特開2021-40154(P2021-40154A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2021-40154ｎ型酸化物半導体膜形成用塗布液、ｎ型酸化物半導体膜の製造方法、及び電界効果型トランジスタの製造方法
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