特開2021-75772IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

電気接点用材料およびその製造方法、コネクタ端子、コネクタならびに電子部品

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】高電圧大電流を印加した場合であっても、十分な耐性レベルをもつ低い接触抵抗値を有するとともに、動摩擦係数も低く、さらに、銅合金基材上への各層の積層形成後に施される熱処理における加熱後の耐熱密着性にも優れた電気接点用材料、およびその製造方法、コネクタ端子、コネクタならびに電子部品を提供すること。
【解決手段】本発明の電気接点用材料は、銅(Cu)を主成分として含有する導電性基材の少なくとも片面上に、ニッケル(Ni)を主成分として含有するNi含有層を少なくとも含む下地層、ならびに銀(Ag)および錫(Sn)を主成分として含有する表層を有し、この電気接点用材料の厚さ方向を含む断面で見て、表層と下地層とで形成される界面に存在する結晶粒界の数(界面粒界数)が、界面の延在長さ10μm当たり5〜60個の範囲であることを特徴とする。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献1に記載の電子部品用金属材料は、最表層にSn層を有し、接触抵抗値がAg層に比べて高いことから、高電圧大電流への耐性を必要とするコネクタには適用できない。また、特許文献1に記載の電子部品用金属材料は、銅合金基材とAg層(中層)との間に、バリア層(下層)としてのNi層を形成し、銅合金基材の構成金属(Cu)が上層に拡散するのを防止する対策が講じられているが、Ni層の構成金属であるNiと、Ni層上に形成されたAg層の構成金属であるAgとは、化合物を形成しないため、銅合金基材上への各層の積層形成後に施される熱処理における加熱後の密着強度が低いといった問題がある。 本発明は、以上の実情に鑑みてなされたものであり、導電性基材上に積層形成される下地層および表層を含む各層の組成、および下地層および表層の界面に存在する結晶粒界の数(界面粒界数)の適正化を図ることにより、高電圧大電流を印加した場合であっても、十分な耐性レベルをもつ低い接触抵抗値を有するとともに、動摩擦係数も低く、さらに、銅合金基材上への各層の積層形成後に施される熱処理における加熱後の耐熱密着性にも優れた電気接点用材料、およびその製造方法、コネクタ端子、コネクタならびに電子部品を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者らは、上述した目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、銅(Cu)を主成分として含有する導電性基材の少なくとも片面上に、ニッケル(Ni)を主成分として含有するNi含有層を少なくとも含む下地層、ならびに銀(Ag)および錫(Sn)を主成分として含有する表層を有する電気接点用材料であって、前記電気接点用材料の厚さ方向を含む断面で見て、表層と下地層とで形成される界面に存在する結晶粒界の数(界・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、高電圧大電流を印加した場合であっても、十分な耐性レベルをもつ低い接触抵抗値を有するとともに、動摩擦係数も低く、さらに、銅合金基材上への各層の積層形成後に施される熱処理における加熱後の耐熱密着性にも優れた電気接点用材料およびその製造方法、コネクタ端子、コネクタならびに電子部品を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の電気接点用材料の厚さ方向を含む断面の模式図である。

【図2】界面粒界数および表面粒界数の算出方法を説明するための模式図であって、電気接点用材料1の厚さ方向を含む断面を模式的に示したものである。

【図3】本発明の電気接点用材料の表層のX線回折パターンの一例である。

【図4】本発明の電気接点用材料の変形例の厚さ方向を含む断面の模式図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1,1A 電気接点用材料   11、11A 導電性基材   12、12A 下地層   121A Ni層   122A Cu層   13、13A 表層   131 結晶粒界

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