特許第5700269号(P5700269)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5700269フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜
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