特許第5735418号(P5735418)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5735418ポリ（５，５’−ビス（チオフェン−２−イル）−ベンゾ［２，１−ｂ；３，４−ｂ’］ジチオフェン）、及び半導体ポリマーを加工可能な高機能溶液としてのその使用方法
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