特開2021-176184(P2021-176184A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2021-176184面内磁化膜、面内磁化膜多層構造、ハードバイアス層、磁気抵抗効果素子、およびスパッタリングターゲット
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