カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】良好なＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩、カルボン酸発生剤及びレジスト組成物。

［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、−Ｏ−Ｌ^１−ＣＯ−Ｏ−Ｒ^１０等、Ｌ^１はアルカンジイル基を表す。Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^７及びＲ^８は、ハロゲン原子、フッ化アルキル基又は炭化水素基を表す。Ｒ^１０は脂環式炭化水素基を表し、該基中の−ＣＨ₂−の一つは、−ＣＯ−又は式（Ｒ^１０−１）で表される基に置き換わっている。Ｘ^１及びＸ^２は、Ｏ又はＳを表す。ｍ１は１〜５、ｍ２及びｍ８は０〜５、ｍ４、ｍ５及びｍ７は０〜４の整数を表す。但し、１≦ｍ１＋ｍ７≦５、０≦ｍ２＋ｍ８≦５である。Ｘ^０は、炭化水素基を表す。］
【選択図】なし

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