特許 5729377 ガスバリア積層体及び円偏光板

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5729377

(24)【登録日】2015年4月17日

(45)【発行日】2015年6月3日

(54)【発明の名称】ガスバリア積層体及び円偏光板

(51)【国際特許分類】

   B32B 9/00 20060101AFI20150514BHJP

   H05B 33/04 20060101ALI20150514BHJP

【ＦＩ】

   B32B9/00 A

   H05B33/04

【請求項の数】11

【全頁数】28

(21)【出願番号】特願2012-507046(P2012-507046)

(86)(22)【出願日】2011年3月23日

(86)【国際出願番号】JP2011057043

(87)【国際公開番号】WO2011118661

(87)【国際公開日】20110929

【審査請求日】2013年9月13日

(31)【優先権主張番号】特願2010-70943(P2010-70943)

(32)【優先日】2010年3月25日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000229117

【氏名又は名称】日本ゼオン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100089118

【弁理士】

【氏名又は名称】酒井 宏明

(72)【発明者】

【氏名】円谷 学

(72)【発明者】

【氏名】井上 弘康

【審査官】 平井 裕彰

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−００１１５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−３３２２７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１７８９５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−１５６５２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−２１９８２５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００ 〜４３／００

Ｇ０２Ｂ １／１０

５／３０

Ｇ０２Ｆ １／１３３５

Ｈ０１Ｌ５１／５０

Ｈ０５Ｂ３３／０２ 〜３３／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

フィルム（ａ）と無機バリア層（ａ）とを有する複合層Ａ、及び脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）と無機バリア層（ｂ）とを有する複合層Ｂを備えるガスバリア積層体であって、
前記複合層Ａの表面及び前記複合層Ｂの表面が対向し貼付されてなり、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）は、その前記複合層Ａに対向する側の面が、活性化処理された面であり、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面は、金属アルコキシドにより構成された金属アルコキシド層（ｂ）を介して、前記複合層Ａに接する、ガスバリア積層体。

【請求項2】

前記複合層Ｂが、前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面に接して設けられた前記金属アルコキシド層（ｂ）を有し、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面は、前記金属アルコキシド層（ｂ）を介して、前記複合層Ａに接する、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項3】

前記複合層Ａ及び前記複合層Ｂが、熱圧着により貼付されてなる、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項4】

前記複合層Ａが、前記フィルム（ａ）又は前記無機バリア層（ｂ）の、活性化処理された面に接して設けられた金属アルコキシド層（ａ）をさらに有し、
前記複合層Ｂに対向する側の、前記複合層Ａの表面が、前記金属アルコキシド層（ａ）の面である、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項5】

前記複合層Ｂに対向する側の、前記複合層Ａの表面が、前記フィルム（ａ）又は前記無機バリア層（ｂ）の、活性化処理された面である、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項6】

前記活性化処理された面が、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理、及びコロナ処理からなる群より選択される処理により処理された面である、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項7】

前記複合層Ａのフィルム（ａ）が、脂環式オレフィン樹脂からなるフィルムである、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項8】

前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方又は両方が延伸フィルムである、請求項１に記載のガスバリア積層体。

【請求項9】

前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方又は両方が、１／４波長板である、請求項８に記載のガスバリア積層体。

【請求項10】

前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方が１／４波長板であり、他方が１／２波長板であり、前記１／４波長板の遅相軸と前記１／２波長板の遅相軸との交差角が５７°〜６３°である、請求項９に記載のガスバリア積層体。

【請求項11】

請求項１に記載のガスバリア積層体と、偏光子とを有する円偏光板。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガスバリア積層体及びそれを備える円偏光板に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置並びに有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」ということがある。）を有する表示装置、光源装置、有機太陽電池、あるいは色素増感太陽電池においては、装置を構成する素子の保護などの目的で、水分及び酸素の透過を妨げる機能を有するガスバリア層を用いることが知られている。

【0003】

かかるガスバリア層としては、透湿度（水分を透過する割合）が小さい材料が好ましい。そのような材料として、脂環式オレフィンを含む樹脂及び各種の無機材料が知られている。かかる材料を有するガスバリア層において、無機材料の層を厚くすればガスバリア性能が高まるが、厚い層を一層設けると可とう性、耐久性等が低減しうるため、複数の樹脂の層及び複数の比較的薄い無機材料の層を交互に成膜して積層した構造を有するガスバリア積層体が提案されている（例えば特許文献１及び２）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００９−１９０１８６号公報

【特許文献2】特開２００５−３２７６８７号公報（対応ヨーロッパ公報：ＥＰ１７６８４６３ （Ａ１））

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

複数の無機材料の層を蒸着等の方法により交互に成膜する場合、真空度の高い環境下において成膜工程を行う必要があるが、かかる交互の成膜の操作においては、樹脂の層からのアウトガスが蒸着の操作を妨げたり、蒸着される層の品質を損ないガスバリア性能を劣化させたりすることが多い。

【0006】

複数の無機材料の層を有する積層体を得るための別の手段としては、無機材料の単層を有するフィルムを複数枚調製し、これらを接着剤を介して接着する方法が考えられる。しかしながら、このようにして得られた積層体においては、接着剤層の耐久性の低さや、脂環式オレフィン樹脂を含む層と接着剤の層との熱膨張率及び湿度膨張率の違い等に基づいて、耐久性が損なわれ、高温高湿の環境下におけるガスバリア性能が経時的に劣化しやすい。

【0007】

また、脂環式オレフィン樹脂の層を、位相差を調節する機能など、装置に求められるガスバリア以外の機能を有する層とすることができれば、装置全体の厚さの低減、装置全体としての高温高湿の環境に対する経時的な耐久性、製造工程の簡素化、製造コストの低減等の観点から望ましい。

【0008】

したがって、本発明の目的は、ガスバリア性能が高く、高温高湿の環境下においてもガスバリア性能の劣化が少なく、且つ容易に製造しうるガスバリア積層体を提供することにある。

【0009】

本発明の別の目的は、容易に製造することができ、高いガスバリア層としての機能をも兼ね備え、装置全体としての厚さを低減することができる円偏光板を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上述した課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、ガスバリア積層体を、脂環式オレフィン樹脂の層と無機バリア層とを有する複合層を所定の態様で貼り合せることにより、当該課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
本発明によれば、下記のものが提供される。
〔１〕 フィルム（ａ）と無機バリア層（ａ）とを有する複合層Ａ、及び脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）と無機バリア層（ｂ）とを有する複合層Ｂを備えるガスバリア積層体であって、
前記複合層Ａの表面及び前記複合層Ｂの表面が対向し貼付されてなり、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）は、その前記複合層Ａに対向する側の面が、活性化処理された面であり、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面は、直接又は金属アルコキシド層（ｂ）を介して、前記複合層Ａに接する、ガスバリア積層体。
〔２〕 前記複合層Ｂが、前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面に接して設けられた前記金属アルコキシド層（ｂ）をさらに有し、
前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の前記活性化処理された面は、前記金属アルコキシド層（ｂ）を介して、前記複合層Ａに接する、〔１〕に記載のガスバリア積層体。
〔３〕 前記複合層Ａ及び前記複合層Ｂが、熱圧着により貼付されてなる、〔１〕又は〔２〕に記載のガスバリア積層体。
〔４〕 前記複合層Ａが、前記フィルム（ａ）又は前記無機バリア層（ｂ）の、活性化処理された面に接して設けられた金属アルコキシド層（ａ）を有し、
前記複合層Ｂに対向する側の、前記複合層Ａの表面が、前記金属アルコキシド層（ａ）の面である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
〔５〕 前記複合層Ｂに対向する側の、前記複合層Ａの表面が、前記フィルム（ａ）又は前記無機バリア層（ｂ）の、活性化処理された面である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
〔６〕 前記活性化処理された面が、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理、及びコロナ処理からなる群より選択される処理により処理された面である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
〔７〕 前記複合層Ａのフィルム（ａ）が、脂環式オレフィン樹脂からなるフィルムである、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
〔８〕 前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方又は両方が延伸フィルムである、〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体。
〔９〕 前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方又は両方が、１／４波長板である、〔８〕に記載のガスバリア積層体。
〔１０〕 前記フィルム（ａ）及び前記脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）のうちの一方が１／４波長板であり、他方が１／２波長板であり、前記１／４波長板の遅相軸と前記１／２波長板の遅相軸との交差角が５７°〜６３°である、〔９〕に記載のガスバリア積層体。
〔１１〕 〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載のガスバリア積層体と、偏光子とを有する円偏光板。

【発明の効果】

【0011】

本発明のガスバリア積層体は、複数の無機バリア層及び脂環式オレフィン樹脂のフィルムを有するためガスバリア性能が高く、且つ、これらが所定の態様で積層されているため、高温高湿の環境下においてもガスバリア性能の劣化が少なく、且つ容易に製造しうる。したがって、本発明のガスバリア積層体は、液晶表示装置並びに有機ＥＬ素子を有する表示装置、光源装置、有機太陽電池、あるいは色素増感太陽電池等の装置におけるガスバリア層として有用に用いることができる。

【0012】

本発明の円偏光板は、偏光子に加えて前記本発明のガスバリア積層体を有するため、良好なガスバリア層としての機能をも有する円偏光板として、特に液晶表示装置並びに有機ＥＬ素子を有する表示装置及び光源装置等の装置において有用に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】図１は、本発明のガスバリア積層体を構成する複合層Ｂの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。

【図2】図２は、本発明のガスバリア積層体を構成する複合層Ｂの具体的な構成の別の例を概略的に示す断面図である。

【図3】図３は、本発明のガスバリア積層体を構成する複合層Ａの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。

【図4】図４は、本発明のガスバリア積層体を構成する複合層Ａの具体的な構成の別の例を概略的に示す断面図である。

【図5】図５は、本発明のガスバリア積層体を構成する複合層Ａの具体的な構成のさらに別の例を概略的に示す断面図である。

【図6】図６は、本発明のガスバリア積層体の具体例を概略的に示す断面図である。

【図7】図７は、本発明のガスバリア積層体の別の具体例を概略的に示す断面図である。

【図8】図８は、本発明のガスバリア積層体のさらに別の具体例を概略的に示す断面図である。

【図9】図９は、本発明のガスバリア積層体のさらに別の具体例を概略的に示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。

【0015】

本発明のガスバリア積層体は、フィルム（ａ）と無機バリア層（ａ）とを有する複合層Ａ、及び脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）と無機バリア層（ｂ）とを有する複合層Ｂを備える。さらに、複合層Ａ及びＢはそれぞれ、任意の構成要素として、金属アルコキシド層を有しうる。

【0016】

〔脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）〕
本発明のガスバリア積層体（ｂ）を構成する脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）において、脂環式オレフィン樹脂とは、脂環式オレフィン重合体と、必要に応じてその他の任意の成分とを含有する樹脂である。

【0017】

脂環式オレフィン重合体は、主鎖及び／又は側鎖に脂環構造を有する非晶性の熱可塑性重合体である。脂環式オレフィン重合体中の脂環構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。脂環構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。

【0018】

脂環式オレフィン重合体を構成する脂環構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式オレフィン重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、透明性および耐熱性の観点から好ましい。

【0019】

脂環式オレフィン重合体としては、例えば、ノルボルネン重合体、単環の環状オレフィン重合体、環状共役ジエン重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。

【0020】

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物等が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
脂環式オレフィン樹脂は、脂環式オレフィン重合体として、これらの重合体のうち１種類のみを単独で含有してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて含有してもよい。また、フィルム（ｂ）は、複数種類の脂環式オレフィン樹脂のそれぞれが層をなした構成であってもよい。

【0021】

脂環式オレフィン樹脂に含まれる脂環式オレフィン重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、重合体がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあることにより、得られる基材フィルムの機械的強度及び成型加工性などが高度にバランスされるため好ましい。

【0022】

脂環式オレフィン樹脂が含有しうる任意の成分としては、例えば酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、強化剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、抗菌剤やその他の樹脂、熱可塑性エラストマーなどの公知の添加剤を挙げることができる。
これらの添加剤の量は、本発明の効果を損なわない範囲とすることができる。例えば、樹脂Ａに含まれる重合体１００重量部に対して、通常０〜５０重量部、好ましくは０〜３０重量部である。

【0023】

脂環式オレフィン樹脂は、高い透明性を有するものに必ずしも限られないが、本発明のガスバリア積層体を表示装置、光源装置、あるいは太陽電池において光を透過することが求められる部分に用いうる有用なものとするという観点から、高い透明性を有するものが好ましい。例えば、脂環式オレフィン樹脂を厚み１ｍｍの試験片として測定した全光線透過率が、通常７０％以上、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である透明性を有するものが好ましい。

【0024】

〔フィルム（ａ）〕
本発明のガスバリア積層体を構成するフィルム（ａ）は、上に述べたフィルム（ｂ）と同様の脂環式オレフィン樹脂のフィルム、又はその他の材料からなるフィルムとすることができる。フィルム（ｂ）と同様の脂環式オレフィン樹脂のフィルムとすることが、良好なガスバリア性能の発現、フィルム（ａ）との物性の違いが少ないことにより反りを抑制できる等の観点から好ましい。

【0025】

フィルム（ａ）の材料としうる、脂環式オレフィン以外の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、フルオレン変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、メタクリル−マレイミド共重合体、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド等の樹脂を挙げることができる。

【0026】

フィルム（ａ）は、これらの樹脂のうち１種類のみを単独で含有してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて含有してもよい。また、フィルム（ａ）は、複数種類の樹脂のそれぞれが層をなした構成であってもよい。

【0027】

〔フィルム；延伸〕
フィルム（ａ）及び／又はフィルム（ｂ）は、好ましくは、延伸フィルムとすることができる。延伸フィルムとすることにより、熱膨張率を抑制することができ、高温高湿の環境下におけるガスバリア性能の劣化を、さらに低減することができる。
かかる延伸フィルムは、上で挙げたフィルム（ａ）及び（ｂ）の材料として例示したものなどの樹脂を、原反フィルムに成形し、かかる原反フィルムを延伸することにより得ることができる。

【0028】

かかる原反フィルムの形状は、所望の延伸倍率により所望の寸法の基材フィルムが得られるよう、適宜設定することができる。好ましくは、長尺のフィルム状の形状とすることができる。

【0029】

延伸の態様は、好ましくは二軸延伸とすることができる。かかる二軸延伸は、原反フィルムを、その面に平行であって且つ互いに直交する２の方向に延伸することにより行うことができる。ここで、「直交」する方向とは、９０°の角度をなすことが好ましいが、加えて、±１０°程度の誤差を含む場合をも含むことができる。
通常、直交する２の方向は、それぞれ、長尺のフィルムのＭＤ方向（フィルムの流れ方向、即ち長尺のフィルムの長さ方向）及びＴＤ方向（ＭＤ方向に直交する、フィルムの幅方向）とされるが、これに限られず、ＭＤ及びＴＤ方向に対して斜めの、互いに直交する２方向であってもよい。

【0030】

二軸延伸の態様は、逐次二軸延伸（２方向の延伸のそれぞれを別々の工程として行う）であってもよく、同時二軸延伸（２方向の延伸の工程の少なくとも一部を同時に行う延伸）であってもよい。製造の効率の点からは同時二軸延伸が好ましいが、Ｒｅ値をなるべく少ない値とすることが求められる場合など、２方向の延伸を独立して精密に制御する必要がある場合には、かかる制御が容易という点から、逐次二軸延伸が好ましい場合もある。

【0031】

二軸延伸の、好ましい延伸倍率は、２方向それぞれにおいて１．０５〜４．５倍であることが好ましく、１．５〜３．５倍であることがより好ましい。また、２方向の倍率の比は、１：１〜２：１の範囲内であることが、高温高湿環境下での透湿度変化を最小とするため、及びガスバリア積層体を透過する光を均質なものとするために好ましい。

【0032】

二軸延伸を行う際の温度は、原反フィルムのＴｇ（ガラス転移温度）を基準に適宜設定することができる。具体的には例えば、Ｔｇ以上Ｔｇ＋３０℃以下の範囲、より好ましくはＴｇ以上Ｔｇ＋２０℃以下の範囲とすることができる。原反フィルムが脂環式オレフィン樹脂の層及びそれ以外の樹脂の層からなる複層フィルムである場合は、脂環式オレフィン樹脂の層のＴｇを原反フィルムのＴｇとすることができる。原反フィルムが複数種類の異なるＴｇを有する脂環式オレフィン樹脂の層を有する場合は、最も低いＴｇを有する脂環式オレフィン樹脂の層のＴｇを原反のＴｇとすることができる。

【0033】

二軸延伸を行うのに用いる装置として、例えば、テンター延伸機、及びその他の、ガイドレールと当該ガイドレールに沿って移動する把持子を有する延伸機を好ましく挙げることができる。またその他に、縦一軸延伸機、バブル延伸機、ローラ延伸機等の任意延伸機を使用することができる。

【0034】

〔フィルムの物性等〕
フィルム（ａ）及びフィルム（ｂ）は、その一方または両方が、１／４波長板とすることができる。好ましい態様において、フィルム（ａ）及びフィルム（ｂ）のうちの一方が１／４波長板であり、他方が１／２波長板であり、前記１／４波長板の遅相軸と前記１／２波長板の遅相軸との交差角が５７°〜６３°とすることができる。かかる特性を有することにより、ガスバリア積層体を、円偏光板の構成要素としても用いることができる。フィルム（ａ）及び／又はフィルム（ｂ）が、かかる１／４波長板又は１／２波長板としての特性を示しうる波長範囲は、用途に応じて適宜選択することができるが、例えば可視光波長の中心である５５０ｎｍ付近とすることができる。

【0035】

フィルム（ａ）及びフィルム（ｂ）のそれぞれの厚さは、好ましくは１０μｍ〜５００μｍとすることができ、より好ましくは３０μｍ〜２５０μｍとすることができる。フィルムの厚さは、接触式膜厚計により測定することができる。具体的には、ＴＤ方向に平行な線状において等間隔で１０点測定し、その平均値を求め、これを厚さの測定値とすることができる。

【0036】

フィルム（ａ）及び（ｂ）の、上記以外の物性は、特に限定されないが、熱膨張率が７０ｐｐｍ／ｋ以下であることが好ましく、５０ｐｐｍ／ｋ以下であることがより好ましく、４０ｐｐｍ／ｋ以下であることが更に好ましく、湿度膨張率は３０ｐｐｍ／ＲＨであることが好ましく、１０ｐｐｍ／ＲＨであることがより好ましく、１．０ｐｐｍ／ＲＨであることが、更に好ましい。かかる熱膨張率は、フィルムを２０ｍｍ×５ｍｍの試料片とし、荷重５．０ｇ、窒素１００ｃｃ／分、昇温速度０．５℃／分の条件で、３０℃から１３０℃にわたり昇温した際の試料片の長さの伸びを測定することにより測定した値とすることができる。かかる湿度膨張率は、フィルムを２０ｍｍ×５ｍｍの試料片とし、荷重５．０ｇ、窒素１００ｃｃ／分、温度２５℃、速度５．０％ＲＨ／分の条件で、３０％ＲＨから８０％ＲＨにわたり湿度を上昇した際の試料片の長さの伸びを測定することにより測定した値とすることができる。かかる好ましい熱膨張率及び湿度膨張率を得ることにより、高温高湿の環境下における経時的なガスバリア性能の低下が抑制されたガスバリア積層体を得ることができる。

【0037】

〔無機バリア層（ａ）（ｂ）〕
本発明のガスバリア積層体が備える無機バリア層（ａ）及び（ｂ）は、無機材料を主成分とし、水分及び酸素等の、外気中に存在する成分であって表示装置及び発光装置等の装置の内部の構成要素（例えば、有機ＥＬ素子の発光層等）を劣化させうる成分をバリアする能力を有する層である。
無機バリア層の水蒸気透過率は、その上限が１．０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．２ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましい。一方水蒸気透過率の下限は、０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることが最も好ましいが、それ以上の値であっても、上記上限以下の範囲内であれば、好ましく機能しうる。

【0038】

無機バリア層の材料は、特に限定されないが、好ましい材料として、珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物、アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）及びこれらの２以上が混合した材料とすることができる。透明性の点では、珪素の酸化物、窒化酸化物が特に好ましく、一方基材フィルムの材料である脂環式オレフィン樹脂との親和性の点では、ＤＬＣが特に好ましい。

【0039】

珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物、としては、ＳｉＯｘ（透明性、水蒸気バリア性を両立するためには、１．４＜ｘ＜２．０が好ましい。）、ＳｉＮｙ（透明性、水蒸気バリア性を両立するためには、０．５＜ｙ＜１．５が好ましい。）、ＳｉＯｘＮｙ（密着性向上を重視するときは１＜ｘ＜２．０，０＜ｙ＜１．０として酸素リッチの膜とすることが好ましく、水蒸気バリア性向上を重視するときは０＜ｘ＜０．８、０．８＜ｙ＜１．３として窒素リッチの膜とすることが好ましい。）、ＳｉＯＣ等を挙げることができる。アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物としては、ＡｌＯｘ、ＡｉＮｙ、やＡｌＯｘＮｙを挙げることができる。無機バリア性の観点からはＳｉＯｘＮｙやＡｌＯｘ、およびそれらの混合物をより好ましい材料として用いることができる。

【0040】

無機バリア層の厚さは、３〜５００ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。

【0041】

無機バリア層の形成方法は、特に限定されないが、好ましくは、基材フィルムとなるフィルム（ａ）又はフィルム（ｂ）上に、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト蒸着、アーク放電プラズマ蒸着、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の成膜方法により形成することが好ましい。アーク放電プラズマを用いると適度なエネルギーを有する蒸発粒子が生成され高密度の膜を形成することができる。複数種類の成分を含む無機バリア層を形成する場合、これらを同時に蒸着又はスパッタリングすることができる。

【0042】

本発明において、無機バリア層は、ガスバリア積層体の表裏の一方の面から他方の面への、水分及び酸素等の成分の透過をバリアするのに加えて、基材フィルム自体を保護し、基材フィルムが外気の水蒸気を吸収して膨張することを防止し、ひいては装置の変形を防止する効果をも発現しうる。
加えて、本発明のガスバリア積層体を基板としてその上に透明電極層を形成する場合は、蒸着、スパッタリング等の、透明電極層の形成の工程の条件下において、基材フィルムからアウトガスが放出されるのを防止することができるので、透明電極層の形成の条件を自由に選択することができ、その結果、透明電極層の抵抗値を低減することができる、または透明電極層を容易に製造することが可能となる、等の効果を奏しうる。
さらに、一般に、脂環式ポリオレフィン樹脂は他の材料との親和性が低いことが多いところ、無機バリア層は脂環式ポリオレフィン樹脂ともその他の材料とも高い親和性を有し得るため、無機バリア層が脂環式ポリオレフィン樹脂からなる層とその他の材料からなる層との間に設けられることにより、脂環式ポリオレフィン樹脂と他の材料からなる層との密着性が良好となるという効果も奏されうる。

【0043】

〔金属アルコキシド層（ａ）（ｂ）〕
本発明において、複合層Ａ及びＢが有しうる金属アルコキシド層を構成する金属アルコキシドは、一般にＲ−ＯＭ（Ｒはアルキル基、Ｍは任意の金属原子）の構造を分子内に有する化合物である。
金属アルコキシドは、より具体的には、金属原子に１以上の基Ｒ−Ｏ−及び任意に１以上の基Ｒ^２−が結合した構造（Ｒ−Ｏ）ｍ−Ｍ−（Ｒ^２）ｎ（Ｒ^２は任意の有機基、ｍは１以上の数、ｎは０以上の数）とすることができる。ここで、基Ｒは、具体的には例えばメチル基、エチル基等の基とすることができる。基Ｒ^２は、具体的には例えばエポキシ基、アミノ基、アリール基、アルキル基、フルオロ基、クロロ基、カルボキシル基、カーボネート基、イミノ基、チオール基、ニトロ基、ビニル基、ウレイド基、メタクリロイル基、アクリロイル基を含む有機基等の基とすることができる。基Ｒが１分子中に複数存在する場合、及び基Ｒ^２が１分子中に複数存在する場合、これらはいずれも、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。特に、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、メタクリロイル基、アクリロイル基が好ましい。

【0044】

金属アルコキシドが含有しうる金属としては、Ｔｉ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｔ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｒから選択された１種以上の金属を挙げることができる。特に、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ，Ｚｒが好ましい。

【0045】

金属アルコキシド層の形成方法は、特に限定されないが、基材となる、フィルム（ａ）（ｂ）又は無機バリア層（ａ）（ｂ）等の層の表面を、上記金属アルコキシドの蒸気に暴露する方法、上記金属アルコキシドをアルコールなどの溶液に溶かし、表面にコーティング、噴霧する方法等により形成することができる。特に、蒸気に暴露する方法が、形成後の金属アルコキシド層からの脱ガス成分が少ないために好ましい。

【0046】

本発明のガスバリア積層体において、金属アルコキシドの層の厚さは、０．００５〜１．０μｍであることが好ましく、０．０１〜０．８μｍであることがより好ましい。複合層Ａ及び複合層Ｂの両方が金属アルコキシド層を有し、金属アルコキシド層の面同士が貼付されてガスバリア積層体が形成される場合は、これら２層の金属アルコキシド層の合計の厚さを、上記範囲内とすることが好ましい。金属アルコキシドの層の厚さを上記好ましい下限値以上とすることにより、良好な接着力を発揮することができる。また、金属アルコキシド層の厚さを上記好ましい上限値以下とすることにより、ガスバリア積層体のヘイズを低く保つことができ、また、金属アルコキシド層からの脱ガス成分を低減することが出来る。

【0047】

〔複合層Ａ及びＢの構成〕
本発明のガスバリア積層体において、複合層Ｂの脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）は、その前記複合層Ａに対向する側の面が、活性化処理された面であり、当該活性化処理された面は、直接又は金属アルコキシド層を介して、複合層Ａに接する。
当該活性化処理されたフィルム（ｂ）の面は、その面粗さＲａが、Ｒａ≦５．０ｎｍであることが好ましく、Ｒａ≦３．０ｎｍであることがより好ましい。かかる低い面粗さを有することにより、より良好な接着力を得ることができる。

【0048】

本発明において、複合層Ａに対向する側の複合層Ｂの表面は、具体的には、
(B-i)脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）が露出した面、又は
(B-ii)脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）の面に接して設けられた金属アルコキシド層（ｂ）の面
としうる。

【0049】

上記態様(B-i)の場合、当該活性化処理されたフィルム（ｂ）の面は、即ち複合層Ａに対向する側の複合層Ｂの表面となる。
上記態様(B-ii)の場合、当該活性化処理されたフィルム（ｂ）の面は、フィルム（ｂ）と金属アルコキシド層（ｂ）との界面となり、したがって、金属アルコキシド層（ｂ）の、当該界面とは反対側の面が、複合層Ａに対向する複合層Ｂの表面となる。

【0050】

図１は、上記態様(B-i)をとる複合層Ｂの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。図１に示す複合層B-Iは、脂環式オレフィン樹脂フィルム１３ｂと、その一方の面３ｂＵに接して設けられた無機バリア層１２ｂとを有する。フィルム１３ｂの他方の面３ｂＤは、活性化処理され、この面が即ち複合層Ａに対向する側の複合層B-Iの表面となる。

【0051】

図２は、上記態様(B-ii)をとる複合層Ｂの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。図２に示す複合層B-IIは、脂環式オレフィン樹脂フィルム１３ｂと、その一方の面３ｂＵに接して設けられた無機バリア層１２ｂとを有する。フィルム１３ｂの他方の面３ｂＤは、活性化処理され、この面に接して金属アルコキシド層１１ｂが設けられる。複合層B-IIの複合層Ａに対向する側の表面は、面３ｂＤではなく、金属アルコキシド層の表面１ｂＤとなる。

【0052】

フィルム（ｂ）が脂環式オレフィン樹脂フィルムであり、且つこのように配置された活性化処理された面を有することにより、良好なガスバリア性能を、高温高湿環境下においても経時的に維持することができる。さらに、それぞれが無機バリア層を有する複合層Ａ及び複合層Ｂをそのような態様で貼付することにより、複数の無機バリア層を有するガスバリア積層体を容易に得ることができ、しかもそれぞれの無機バリア層の形成において、樹脂の層からのアウトガスによる蒸着の効率の低下及び品質の劣化を少なくすることができる。

【0053】

前記フィルム（ｂ）の面の活性化処理としては、常圧プラズマ処理、真空プラズマ処理、ＵＶオゾン処理、又はコロナ処理を採用することができる。特に常圧プラズマ処理、コロナ処理が、処理時間が短く生産性に優れる点で好ましい。

【0054】

複合層Ｂに対向する側の、複合層Ａの表面は、種々の態様をとりうるが、良好な強度及びガスバリア性能を高温高湿の環境下で維持しうる観点から、
(A-i)活性化処理されていない、無機バリア層（ａ）が露出した面、
(A-ii)活性化処理された、無機バリア層（ａ）が露出した面
(A-iii)活性化処理された無機バリア層（ａ）の面に接して設けられた金属アルコキシド層（ａ）の面、又は
(A-iv)活性化処理されたフィルム（ａ）の面に接して設けられた金属アルコキシド層（ａ）の面
であることが好ましく、態様(A-ii)〜(A-iv)であることがより好ましく、態様(A-iii)〜(A-iv)であることがさらにより好ましい。

【0055】

図３は、上記態様(A-i)又は(A-ii)をとる複合層Ａの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。図３に示す複合層A-Iは、フィルム１３ａと、その一方の面３ａＵに接して設けられた無機バリア層１２ａとを有する。さらに、態様(A-ii)では、無機バリア層１２ａの、フィルム１３ａと反対側の面２ａＵは、活性化処理される。態様(A-i)及び(A-ii)では、面２ａＵが、複合層Ｂに対向する側の複合層A-Iの表面となる。

【0056】

図４は、上記態様(A-iii)をとる複合層Ａの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。図４に示す複合層A-IIは、フィルム１３ａと、その一方の面３ａＵに接して設けられた無機バリア層１２ａとを有する。無機バリア層１２ａのフィルム１３ａと反対側の面２ａＵは、活性化処理されている。複合層A-IIは、この活性化処理された面に接して設けられる金属アルコキシド層１１ａをさらに有する。複合層A-IIの複合層Ｂに対向する側の表面は、金属アルコキシド層の表面１ａＵとなる。

【0057】

図５は、上記態様(A-iv)をとる複合層Ａの具体的な構成の例を概略的に示す断面図である。図５に示す複合層A-IIIは、フィルム１３ａと、その一方の面３ａＤに接して設けられた無機バリア層１２ａとを有する。フィルム１３ａの他方の面３ａＵは、活性化処理されている。複合層A-IIIは、この活性化処理された面に接して設けられる金属アルコキシド層１１ａをさらに有する。複合層A-IIIの複合層Ｂに対向する側の表面は、金属アルコキシド層の表面１ａＵとなる。

【0058】

複合層Ａの、複合層Ｂに対向する側の表面が金属アルコキシド層（ａ）を有しない場合における当該表面（図３の例では面２ａＵ）、又は複合層Ａの、複合層Ｂに対向する側の表面が金属アルコキシド層（ａ）を有する場合における当該金属アルコキシド層が形成された面（図４の例では面２ａＵ、図５の例では面３ａＵ）は、その面粗さＲａが、Ｒａ≦５．０ｎｍであることが好ましく、Ｒａ≦３．０ｎｍであることがより好ましい。かかる低い面粗さを有することにより、より良好な接着力を得ることができる。

【0059】

〔ガスバリア積層体〕
本発明のガスバリア積層体は、複合層Ａの表面及び複合層Ｂの表面が対向し貼付されてなる。
このように、それぞれが無機バリア層を備える複合層を貼付することにより、ガスバリア性能が高く、強度が高く、且つ容易に製造しうるガスバリア積層体とすることができる。つまり、無機バリア層を、フィルム上にスパッタリング等の方法により設ける場合、一枚のフィルムに複数層無機バリア層を設けることは製造工程上困難であるところ、複数の基材フィルムのそれぞれに一層ずつ無機バリア層を設け、これを貼付することにより、複数の無機バリア層を有するガスバリア積層体を容易に得ることができる。とくに、スパッタリング等の低圧の工程を含む製造方法の場合、ガス引きの工程が少なくて済むため、効率的な製造を行うことができる。また、それぞれの複合層に用いるフィルムに、異なる特性を有するフィルムを使用することで、積層体の特性を向上させることできる。例えば、複合層Ａに耐熱性の高いフィルム、複合層Ｂに透湿度の低いフィルムを用いることができる。例えば、積層体の表面にＩＴＯなどの導電膜を形成する際に、当該ＩＴＯの抵抗値をできるだけ低くする目的で焼成温度を高くすることがあるが、この場合には、導電膜を形成する基材に十分な耐熱性が要求される。しかしながら、一般に、十分な耐熱性と十分な耐湿性を両立する一の基材を得ることは技術的に困難である。これに対して、本発明では、複合層Ａに耐熱性の高いフィルムを使用し、また、複合層Ｂに透湿度の低いフィルムを使用して、これらの複合層Ａ，Ｂを貼付することにより、比較的簡単でありながら、低抵抗値で、かつ低透湿である一の基材としてのガスバリア積層体を得ることができる。

【0060】

かかる貼付は、熱圧着により行うことが好ましい。具体的には、層間を減圧し且つ層を加熱した状態で、複合層Ａ及び複合層Ｂの表面が接した状態でこれらを圧着させることにより、複合層Ａ及び複合層Ｂを貼付することが好ましい。かかる熱圧着の操作は、真空ラミネート装置を用いて行うことができる。熱圧着の条件は、０．１〜１．５ＭＰａ、７０〜２５０℃で適宜選択できる。圧力が高すぎると、無機バリア層を劣化させる恐れがあり、低すぎると、密着力の低下を引き起こすため、特に０．３〜１．０ＭＰａの条件がより好ましい。温度が積層体に用いられるフィルムのＴｇより高いと、フィルムの変形を伴うため、Ｔｇ-２０℃が好ましく、低すぎると接着力の低下を引き起こすため８０℃以上が好ましい。このような熱圧着を行うことにより、接着剤などのさらに他の層を界面に設けて接着する場合に比べて、高温高湿環境下におけるガスバリア層のガスバリア性能の低下を低減することができる。
貼付工程は、生産性の観点から、ロールトゥロールで行うことが好ましい。しかしながら、遅相軸の調整などにおいて必要であれば、ロールトゥロールの貼付ではなく、複合層Ａ及びＢをそれぞれ所望の形状に切り出してから逐次貼り合せる貼付も、好ましく行うこともできる。

【0061】

複合層Ａ及びＢに含まれるフィルムが延伸フィルム等の光学異方性を有するフィルムであり、それらの位相差による光学的効果を得ることが求められる場合、かかる光学的効果が得られるよう、複合層Ａの遅相軸と複合層Ｂの遅相軸とがなす角度を所望の角度に調整して貼付を行うことができる。具体的には例えば、複合層Ａの遅相軸と複合層Ｂの遅相軸とがなす角度が５７〜６３°、好ましくは５８〜６２°となるよう貼付することができる。

【0062】

一方、複合層Ａ及びＢに含まれるフィルムが延伸フィルムであるがそれらの位相差による光学的効果を得ることが特に求められない場合、それらの延伸方向は揃えた状態（具体的には角度誤差１０°以内）とすることが、良好な低熱膨張率を得るなどの観点から好ましい。

【0063】

図６は、本発明のガスバリア積層体の具体例を概略的に示す断面図である。図６において、ガスバリア積層体１００は、上において態様(A-i)又は(A-ii)として説明した複合層A-I（図３参照）の表面２ａＵと、態様(B-i)として説明した複合層B-I（図１参照）の表面３ｂＤとが対向し貼付されてなるものである。ガスバリア積層体１００においては、活性化された表面３ｂＤと、無機バリア層１２ａの表面２ａＵとが、他の層を介在せず貼付されている。このような構成を有することにより、脂環式オレフィン樹脂のフィルム及び複数の無機バリア層によるガスバリア性能が、高温高湿の環境下においても維持されうるガスバリア積層体とすることができる。

【0064】

図７は、本発明のガスバリア積層体の、別の具体例を概略的に示す断面図である。図７において、ガスバリア積層体２００は、上において態様(A-i)又は(A-ii)として説明した複合層A-I（図３参照）の表面２ａＵと、態様(B-ii)として説明した複合層B-II（図２参照）の表面１ｂＤとが対向し貼付されてなるものである。ガスバリア積層体２００においては、脂環式オレフィン樹脂フィルム１３ｂの活性化処理された面３ｂＤに接して設けられた金属アルコキシド層１１ｂの面１ｂＤと、無機バリア層１２ａの表面２ａＵとが、他の層を介在せず貼付されている。このような構成を有することにより、脂環式オレフィン樹脂のフィルム及び複数の無機バリア層によるガスバリア性能が、高温高湿の環境下においても維持されうるガスバリア積層体とすることができ、且つ複合層ＡとＢとの間の接着力をさらに強固なものとすることができる。

【0065】

図８は、本発明のガスバリア積層体の、さらに別の具体例を概略的に示す断面図である。図８において、ガスバリア積層体３００は、上において態様(A-iii)として説明した複合層A-II（図４参照）の表面１ａＵと、態様(B-ii)として説明した複合層B-II（図２参照）の表面１ｂＤとが対向し貼付されてなるものである。ガスバリア積層体３００においては、脂環式オレフィン樹脂フィルム１３ｂの活性化処理された面３ｂＤに接して設けられた金属アルコキシド層１１ｂの面１ｂＤと、無機バリア層１２ａの表面２ａＵに接して設けられた金属アルコキシド層１１ａの面１ａＵとが、他の層を介在せず貼付されている。このような構成を有することにより、脂環式オレフィン樹脂のフィルム及び複数の無機バリア層によるガスバリア性能が、高温高湿の環境下においても維持されうるガスバリア積層体とすることができ、且つ複合層ＡとＢとの間の接着力をさらに強固なものとすることができる。

【0066】

図９は、本発明のガスバリア積層体の、さらに別の具体例を概略的に示す断面図である。図９において、ガスバリア積層体４００は、上において態様(A-iv)として説明した複合層A-III（図５参照）の表面１ａＵと、態様(B-ii)として説明した複合層B-II（図２参照）の表面１ｂＤとが対向し貼付されてなるものである。ガスバリア積層体４００においては、脂環式オレフィン樹脂フィルム１３ｂの活性化処理された面３ｂＤに接して設けられた金属アルコキシド層１１ｂの面１ｂＤと、フィルム１３ａの表面３ａＵに接して設けられた金属アルコキシド層１１ａの面１ａＵとが、他の層を介在せず貼付されている。このような構成を有することにより、脂環式オレフィン樹脂のフィルム及び複数の無機バリア層によるガスバリア性能が、高温高湿の環境下においても維持されうるガスバリア積層体とすることができ、且つ複合層ＡとＢとの間の接着力をさらに強固なものとすることができる。

【0067】

〔その他の任意の層〕
本発明のガスバリア積層体は、上記各層に加えて、他に任意の層を備えうる。かかる任意の層としては、例えば、前記フィルム（ａ）（ｂ）以外の、脂環式オレフィン樹脂及び他の樹脂材料からなる任意のフィルムを設けることができる。その他、帯電防止層、ハードコート層、導電性付与層、汚染防止層、凹凸構造層を設けることが出来る。これらの層は組み合わされていてもよいし、複数であってもよい。導電性付与層などは、印刷あるいはエッチングによりパターニングされたものであってもよい。かかる任意の層は、基材フィルム上にかかる任意の層の材料を塗布し硬化させる方法、又は、熱圧着により貼付する方法、凹凸構造を形成する場合は、基材フィルムと型の間に電子線硬化型樹脂を配置し硬化することでフィルム上に凹凸構造を形成する方法などの方法により設けることができる。

【0068】

〔その他の態様〕
本発明のガスバリア積層体は、フィルム（ａ）（ｂ）及び無機バリア層（ａ）（ｂ）をそれぞれ１枚ずつのみ備えていてもよいが、さらに他のフィルム及び無機バリア層を備えてもよい。例えば、複合層Ｃとして、複合層Ａ又はＢと同様の態様の複合層をさらに備えていてもよい。複合層Ｃと複合層Ａ又はＢとの貼付は、その界面が、上で説明した複合層ＡとＢとの界面と同様の態様となるような態様で、熱圧着などにより達成することができる。
またフィルム（ｂ）の複合層Ａに対向しない側の面が、熱転写により凹凸構造になっているなどの態様でもよい。脂環式オレフィン樹脂フィルム（ｂ）は、型に対して優れた離型性を示すため、このような凹凸構造を形成する態様を容易に実現できる。

【0069】

〔ガスバリア積層体の物性〕
本発明のガスバリア積層体全体の水蒸気透過率は、１×１０^−６〜１×１０^−２ｇ／ｍ^２・ｄａｙとすることができる。このような積層体全体の水蒸気透過率は、無機バリア層及びその他の層の材質及び厚さを適宜選択することにより達成しうる。
本発明のガスバリア積層体全体の複合層Ａ、複合層Ｂ間の接着力は作製直後の接着力で、１．０Ｎ/ｃｍ以上とすることができ、２．０Ｎ／ｃｍ以上が好ましい。また、作製直後の接着力と、高温高湿下に曝した後の接着力との差が１０％以下であることが好ましい。

【0070】

本発明のガスバリア積層体全体のヘイズは、特に限定されないが、光を拡散させることを特段意図しない光学的用途に用いる場合、ヘイズは一般的には低い方が好ましく、好ましくは３．０％以下、より好ましくは１．０％以下とすることができる。

【0071】

〔用途〕
本発明のガスバリア積層体の用途は、特に限定されないが、液晶表示装置並びに有機ＥＬ素子を有する表示装置、光源装置、及び太陽電池等の装置の構成要素として用いることができる。具体的には、装置を構成する他の構成要素を、水分及び酸素から保護するために封止するための層として用いることができる。

【0072】

特に好ましい用途として、所定の光学異方性を有する本発明のガスバリア積層体を、偏光子と組み合わせた円偏光板とし、これを表示装置の構成要素として用いることができる。

【0073】

〔円偏光板〕
本発明の円偏光板は、前記本発明のガスバリア積層体と、偏光子とを有する。
本発明の円偏光板において、好ましくは、ガスバリア積層体のフィルム（ａ）（ｂ）は、その一方が１／４波長板であり、他方が１／２波長板である。これら１／４波長板及び１／２波長板の遅相軸の交差角は、好ましくは５７〜６３°、より好ましくは５８〜６２°である。
偏光子は、ガスバリア積層体の１／２波長板側の表面上に設けることができる。偏光子の透過軸に対して、１／２波長板の遅層軸を好ましくは１３〜１７°、より好ましくは１４〜１６°になるように積層する。

【0074】

本発明の円偏光板が有しうる偏光子としては、ヨウ素系偏光フィルム、染色系偏光フィルム、ワイヤーグリッド偏光フィルムが用いられる。

【0075】

本発明の円偏光板は、前記本発明のガスバリア積層体の一面に、偏光子を形成するか、別の積層体であって偏光子を有するものを貼付することにより構成することができる。

【0076】

本発明の円偏光板の用途は、特に限定されず液晶表示装置等の各種の表示装置の円偏光板として用いることができる。

【実施例】

【0077】

以下、実施例及び比較例を参照して本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例及び比較例において、諸物性の測定は、下記の通り行った。

【0078】

（厚みの測定）
フィルム等の厚みの測定は、接触式膜厚計でＴＤ方向に１０点測定し、その平均値を算出した。

【0079】

（金属アルコキシド層の厚み測定）
金属アルコキシド層を有する複合層等の試料を、集束イオンビーム加工観察装置ＦＢ−２１００（日立製作所製）のマイクロサンプリング装置にて加工し、観察用切片を作製した。作製した切片を透過電子顕微鏡Ｈ−７５００（日立製作所製）で観察し、ランダムに２０点測定し、測定値の平均から金属アルコキシド層の厚さを求めた。

【0080】

（表面粗さ）
ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１の規定に従って、カラー３Ｄレーザー顕微鏡（キーエンス社製、製品名「ＶＫ−９５００」）を用いて測定し、表面粗さＲａを算出した。

【0081】

（ヘイズ）
濁度計（日本電色社製、製品名「ＮＤＭ ２０００」）を用いて測定した。

【0082】

（接着力の測定）
ガスバリア積層体を、幅１０ｍｍの寸法に切り出し、粘着剤でガラスに固定し、引張り角度９０°、剥離速度２０ｍｍ／ｍｉｎの条件で、島津製作所製 オートグラフィーで測定した。測定は、測定対象の製造が完了した直後と、その後測定対象を高温高湿の環境に暴露した後に実施した。
（剥離面の観察）
剥離試験後の剥離面の断面をＦＥ-ＴＥＭで観察して、剥離界面の特定を行った。

【0083】

（透湿度）
ＪＩＳ Ｋ７１２９Ｂに基づいて、「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ Ｗ３／３３」（モコン社製）を用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件で測定を行った。測定は、測定対象の製造が完了した直後と、その後測定対象を高温高湿の環境に暴露した後に実施した。

【0084】

（高温高湿環境への暴露）
高温高湿の環境への暴露は、「ＥＨＳ−２１１ＭＤ」（エスペック社製）を用い、８０℃、９０％ＲＨで１時間保持し、続いて１２０℃、３０％ＲＨで１時間保持することにより行った。

【0085】

（レターデーションの測定）
王子計測機器（株）製 ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにより、ＴＤ方向に１０点測定した。

【0086】

＜実施例１＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体１を作製した。

【0087】

（１−１．原反フィルム１の作製）
ノルボルネン重合体１（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ１６００」、Ｔｇ１６３℃、屈折率１．５２５）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥したのち、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機に供給し、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイの幅５００ｍｍの条件で、押出成形して、厚さ１００μｍの原反フィルム１を得た。Ｔダイは、鏡面に研磨したものを用いた。

【0088】

（１−２．延伸フィルム１の作製）
得られた原反フィルム１を、縦延伸装置を用い延伸温度１７２℃でフィルムの流れ方向（ＭＤ方向）に２．０倍延伸し、次いで、テンター法を用いた横延伸機に供給し、１７２℃の温度でフィルムの幅方向（ＴＤ方向）に２．０倍に延伸し、巻き取って、延伸フィルム１を得た。

【0089】

（１−３．無機バリア層の形成）
得られた延伸フィルム１の表面に、フィルム巻き取り式マグネトロンスパッタ装置を用いて、Ｓｉターゲットを用いて、アルゴン流量１５０ｓｃｃｍ、酸素流量１０ｓｃｃｍ、出力４．０ｋＷ、真空度０．３Ｐａ、巻きとり速度０．５ｍ／ｍｉｎ、張力３０Ｎの条件で、厚さ１００ｎｍのＳｉＯｘ層を無機バリア層として成膜し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有する積層体Ｐ１を得た。積層体Ｐ１のＳｉＯｘ層側の面及び延伸フィルム側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ０．６５ｎｍ及び０．７０ｎｍであった。得られた積層体Ｐ１を２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで２枚切り出し、それぞれを積層体Ｐ１−Ａ、積層体Ｐ１−Ｂとした。

【0090】

（１−４．複合層Ａ１の作製）
積層体Ｐ１−ＡのＳｉＯｘ層側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理をした積層体Ｐ１−Ａを密閉容器に入れて、表面処理をしたＳｉＯｘ層側の表面をγ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３：信越シリコーン社製）の蒸気で１０分間暴露処理して、金属アルコキシド層を形成し、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有する複合層Ａ１（図８の複合層A-IIに相当）を得た。

【0091】

（１−５．複合層Ｂ１の作製）
積層体Ｐ１−Ｂの延伸フィルム側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理をした積層体Ｐ１−Ｂを密閉容器に入れて、表面処理をした延伸フィルム側の表面をγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３：信越シリコーン社製）の蒸気で１０分間暴露処理して、金属アルコキシド層を形成し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ１（図８の複合層B-IIに相当）を得た。

【0092】

（１−６．ガスバリア積層体１の作製）
複合層Ａ１及び複合層Ｂ１の、金属アルコキシド層側の表面同士を対向させてこれらを重ねて、真空ラミネート装置を用いて、０．９ＭＰａ、１３０℃、３６０ｓｅｃの条件で圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体１を得た。

【0093】

（１−７．評価）
ガスバリア積層体１の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体１のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体１の複合層Ａ１とＢ１と間の接着力及びガスバリア積層体１の透湿度を測定すると、それぞれ４．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ４．４０Ｎ／ｃｍ及び０．２１×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0094】

＜実施例２＞
図９に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体２を作製した。

【0095】

（２−１．複合層Ａ２の作製）
表面処理及び金属アルコキシド層の形成を、積層体Ｐ１−ＡのＳｉＯｘ層側ではなく延伸フィルム側の表面に対して行った他は、実施例１の工程（１−４）と同様にして表面処理及び金属アルコキシド形成を行い、（金属アルコキシド層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）の層構成を有する複合層Ａ２（図９の複合層A-IIIに相当）を得た。

【0096】

（２−２．ガスバリア積層体２の作製）
複合層Ａ１に代えて、上記（２−１）で得た複合層Ａ２を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ２及びＢ１を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）の層構成を有するガスバリア積層体２を得た。

【0097】

（２−３．評価）
ガスバリア積層体２の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体２のヘイズは０．２１％であった。ガスバリア積層体２の複合層Ａ２とＢ１との間の接着力及びガスバリア積層体２の透湿度を測定すると、それぞれ３．１０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ３．００Ｎ／ｃｍ及び０．２２×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0098】

＜実施例３＞
図６に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体３を作製した。

【0099】

（３−１．複合層Ａ３及び複合層Ｂ３の作製）
金属アルコキシド層の形成を行わなかった他は、実施例１の工程（１−４）と同様にして積層体Ｐ１−Ａの表面処理を行い、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、ＳｉＯｘ層側の表面がプラズマ処理された複合層Ａ３（図６の複合層A-Iに相当）を得た。
一方、金属アルコキシド層の形成を行わなかった他は、実施例１の工程（１−５）と同様にして積層体Ｐ１−Ｂの表面処理を行い、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、延伸フィルム側の表面がプラズマ処理された複合層Ｂ３（図６の複合層B-Iに相当）を得た。

【0100】

（３−２．ガスバリア積層体３の作製）
複合層Ａ３及び複合層Ｂ３の、プラズマ処理された表面同士を対向させてこれらを重ねて、真空ラミネート装置を用いて、０．９ＭＰａ、１３０℃、３６０ｓｅｃの条件で圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体３を得た。

【0101】

（３−３．評価）
ガスバリア積層体３のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体３の複合層Ａ３とＢ３との間の接着力及びガスバリア積層体３の透湿度を測定すると、それぞれ２．２０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ１−Ａと積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ０．６０Ｎ／ｃｍ及び０．８０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ１−Ａと積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0102】

＜実施例４＞
図６に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体４を作製した。ガスバリア積層体４は、表面処理の態様が異なる他は、実施例３のガスバリア積層体３と同様の構成を有している。

【0103】

（４−１．複合層Ａ４及び複合層Ｂ４の作製）
実施例１の工程（１−３）で得られた積層体Ｐ１−ＡのＳｉＯｘ層側の表面に、コロナ処理（０．１５ｋＷ、電極間２ｍｍ、処理速度１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍ）を行ない、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、ＳｉＯｘ層側の表面がコロナ処理された複合層Ａ４（図６の複合層A-Iに相当）を得た。
一方、実施例１の工程（１−３）で得られた積層体Ｐ１−Ｂの延伸フィルム側の表面に、コロナ処理（０．１５ｋＷ、電極間２ｍｍ、処理速度１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍ）を行ない、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、延伸フィルム側の表面がコロナ処理された複合層Ｂ４（図６の複合層B-Iに相当）を得た。

【0104】

（４−２．ガスバリア積層体４の作製）
複合層Ａ４及び複合層Ｂ４の、コロナ処理された表面同士を対向させてこれらを重ねて、真空ラミネート装置を用いて、０．９ＭＰａ、１３０℃、３６０ｓｅｃの条件で圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体４を得た。

【0105】

（４−３．評価）
ガスバリア積層体４のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体４の複合層Ａ４とＢ４との間の接着力及びガスバリア積層体４の透湿度を測定すると、それぞれ２．００Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ１−Ａと積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。
高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ０．５５Ｎ／ｃｍ及び１．００×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ１−Ａと積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0106】

＜実施例５＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体５を作製した。ガスバリア積層体５は、積層体を構成する層の表面粗さが異なる他は、実施例１のガスバリア積層体１と同様の構成を有している。

【0107】

（５−１．原反フィルム５の作製）
実施例１の工程（１−１）で得られた原反フィルム１をさらに、１６５℃に加熱した金属製の鏡面ロール（表面に、厚さ１００μｍのハードクロムめっきを施したもの）と、１８０℃に加熱したセラミック製のロール（表面粗さＲａ ６．０ｎｍ）を用いて、線圧１００ｋＮ／ｍにて狭圧して、厚さ９５μｍの原反フィルム５を得た。

【0108】

（５−２．無機バリア層の形成）
延伸フィルム１に代えて上記（５−１）で得られた原反フィルム５を用いた他は、実施例１の工程（１−３）と同様にして無機バリア層の形成を行い、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有する積層体Ｐ５を得た。積層体Ｐ５のＳｉＯｘ層側の面及び延伸フィルム側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ５．５ｎｍ及び５．９ｎｍであった。得られた積層体Ｐ５を２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで２枚切り出し、それぞれを積層体Ｐ５−Ａ、積層体Ｐ５−Ｂとした。

【0109】

（５−３．複合層Ａ５及び複合層Ｂ５の作製）
積層体Ｐ１−Ａ及びＰ１−Ｂに代えて、上記（５−２）で得たＰ５−Ａ及びＰ５−Ｂを用いた他は、実施例１の工程（１−４）及び（１−５）と同様にして表面処理及び金属アルコキシド形成を行い、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有する複合層Ａ５（図８の複合層A-IIに相当）、及び（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ５（図８の複合層B-IIに相当）を得た。

【0110】

（５−４．ガスバリア積層体５の作製）
複合層Ａ１及びＢ１に代えて、上記（５−３）で得た複合層Ａ５及びＢ５を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ５及びＢ５を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体５を得た。

【0111】

（５−５．評価）
ガスバリア積層体５の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体５のヘイズは０．３５％であった。ガスバリア積層体５の複合層Ａ５とＢ５との間の接着力及びガスバリア積層体５の透湿度を測定すると、それぞれ１．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２２×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ１．２０Ｎ／ｃｍ及び０．２３×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。

【0112】

＜実施例６＞
図６に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体６を作製した。ガスバリア積層体６は、積層体を構成する層の表面粗さが異なる他は、実施例３のガスバリア積層体３と同様の構成を有している。

【0113】

（６−１．複合層Ａ６及び複合層Ｂ６の作製）
積層体Ｐ１−Ａに代えて実施例５の工程（５−２）で得た積層体Ｐ５−Ａを用い、且つ金属アルコキシド層の形成を行わなかった他は、実施例１の工程（１−４）と同様にして積層体Ｐ５−Ａの表面処理を行い、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、ＳｉＯｘ層側の表面がプラズマ処理された複合層Ａ６（図６の複合層A-Iに相当）を得た。
一方、積層体Ｐ１−Ｂに代えて実施例５の工程（５−２）で得た積層体Ｐ５−Ｂを用い、且つ金属アルコキシド層の形成を行わなかった他は、実施例１の工程（１−５）と同様にして積層体Ｐ５−Ｂの表面処理を行い、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有し、延伸フィルム側の表面がプラズマ処理された複合層Ｂ６（図６の複合層B-Iに相当）を得た。

【0114】

（６−２．ガスバリア積層体６の作製）
複合層Ａ６及び複合層Ｂ６の、プラズマ処理された表面同士を対向させてこれらを重ねて、真空ラミネート装置を用いて、０．９ＭＰａ、１３０℃、３６０ｓｅｃの条件で圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体６を得た。

【0115】

（６−３．評価）
ガスバリア積層体６のヘイズは０．３５％であった。ガスバリア積層体６の複合層Ａ６とＢ６との間の接着力及びガスバリア積層体６の透湿度を測定すると、それぞれ１．４０Ｎ／ｃｍ及び０．２１×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ５−Ａと積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ０．５３Ｎ／ｃｍ及び１．００×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、積層体Ｐ５−Ａと積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。

【0116】

＜実施例７＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体７を作製した。ガスバリア積層体７は、金属アルコキシド層の形成の条件が異なる他は、実施例１のガスバリア積層体１と同様の構成を有している。

【0117】

（７−１．複合層Ａ７及びＢ７の作製）
金属アルコキシド層の形成に際しての暴露処理時間を２分間とした他は、実施例１の工程（１−４）及び（１−５）と同様にして表面処理及び金属アルコキシド形成を行い、複合層Ａ７（図８の複合層A-IIに相当）及び複合層Ｂ７（図８の複合層B-IIに相当）を得た。

【0118】

（７−２．ガスバリア積層体７の作製）
複合層Ａ１及びＢ１に代えて、上記（７−１）で得た複合層Ａ７及びＢ７を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ７及びＢ７を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体７を得た。

【0119】

（７−３．評価）
ガスバリア積層体７の金属アルコキシド２層の合計の厚さは、０．００５μｍであった。ガスバリア積層体７のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体７の複合層Ａ７とＢ７との間の接着力及びガスバリア積層体７の透湿度を測定すると、それぞれ２．２０Ｎ／ｃｍ及び０．２２×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ０．５２Ｎ／ｃｍ及び０．５０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0120】

＜実施例８＞
図９に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体８を作製した。ガスバリア積層体８は、金属アルコキシド層の形成方法が異なる他は、実施例２のガスバリア積層体２と同様の構成を有している。

【0121】

（８−１．複合層Ａ８の作製）
実施例１の工程（１−３）で得た積層体Ｐ１−Ａの延伸フィルム側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理を施した当該表面に、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３：信越シリコーン社製）１．０重量部、エタノール７９．２重量部、及び純水１９．８重量部からなる混合溶液をバーコーター＃６で塗布し、８５℃で３０分間アニール処理し、金属アルコキシ層を形成し、（金属アルコキシド層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）の層構成を有する複合層Ａ８（図９の複合層A-IIIに相当）を得た。

【0122】

（８−２．複合層Ｂ８の作製）
実施例１の工程（１−３）で得た積層体Ｐ１−Ｂの延伸フィルム側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理を施した当該表面に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３：信越シリコーン社製）１．０重量部、エタノール７９．２重量部、及び純水１９．８重量部からなる混合溶液をバーコーター＃６で塗布し、８５℃で３０分間アニール処理し、金属アルコキシ層を形成し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ８（図９の複合層B-IIに相当）を得た。

【0123】

（８−３．ガスバリア積層体８の作製）
複合層Ａ１及びＢ１に代えて、上記（８−１）及び（８−２）で得た複合層Ａ８及びＢ８を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ８及びＢ８を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（延伸フィルム）−（ＳｉＯｘ層）の層構成を有するガスバリア積層体８を得た。

【0124】

（８−４．評価）
ガスバリア積層体８の金属アルコキシド２層の合計の厚さは、１．３μｍであった。ガスバリア積層体８のヘイズは２．１０％であった。ガスバリア積層体８の複合層Ａ８とＢ８との間の接着力及びガスバリア積層体８の透湿度を測定すると、それぞれ３．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２３×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ３．４０Ｎ／ｃｍ及び０．２４×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１−Ｂの界面であった。

【0125】

＜実施例９＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体９を作製した。ガスバリア積層体９は、金属アルコキシド層の形成方法が異なる他は、実施例５のガスバリア積層体５と同様の構成を有している。

【0126】

（９−１．複合層Ａ９の作製）
実施例５の工程（５−２）で得た積層体Ｐ５−ＡのＳｉＯｘ層側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理を施した当該表面に、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３：信越シリコーン社製）１．０重量部、エタノール７９．２重量部、及び純水１９．８重量部からなる混合溶液をバーコーター＃６で塗布し、８５℃で３０分間アニール処理し、金属アルコキシ層を形成し、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有する複合層Ａ９（図８の複合層A-IIに相当）を得た。

【0127】

（９−２．複合層Ｂ９の作製）
実施例５の工程（５−２）で得た積層体Ｐ５−Ｂの延伸フィルム側の表面に、リモート式の常圧プラズマ装置を用いて窒素流量２００Ｌ／ｍｉｎ、ドライエアー流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、出力１．５ｋＷ、１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍの条件で、表面処理を実施した。
表面処理を施した当該表面に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３：信越シリコーン社製）１．０重量部、エタノール７９．２重量部、及び純水１９．８重量部からなる混合溶液をバーコーター＃６で塗布し、８５℃で３０分間アニール処理し、金属アルコキシ層を形成し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ９（図８の複合層B-IIに相当）を得た。

【0128】

（９−３．ガスバリア積層体９の作製）
複合層Ａ１及びＢ１に代えて、上記（９−１）及び（９−２）で得た複合層Ａ９及びＢ９を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ９及びＢ９を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体９を得た。

【0129】

（９−４．評価）
ガスバリア積層体９の金属アルコキシド２層の合計の厚さは、１．７μｍであった。ガスバリア積層体９のヘイズは２．３０％であった。ガスバリア積層体９の複合層Ａ９とＢ９との間の接着力及びガスバリア積層体９の透湿度を測定すると、それぞれ１．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２４×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ１．５０Ｎ／ｃｍ及び０．３０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ５−Ｂの界面であった。

【0130】

＜実施例１０＞
図７に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体１０を作製した。

【0131】

（１０−１．ガスバリア積層体の作製）
実施例１の工程（１−３）で得た積層体Ｐ１−Ａを、表面処理及び金属アルコキシド層の形成処理を行わずそのまま用いた。積層体Ｐ１−ＡのＳｉＯｘ層側の表面と、実施例１の工程（１−５）で得た複合層Ｂ１の金属アルコキシド層側の表面とを対向させてこれらを重ねて、真空ラミネート装置を用いて、０．９ＭＰａ、１３０℃、３６０ｓｅｃの条件で圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体１０を得た。

【0132】

（１０−２．評価）
ガスバリア積層体１０の金属アルコキシドの厚さは、０．０３μｍであった。ガスバリア積層体１０のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体１０の積層体Ｐ１−ＡとＢ１との間の接着力及びガスバリア積層体１０の透湿度を測定すると、それぞれ３．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１−Ａと金属アルコキシド層の界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ３．００Ｎ／ｃｍ及び０．２４×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１−Ａと金属アルコキシド層の界面であった。

【0133】

＜実施例１１＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体１１を作製した。ガスバリア積層体１１は、延伸フィルムに代えて、材料の異なる非延伸のフィルムを用いた他は、実施例１のガスバリア積層体１と同様の構成を有している。

【0134】

（１１−１．ノルボルネン重合体２の合成）
窒素置換したガラス反応器に、（アリル）パラジウム（トリシクロヘキシルホスフィン）クロリド０．７７重量部及びリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート１．１４重量部を入れ、続けてトルエン２重量部を加え触媒液を調製した。
次いで、窒素置換した攪拌機付きの耐圧ガラス反応器に、２−ノルボルネン（ＮＢ；分子量＝９４）１，６５０重量部、５−エチル−２−ノルボルネン（Ｅ０ＮＢ；分子量＝１２２）９１５重量部、分子量調整剤としてスチレン１，３００重量部及び重合溶媒としてトルエン７，２００重量部を仕込み、上記の触媒液全量（３．９１重量部）を添加して重合を開始した。４５℃で４．５時間反応させた後、重合反応液を多量のメタノールに注いでポリマーを完全に析出させ、濾別洗浄後、５０℃で１８時間減圧乾燥して、ノルボルネン重合体２を２，４６２重量部得た。
ノルボルネン重合体２の数平均分子量は１４０，０００、重量平均分子量は５０２，０００であった。ノルボルネン重合体２中のＮＢ単位／Ｅ０ＮＢ単位組成比は、６１／３９（モル／モル）であった。ノルボルネン重合体２のガラス転移温度は２７４℃であった。重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、テトラヒドロフラン又はクロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算値として測定した。重合体の共重合比は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により求めた。ガラス転移温度は、ＤＭＳ６１００（セイコーインスツルメント社製）を用いて動的粘弾性測定により求まる貯蔵弾性率Ｅ’の屈曲点の温度で算出した。

【0135】

（１１−２．原反フィルム１１の作製）
ノルボルネン重合体２の２５重量部と、トルエン７５重量部とを混合した溶液を用いて、溶剤キャスト法で原反フィルム１１を作製した。原反フィルム１１の厚さは６０μｍであった。

【0136】

（１１−３．無機バリア層の形成）
延伸フィルム１に代えて上記（１１−２）で得た原反フィルム１１を用いた（即ち、延伸工程を経ずに用いた）以外は、実施例１の工程（１−３）と同様にして無機バリア層の形成を行い、（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）の層構成を有する積層体Ｐ１１を得た。積層体Ｐ１１のＳｉＯｘ層側の面及び原反フィルム側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ３．５０ｎｍ及び３．４０ｎｍであった。得られた積層体Ｐ１１を２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで２枚切り出し、それぞれを積層体Ｐ１１−Ａ、積層体Ｐ１１−Ｂとした。

【0137】

（１１−４．ガスバリア積層体１１の作製）
積層体Ｐ１−Ａ及び積層体Ｐ１−Ｂに代えて上記（１１−３）で得た積層体Ｐ１１−Ａ及び積層体Ｐ１１−Ｂを用いた他は、実施例１の工程（１−４）〜（１−６）と同様にして表面処理、金属アルコキシド層の形成及び圧着を行い、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）の層構成を有する複合層Ａ１１（図８の複合層A-IIに相当）、及び（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ１１（図８の複合層B-IIに相当）を得、さらに（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体１１を得た。

【0138】

（１１−５．評価）
ガスバリア積層体１１の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体１１のヘイズは０．２０％であった。ガスバリア積層体１１の複合層Ａ１１とＢ１１と間の接着力及びガスバリア積層体１１の透湿度を測定すると、それぞれ４．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１１−Ｂの界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ４．３０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、金属アルコキシド層と積層体Ｐ１１−Ｂの界面であった。

【0139】

＜実施例１２＞
図８に概略的に示す層構成を有するガスバリア積層体１２を作製した。ガスバリア積層体１２は、複合層Ａを構成する層の材料が異なる他は、実施例１のガスバリア積層体１と同様の構成を有している。

【0140】

（１２−１．無機バリア層の形成）
ポリエチレンナフタレートフィルム（商品名「テオネックスＱ６５ＦＡ」、帝人デュポン社製）を、原反フィルム１２として用いた。延伸フィルム１に代えてこの原反フィルム１２を用いた（即ち、延伸工程を経ずに用いた）以外は、実施例１の工程（１−３）と同様にしてＳｉＯｘ層の形成を行い、（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）の層構成を有する積層体Ｐ１２を得た。積層体Ｐ１２のＳｉＯｘ層側の面及び原反フィルム側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ２．０ｎｍ及び２．５ｎｍであった。得られた積層体Ｐ１２を２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで切り出し、積層体Ｐ１２−Ａとした。

【0141】

（１２−２．複合層Ａ１２の作製）
積層体Ｐ１−Ａに代えて上記（１２−１）で得た積層体Ｐ１２−Ａを用いた他は、実施例１の工程（１−４）と同様にして表面処理及び金属アルコキシド形成を行い、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（原反フィルム）の層構成を有する複合層Ａ１２（図８の複合層A-IIに相当）を得た。

【0142】

（１２−３．ガスバリア積層体１２の作製）
複合層Ａ１に代えて上記（１２−２）で得た複合層Ａ１２を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ１２及びＢ１を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（延伸フィルム）の層構成を有するガスバリア積層体１２を得た。

【0143】

（１２−３．評価）
ガスバリア積層体１２の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体１２のヘイズは０．２５％であった。ガスバリア積層体１２の複合層Ａ１２とＢ１２と間の接着力及びガスバリア積層体１２の透湿度を測定すると、それぞれ４．３０Ｎ／ｃｍ及び０．３０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１２-Ａと金属アルコキシド層の界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ４．２０Ｎ／ｃｍ及び０．６５×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１２-Ａと金属アルコキシド層の界面であった。

【0144】

＜実施例１３＞
ガスバリア積層体及び偏光子を有する円偏光板を作製した。

【0145】

（１３−１．１／２波長板積層体Ｐ１３−Ａの作製）
実施例１の工程（１−１）で得られた原反フィルム１を、縦延伸装置を用い延伸温度１７２℃でフィルムの流れ方向（ＭＤ方向）に１．３倍延伸し、１／２波長板を作製した。
延伸フィルム１に代えてこの１／２波長板を用いた他は、実施例１の工程（１−３）と同様にして無機バリア層の形成を行い、（ＳｉＯｘ層）−（１／２波長板）の層構成を有する積層体を得、これを２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで切り出し、積層体Ｐ１３−Ａを得た。切り出しに際しては、１／２波長板の遅相軸と、他の層の遅相軸及び偏光軸との角度が後述する所定の状態となるよう、遅相軸と辺との関係を合わせて切り出しを行った。
得られた積層体Ｐ１３−Ａの波長５５０ｎｍのレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は２６５ｎｍであり、波長４５０ｎｍのレタデーション値（Ｒｅ（４５０））との比（Ｒｅ（４５０））／（Ｒｅ（５５０））は１．０５１であった。積層体Ｐ１３−ＡのＳｉＯｘ層側の面及び１／２波長板側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ０．６５ｎｍ及び０．７８ｎｍであった。

【0146】

（１３−２．１／４波長板積層体Ｐ１３−Ｂの作製）
実施例１の工程（１−１）で得られた原反フィルム１を、縦延伸装置を用い延伸温度１７２℃でフィルムの流れ方向（ＭＤ方向）に１．５倍延伸し、１／４波長板を作製した。
延伸フィルム１に代えてこの１／４波長板を用いた他は、実施例１の工程（１−３）と同様にして無機バリア層の形成を行い、（ＳｉＯｘ層）−（１／４波長板）の層構成を有する２００ｍｍ×２００ｍｍの積層体を得、これを２００ｍｍ×２００ｍｍのサイズで切り出し、積層体Ｐ１３−Ｂを得た。切り出しに際しては、１／４波長板の遅相軸と、他の層の遅相軸及び偏光軸との角度が後述する所定の状態となるよう、遅相軸と辺との関係を合わせて切り出しを行った。
得られた積層体Ｐ１３−Ｂの波長５５０ｎｍのレタデーション値（Ｒｅ（５５０））は１３２．５ｎｍであり、波長４５０ｎｍのレタデーション値（Ｒｅ（４５０））との比（Ｒｅ（４５０））／（Ｒｅ（５５０））は１．０５１であった。積層体Ｐ１３−ＢのＳｉＯｘ層側の面及び１／４波長板側の面の表面粗さＲａを測定すると、それぞれ０．６９ｎｍ及び０．８３ｎｍであった。

【0147】

（１３−３．複合層Ａ１３及び複合層Ｂ１３の作製）
積層体Ｐ１−Ａ及びＰ１−Ｂに代えて、上記（１３−１）及び（１３−２）で得たＰ１３−Ａ及びＰ１３−Ｂを用いた他は、実施例１の工程（１−４）及び（１−５）と同様にして表面処理及び金属アルコキシド形成を行い、（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（１／２波長板）の層構成を有する複合層Ａ１３、及び（ＳｉＯｘ層）−（１／４波長板）−（金属アルコキシド層）の層構成を有する複合層Ｂ１３を得た。

【0148】

（１３−４．ガスバリア積層体１３の作製）
複合層Ａ１及びＢ１に代えて、上記（１３−３）で得た複合層Ａ１３及びＢ１３を用いた他は、実施例１の工程（１−６）と同様にして複合層Ａ１３及びＢ１３を圧着し、（ＳｉＯｘ層）−（１／４波長板）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（１／２波長板）の層構成を有し、１／２波長板の遅相軸と１／４波長板の遅相軸との交差角が５９°であるガスバリア積層体１３を得た。

【0149】

（１３−５．ガスバリア積層体１３の評価）
ガスバリア積層体１３の金属アルコキシド層２層の合計の膜厚は、０．０５μｍであった。ガスバリア積層体１３のヘイズは０．２５％であった。ガスバリア積層体１３の複合層Ａ１３とＢ１３との間の接着力及びガスバリア積層体１３の透湿度を測定すると、それぞれ４．５０Ｎ／ｃｍ及び０．２０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１３-Ｂと金属アルコキシド層の界面であった。高温高湿環境に暴露した後の接着力及び透湿度を測定すると、それぞれ４．４０Ｎ／ｃｍ及び０．３０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙであった。剥離界面は、Ｐ１３-Ｂと金属アルコキシド層の界面であった。

【0150】

（１３−６．円偏光板の作製）
得られたガスバリア積層体１３の１／２波長板側の表面に、コロナ処理（０．１５ｋＷ、電極間２ｍｍ、処理速度１．０ｍ／ｍｉｎ、処理幅３００ｍｍ）を施した。
ポリエステル系ポリウレタン樹脂の酢酸エチル溶液（日本ポリウレタン社製ＷＷＡ−６０８Ｓ）２０重量部、ポリイソシアネートの酢酸エチル溶液（日本ポリウレタン社製ＨＡＲＤＥＮＥＲ１１０）２０重量部、酢酸ブチル０．４重量部、シクロヘキサン０．４重量部、及び酢酸エチル８０重量部を混合し、塗布液を調製した。
ガスバリア積層体の、１／２波長板側のコロナ処理を施した面上に、上記塗布液を、バーコーターでウェット膜厚２０μｍで塗布し、８５℃で３０分間乾燥し、（ＳｉＯｘ層）−（１／４波長板）−（金属アルコキシド層）−（金属アルコキシド層）−（ＳｉＯｘ層）−（１／２波長板）−（樹脂層）の層構成を有する偏光層積層体１３を得た。
得られた偏光層積層体１３の樹脂層側の面と、片面にＴＡＣフィルムが積層されたよう素系偏光子の偏光子面とを、１／２波長板の遅層軸と偏光層の偏光軸との交差角が１５°となり、且つ１／４波長板の遅相軸と偏光層の偏光軸が７４°となるように重ね合わせて、７０℃で熱圧着し、４０℃で３日間エージングし、円偏光板を得た。

【0151】

（１３−７．円偏光板の評価）
円偏光板を、裏面に反射板を有する反射型液晶表示素子上に、１／４波長板側が該液晶表示素子に対面するように設置し、液晶表示素子の表示を黒表示（前面を黒に表示する）にし、前記円偏光板を通して観た黒表示の鮮明度を評価した。黒表示の黒のトーンが画面全面に亘り均一で、且つ濃いトーンである良好な特性を有していることがわかった。

【0152】

実施例１〜１３で得られた積層体は、いずれも、耐湿熱試験前後の接着力、水蒸気バリア性が良好であり、ヘイズも小さいため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等に好適に使用できるものであった。

【符号の説明】

【0153】

１００、２００、３００、４００：ガスバリア積層体
１１ａ：金属アルコキシド層（ａ）
１１ｂ：金属アルコキシド層（ｂ）
１２ａ：無機バリア層（ａ）
１２ｂ：無機バリア層（ｂ）
１３ａ：フィルム（ａ）
１３ｂ：フィルム（ｂ）
Ａ−Ｉ、Ａ−ＩＩ、Ａ−ＩＩＩ：複合層Ａ
Ｂ−Ｉ、Ｂ−ＩＩ：複合層Ｂ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】