特許5668710高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法

発明の名称　高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（373件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（371件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5668710

公報発行日　2015年2月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5668710

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