特許5700269フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜

発明の名称　フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜

出願人　ＤＩＣ株式会社　（識別番号 2886）

　　　　特許公開件数ランキング 161 位（205件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 89 位（279件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5700269

公報発行日　2015年4月15

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5700269

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