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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第1418位 12件
(
2025年:第1760位 12件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1046位 15件
(
2025年:第977位 21件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7923766 | 高硬度貴金属合金及びその製造方法 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7923685 | バリア層及びバリア層の形成方法並びに配線基板 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7919013 | パラジウムコバルト酸化物薄膜、デラフォサイト型酸化物薄膜、デラフォサイト型酸化物薄膜を有するショットキー電極、パラジウムコバルト酸化物薄膜の製造方法及びデラフォサイト型酸化物薄膜の製造方法 | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7917686 | 触媒粉末、触媒層、触媒被覆膜、および触媒粉末の製造方法 | 2026年 9月 8日 | |
| 特許 7913715 | AgAuTeS化合物を主成分とする半導体ナノ粒子 | 2026年 9月 1日 | |
| 特許 7891818 | Co-Cr-Pt-B系強磁性体スパッタリングターゲット | 2026年 7月17日 | |
| 特許 7879764 | 面内磁化膜、面内磁化膜多層構造、ハードバイアス層、磁気抵抗効果素子、およびスパッタリングターゲット | 2026年 6月24日 | |
| 特許 7872330 | イムノクロマトグラフ用試験ストリップ | 2026年 6月 9日 | |
| 特許 7869687 | 化学蒸着法によるルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の製造方法及びルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜 | 2026年 6月 3日 | |
| 特許 7865877 | Pt-酸化物系スパッタリングターゲット及び垂直磁気記録媒体 | 2026年 5月26日 | |
| 特許 7855202 | 耐CO触媒被毒性に優れた固体高分子形燃料電池用のアノード触媒 | 2026年 5月 8日 | |
| 特許 7854354 | Co-Cr-Pt-酸化物系スパッタリングターゲット | 2026年 5月 1日 | |
| 特許 7852868 | AgTeS化合物を主成分とする半導体ナノ粒子 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7852867 | PdCu系合金からなる水素透過膜 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7840543 | 白金-ルテニウム合金薄膜の形成方法 | 2026年 4月 6日 |
22 件中 1-15 件を表示
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7923766 7923685 7919013 7917686 7913715 7891818 7879764 7872330 7869687 7865877 7855202 7854354 7852868 7852867 7840543
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AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
10月13日(火) - 東京 港区
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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