特開2021-177563磁気トンネル接合を堆積するための超平滑底部電極面の形成方法

発明の名称　磁気トンネル接合を堆積するための超平滑底部電極面の形成方法

出願人　アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド　（識別番号 390040660）

　　　　特許公開件数ランキング 43 位（548件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 35 位（547件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2021-177563

公報発行日　2021年11月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2021-177563

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