特許5742012蒸着拡散処理用ケース及びＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の製造方法

発明の名称　蒸着拡散処理用ケース及びＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の製造方法

出願人　日立金属株式会社　（識別番号 5083）

　　　　特許公開件数ランキング 107 位（275件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 138 位（196件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5742012

公報発行日　2015年7月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5742012

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