特許5723639レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物

発明の名称　レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物

出願人　東京応化工業株式会社　（識別番号 220239）

　　　　特許公開件数ランキング 241 位（130件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 372 位（67件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5723639

公報発行日　2015年5月27

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5723639

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