特開2021-77716IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

プリント基板およびプリント基板の製造方法に関するものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】再設計を行うことなく、高周波特性が優れた接着層を利用すること。
【解決手段】少なくとも1の誘電体層と、少なくとも1の導体層とが積層されて構成されるプリント基板(多層プリント基板10)において、導体層14と誘電体層12との間に介在する接着層13を有し、接着層13の厚さt(μm)は、導体層に形成される線路のインピーダンスをt=0(μm)の場合と比較した際のインピーダンス変化率pが0%<p≦5%を満たすように構成されている、ことを特徴とする。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、特許文献1に開示された技術を用いるとともに、接着層を高性能にすることで、高周波特性を改善することができる。しかしながら、接着層の材料を変更すると、プリント基板全体の誘電率が変化する。 例えば、接着層に高性能なものを使用しない従来のプリント基板用に設計した回路パターンを、接着層に高性能なものを使用したプリント基板に用いると、高周波の特性インピーダンスが変化し、インピーダンス不整合による反射損失が増大するため、再度回路パターンの設計を行う必要があるという問題点がある。 本発明は、再設計を行うことなく、高周波特性が優れた接着層を利用可能なプリント基板およびプリント基板の製造方法を提供することを目的としている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

課題を解決するために、本発明は、少なくとも1の誘電体層と、少なくとも1の導体層とが積層されて構成されるプリント基板において、前記導体層と前記誘電体層との間に介在する接着層を有し、前記接着層の厚さt(μm)は、前記導体層に形成される線路のインピーダンスをt=0(μm)の場合と比較した際のインピーダンス変化率pが0%<p≦5%を満たすように構成されている、ことを特徴とする。 このような構・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、再設計を行うことなく、高周波特性が優れた接着層を利用可能なプリント基板およびプリント基板の製造方法を提供することが可能となる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の第1プリント基板の構成例を示す断面図である。

【図2】図1に示す第1実施形態のインピーダンス変化率を調べるためのシミュレーションの構成例を示す図である。

【図3】図2におけるTDR波形の一例を示す図である。

【図4】TaおよびTbの決定方法の一例を示す図である。

【図5】図2におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図6】プリント基板の誤差について説明するための図である。

【図7】図2におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図8】本発明の第2プリント基板の構成例を示す断面図である。

【図9】図8に示す第2実施形態のインピーダンス変化率を調べるためのシミュレーションの構成例を示す図である。

【図10】図9におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図11】図9におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図12】図9におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図13】本発明の第3プリント基板の構成例を示す断面図である。

【図14】図13に示す第3実施形態のインピーダンス変化率を調べるためのシミュレーションの構成例を示す図である。

【図15】図14におけるTDR波形の一例を示す図である。

【図16】TaおよびTbの決定方法の一例を示す図である。

【図17】図14におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図18】図14におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図19】図14におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図20】図14におけるシミュレーション結果を示す図である。

【図21】本発明の第4プリント基板の構成例を示す断面図である。

【図22】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図23】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図24】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図25】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図26】インピーダンスを実測する際の基板の断面図である。

【図27】インピーダンスを実測する際の基板の断面図である。

【図28】インピーダンスを実測する際の測定装置の構成例である。

【図29】図28による実測結果を示す図である。

【図30】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図31】接着層の厚さを実測する際の基板のSEM像である。

【図32】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図33】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図34】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図35】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図36】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図37】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図38】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図39】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

【図40】本発明の変形実施形態のシミュレーション結果を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

10 プリント基板   11 グランド層   12 誘電体層   13 接着層   14 導体層   15 誘電体層   16 グランド層

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