特開 2021-88773出願番号 特願 2021-19422
スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材の製造方法、および圧電薄膜付き積層基板の製造方法
公報発行日 2021年6月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2021-88773 ログイン済みの方はこのURLへ
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技術分野
圧電薄膜付き積層基板、圧電薄膜素子およびその製造方法
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】組成式（Ｋ１−ｘＮａｘ）ＮｂＯ３（０＜ｘ＜１）で表される焼結体からなるスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】組成式（Ｋ１−ｘＮａｘ）ＮｂＯ３（０＜ｘ＜１）で表される焼結体からなり、ＣｕおよびＭｎからなる群より選択される金属元素を０．２ａｔ％以上０．６ａｔ％以下の濃度で含むスパッタリングターゲット材。
【選択図】図１
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の目的は、アルカリニオブ酸化物を用いて製膜された圧電薄膜の膜特性を向上させることにある。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の一態様によれば、
基板と、前記基板上に製膜された電極膜と、前記電極膜上に製膜された圧電薄膜と、を備え、
前記圧電薄膜は、
組成式（Ｋ１−ｘＮａｘ）ＮｂＯ３（０＜ｘ＜１）で表されるペロブスカイト構造のアルカリニオブ酸化物が（００１）面方位に優先配向してなり、
ＭｎおよびＣｕからなる群より選択される金属元素を、０．２ａｔ％以上０．６ａｔ％以下の濃度で含む圧電薄膜付き積層基・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、アルカリニオブ酸化物を用いて製膜された圧電薄膜の膜特性を向上させることが可能となる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】本発明の一実施形態における積層基板の断面構造を示す図である。
【図2】本発明の他の実施形態における積層基板の断面構造を示す図である。
【図3】ニオブ酸カリウムナトリウムの結晶構造を示す概略構成図である。
【図4】本発明の一実施形態における圧電薄膜デバイスの概略構成図である。
【図5】本発明の一実施形態における圧電薄膜素子の製造工程の一工程を示す図である。
【図6】本発明の一実施形態における圧電薄膜素子の製造工程の一工程を示す図である。
【図7】本発明の一実施形態における圧電薄膜素子の製造工程の一工程を示す図である。
【図8】（ａ）は圧電薄膜のエッチング耐性に関する評価結果を、（ｂ）は圧電薄膜の絶縁性に関する評価結果を、（ｃ）は圧電薄膜の比誘電率に関する評価を示す図である。
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