特許5727350リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法

発明の名称　リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（377件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（372件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5727350

公報発行日　2015年6月3

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5727350

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