特許第5743008号(P5743008)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5743008フォトマスクブランク及びその製造方法、フォトマスク、光パターン照射方法、並びにハーフトーン位相シフト膜の設計方法
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