの反射防止層用樹脂組成物層を形成した以外は実施例３と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、実施例５で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは５０ｎｍであった。

【0100】

（実施例６）
反射防止層用樹脂組成物溶液において、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂の樹脂溶液の代わりに合成例２で得られた光硬化性アクリル樹脂の樹脂溶液を用いた以外は実施例３と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、実施例６で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは１３１ｎｍであった。

【0101】

（実施例７）
先ず、各成分が表１に示す含有量となるように、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂の樹脂溶液、エポキシ樹脂、ＴＭＡ、シリカＡ及びＰＧＭＥＡを混合して反射防止層用樹脂組成物溶液を調製した。また、実施例１と同様にして遮光層用樹脂組成物溶液を調製した。

【0102】

次に、ガラス基板上に、反射防止層用樹脂組成物溶液をスピンコーターを用いて塗布した後、熱風乾燥機を用いて２３０℃で３０分間加熱硬化処理を施して、平均厚さが８０ｎｍの反射防止層を形成した。この反射防止層の表面粗さは６５ｎｍであった。

【0103】

この反射防止層上に、遮光層用樹脂組成物溶液をスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて９０℃で１分間加熱（プレベーク）して遮光層用樹脂組成物層を形成した。

【0104】

このようにして形成した遮光層用樹脂組成物層に、露光ギャップを１００μｍに調整して、ライン／スペース＝２０μｍ／２０μｍの遮光膜パターン形成用マスクを被せ、ｉ線強度３０ｍＷ／ｃｍ^２の超高圧水銀ランプを用いて５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して露光を行い、感光部分の樹脂を光硬化させた。露光後の遮光層用樹脂組成物層に、０．０４％水酸化カリウム水溶液を用い、２４℃、１ｋｇｆ／ｃｍ^２圧の条件でシャワー現像を開始し、パターンが現れ始めた後、さらに２０秒間シャワー現像を継続した。その後、５ｋｇｆ／ｃｍ^２圧でスプレー水洗を行い、遮光層用樹脂組成物層の未露光部分を除去して、反射防止層と遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。その後、この遮光膜パターンに、熱風乾燥機を用いて２３０℃で３０分間加熱処理（ポストベーク）を施した。なお、前記遮光層パターンの平均厚さは１．３μｍであった。

【0105】

（実施例８）
反射防止層用樹脂組成物溶液において、各成分が表１に示す含有量となるように、エポキシ樹脂、ＴＭＡ、シリカＡ及びＰＧＭＥＡを混合した以外は実施例７と同様にして、反射防止層と遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、実施例８で得られた反射防止層の表面粗さは７０ｎｍであった。

【0106】

（比較例１）
反射防止層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、遮光層パターンのみからなる遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。

【0107】

（比較例２）
反射防止層用樹脂組成物溶液において、各成分が表１に示す含有量となるように、合成例１で得られた光硬化性カルド樹脂の樹脂溶液及びＰＧＭＥＡを混合した以外は実施例１と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、比較例２で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは１１ｎｍであった。

【0108】

（比較例３）
平均粒子径が１７０ｎｍのシリカＡの代わりに平均粒子径が２０ｎｍのシリカＢを用いた以外は実施例３と同様にして、反射防止層パターンと遮光層パターンとがこの順で積層されている遮光膜パターンをガラス基板上に形成した。なお、比較例３で得られた反射防止層用樹脂組成物層の表面粗さは３０ｎｍであった。

【0109】

＜遮光度（ＯＤ値）測定＞
得られた遮光膜パターン付きガラス基板について、光学濃度計（サカタインクスエンジニアリング株式会社製「Ｘ−Ｒｉｔｅ３６１Ｔ（Ｖ）」）を用いて光学濃度（ＯＤ値）を測定し、これをガラス基板の光学濃度（ＯＤ値）で補正して遮光膜の遮光度（ＯＤ値）を求めた。その結果を表１に示す。

【0110】

＜反射率測定＞
得られた遮光膜パターン付きガラス基板の遮光膜パターンが形成されていない面側から、分光測色計（株式会社日立ハイテクサイエンス製「ＵＨ４１５０」）を用いて、Ｃ光源、２°視野の条件で反射率［％］を測定した。その結果を表１に示す。

【0111】

【表1】

【0112】

表１に示したように、特定の表面粗さを有する反射防止層用樹脂組成物層を硬化させることによって形成した反射防止層を備える遮光膜パターン（実施例１〜６）及び特定の表面粗さを有する反射防止層を備える遮光膜パターン（実施例７〜８）は、反射防止層のない遮光膜パターン（比較例１）、反射防止層に無機フィラーが含まれていない遮光膜パターン（比較例２）、及び表面粗さが小さい反射防止層用樹脂組成物層を硬化させることによって形成した反射防止層を備える遮光膜パターン（比較例３）に比べて、反射率が低減されることが確認された。

【産業上の利用可能性】

【0113】

以上説明したように、本発明によれば、光の反射が十分に抑制された遮光膜を得ることが可能となる。したがって、本発明の表示装置用基板は、光の反射が十分に抑制された遮光膜を備えているため、液晶ディスプレイ、タッチパネル、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ等の表示装置に用いられる基板として有用である。