(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記第一と第二トランジスタはp型トランジスタで、前記第三と第四トランジスタはn型トランジスタであることを特徴とする請求項2に記載の抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下の開示は、
一つ以上の異なる実施例、具体例を提供して、本発明の異なる特徴を実行することが理解できる。構成要素と配置の特定の例が以下で示されて、本発明をわかりやすくしている。もちろん、これらは、単なる例であり、これに限定されない。図の各種特徴は、工業における標準的技法によっては描かれておらず、説明目的にのみ用いられている。
【0009】
さらに、空間的相対語、たとえば、“低”“上部”“水平”“垂直”“上方”“下方”“上”“下”“頂部”“底部”“左”“右”等とその派生用語(たとえば、“水平に”“下方に”“上方に”等)を用いて、本発明の一特徴ともう
一つの特徴の関係をわかりやすくしている。空間的相対語は、特徴を含む装置の異なる配向性をカバーすることが目的である。
【0010】
図1は、
いくつかの実施例による抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路(
図3中の300)のメモリカラムモジュール100の回路図である。メモリカラムモジュール100は、第一データライン(ビットラインBLとも称される)、第二データライン(ソースラインSLとも称される)、複数の抵抗ベースメモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]、第一駆動ユニット120、および、第二駆動ユニット130を含む。
図1では、4個のメモリセルだけが示されているが、
いくつかの実施例において、メモリカラムモジュール100は、カラムに
配列された2個以上のメモリセルを含んでいる。
いくつかの実施例において、Nは整数で、且つ、2≦Nである。
いくつかの実施例において、Nは、512から2048である。
【0011】
データラインBLは、第一駆動ユニット120に結合される第一端、および、第二駆動ユニット130に結合される第二端を有する。NノードB[1]、B[2]、B[3]、および、B[N]が、データラインBLに沿って特定される。データラインSLは、また、第一駆動ユニット120に結合される第一端と第二駆動ユニット130に結合される第二端を有する。ノードB[1]、B[2]、B[3]、および、B[N]に対応するNノードS[1]、S[2]、S[3]、および、S[N]が、データラインSLに沿って特定される。抵抗ベースメモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]が、第一データラインBLと第二データラインSLに平行な方向に沿って
一つずつ配列される。メモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110 [N]
の各々は、データラインBLのノードB[1]、B[2]、B[3]、および、B[N]の
うちの一つに接続される第一端、および、ノードB[1]、B[2]、B[3]、および、B[N]に対応するデータラインSLのノードS[1]、S[2]、S[3]、および、S[N]の
うちの一つに接続される第二端を有する。
【0012】
メモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]は、対応するワードラインWL[1]、WL[2]、WL[3]、および、WL[N]により選択可能な磁気抵抗ランダムアクセスメモリセルである。たとえば、例のメモリセル110[N]は、誘電層(図示されない)により
分離されるピン層112aと自由層112bを有する磁気トンネル接合(MTJ)112を含む。メモリセル110[N]は、また、ワードラインWL[N]に結合されるスイッチ114を有する。ワードラインWL[N]が駆動されて、メモリセル110[N]を選択する時、スイッチ114は、MTJ112とデータラインSLを結合し、よって、データラインBLとデータラインSL間に、導電性パスを形成している。ピン層112aと自由層112bの相対配向が、MTJ112の抵抗を決定する。
いくつかの実施例において、ピン層112aと自由層112bが同一方向性で配向する場合、MTJ112は低抵抗状態となる。
いくつかの実施例において、ピン層112aと自由層112bが反対方向で配向する場合、MTJ112は高抵抗状態となる。
【0013】
第一駆動ユニット120が設定されて、データラインBLとデータラインSL
のうちの一つを、書き込み操作期間中の書き込みデータムに応じて、電圧ノードVPに電気的に
結合するか、または、読み取り操作期間中のセンス増幅器(
例えば、図3中の328)に
結合する。第二駆動ユニット130が設定されて、データラインBLとデータラインSLの
うちの他の一つと電圧ノードVSSを電気的に結合する。
いくつかの実施例において、電圧ノードVPは、電圧ノードVSSより高い電圧レベルを有する。
いくつかの実施例において、電圧ノードVPと電圧ノードVSSは、共に、メモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]の
うちの選択された
一つのMTJ112の自由層112bの配向性を変化させる電流を生成するのに十分な第一駆動ユニット120と第二駆動ユニット130
間の電圧差を提供する。
いくつかの実施例において、電圧ノードVSSが接地に結合され、電圧ノードVPが、0.8から1.5ボルトの電圧レベルを有する電源に結合される。駆動ユニット120と130は、データラインBLとSLの反対端に位置するので、
個別のメモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]にアクセスする時に生成される導電性パスは、データラインBLとSLの
略同数のセグメント(ノードB[1]、B[2]、B[3]、B[N]、S[1]、S[2]、S[3]、および、S[N]により特定される)
を介して走る。よって、アクセスされる時、メモリセル110[1]、110[2]、110[3]、および、110[N]は、同様に、データラインBLとSLの寄生抵抗の影響を受ける。
【0014】
第一駆動ユニット120は、書き込みバッファ122、書き込み選択回路124、および、読み取り選択回路126を有する。書き込みバッファ122は、トランジスタ142と144、および、ORゲート146と148を有する。トランジスタ142と144のソースは、電圧ノードVPに結合されている。トランジスタ142のドレインはデータラインBLに結合され、トランジスタ144のドレインはデータラインSLに結合されている。ORゲート146は、データラインSLに結合される第一
入力、および、
書き込みイネーブル信号を伝えるように設定される書き込みイネーブルノードWEN_Bに結合される第二
入力を
有している。ORゲート148は、データラインBLに結合される第一
入力、および、書き込みイネーブルノードWEN_Bに結合される第二
入力を有している。書き込みイネーブルノードWEN_Bで、書き込みイネーブル信号が低レベル論理を有する時、ORゲート146と148は、
トランジスタ142と144を一対の交差結合トランジスタとして設定するためのスイッチング回路として共に機能する。
いくつかの実施例において、トランジスタ142と144はp型トランジスタである。
【0015】
書き込み選択回路124は、電圧ノードVPとデータラインBL間に結合されるトランジスタ152、および、電圧ノードVPとデータラインSL間に結合されるトランジスタ154を含む。トランジスタ152が設定されて、
制御信号 DIN_Bに応じて、データラインBLの電圧レベルを、電圧ノードVPの電圧レベル
に向かってプルする。トランジスタ154が設定されて、
制御信号 DIN_Bに論理的に相補する信号である制御信号 DINB_Bに応じて、データラインSLの電圧レベルを、電圧ノードVPの電圧レベル
に向かってプルする。
いくつかの実施例において、アクセスされるメモリセルの書き込みデータムと一組のロウアドレス信号(
図3中のAY)に基づいて、信号DIN_BとDINB_Bが、ロウデコーダ(
図3中の334)により生成される。さらに、読み取り選択回路126は、
読み取りカラム選択信号RCSに応じて、データラインBLをセンス増幅器(
図3中の328)に電気的に結合
するためのトランジスタ162を含む。
いくつかの実施例において、トランジスタ152と154はp型トランジスタである。
【0016】
第二駆動ユニット130は、二個のトランジスタ172と174とORゲート176を含む。トランジスタ172は、データラインBLに結合されるドレイン、電圧ノードVSSに結合されるソース、および、データラインSLに結合されるゲートを有する。トランジスタ174は、データラインSLに結合されるドレイン、電圧ノードVSSに結合されるソース、および、ORゲート176の出
力に結合されるゲートを有する。ORゲート176の入
力はデータラインBLに結合され、ORゲートの
もう一方の入力は、読み取りイネーブルノード RENに結合されている。読み取りイネーブルノード RENで、読み取りイネーブル信号が低レベル論理を有する時、ORゲート176は、
トランジスタ172と174を一対の交差結合トランジスタとして設定するスイッチング回路として機能
する。
いくつかの実施例において、トランジスタ172と174はn型トランジスタである。
【0017】
いくつかの実施例において、メモリセル、たとえば、メモリセル110[X](
図2A−
図2B)を、低抵抗状態を有するように設定する時、信号DIN_Bは低レベル論理を有し、信号DINB_Bは高レベル論理を有し、および、読み取りカラム選択信号 RCSは低レベル論理を有する。書き込みイネーブルノード WEN_B は低レベル論理を有し、よって、トランジスタ142と144は、一対の
交差結合トランジスタとして機能するように設定される。Xは整数で、且つ、1≦X≦Nである。読み取りイネーブルノードは低レベル論理を有し、よって、トランジスタ172と174も、一対の
交差結合トランジスタとして機能するように設定される。トランジスタ152をオンにして、データラインBLと電圧ノードVPを結合し、トランジスタ154をオフにして、データラインSLを電圧ノードVPから切り離す
(デカップルする)。電圧ノードVP、トランジスタ142と152、ノードB[1] . . . B[X](
図2A−
図2B)、メモリセル110[X]、ノードS[X](
図2A−
図2B) . . . S[N]、トランジスタ174から、電圧ノードVSSに導電性パスが構築される。
【0018】
いくつかの実施例において、メモリセル、たとえば、メモリセル110[X]が、低抵抗状態を有するように設定される時、信号DIN_Bは高レベル論理を有し、信号DINB_Bは低レベル論理を有し、および、読み取りカラム選択信号RCSは低レベル論理を有する。書き込みイネーブルノードWEN_Bは低レベル論理を有し、よって、トランジスタ142と144は、一対の
交差結合トランジスタとして機能するように設定される。読み取りイネーブルノードは低レベル論理を有し、トランジスタ172と174
も又、一対の
交差結合トランジスタとして機能するように設定される。トランジスタ152をオフにして、データラインBLを電圧ノードVPから切り離し、トランジスタ154をオンにして、データラインSLと電圧ノードVPを結合する。導電性パスが、電圧ノードVP、トランジスタ144と154、ノードS[1] . . .S[X]、メモリセル110[X]、ノードB[X] . . . B[N]、トランジスタ172、および、電圧ノードVSSから構築される。
【0019】
いくつかの実施例において、メモリセル、たとえば、メモリセル110[X]の抵抗状態を読み取る時、信号DIN_Bと信号DINB_Bは、低レベル論理を有する。読み取りカラム選択信号RCSは高レベル論理を有し、よって、トランジスタ162をオンにして、データラインBLとセンス増幅器(
図3中の328)を結合する。書き込みイネーブルノードWEN_Bは高レベル論理を有して、トランジスタ142と144をオフにする。読み取りイネーブルノードは
低レベル論理を有して、トランジスタ174をオンにし、トランジスタ172をオフにする。センス増幅器328、トランジスタ162、ノードB[1] . . . B[X]、メモリセル110[X]、ノードS[X] . . . S[N]、トランジスタ174から電圧ノードVSSに導電性パスが構築される。
【0020】
図1において、MRAMセルは、抵抗ベースのランダムアクセスメモリセルの例として描かれている。実施例において、メモリセル110[1] . . . 110[N]は、RRAMセル、または、PCRAMセルである。
【0021】
図2Aは、
いくつかの実施例による第一メモリセル(すなわち、メモリセル110[1])がアクセスされる時の
図1中に示されるメモリカラムモジュール100の機能ブロック図である。メモリセル110[1]を読み取り、または、書き込みするために構築される導電性パス210は、ノードB[1]、メモリセル110[1]、および、ノードS[1] . . .S[N]を通過する。
図2Bは、
いくつかの実施例による第Nメモリセル(すなわち、メモリセル110[N])がアクセスされる時の
図1に示されるメモリカラムモジュール100の機能ブロック図である。メモリセル110[1]の読み取り、または、書き込みのために構築される導電性パス220は、ノードB[1] . . . B[N]、メモリセル110[1]、および、ノードS[N]を通過する。
【0022】
いくつかの実施例において、データラインBLとデータラインSLは、同じレイアウトを有し、同じ材料で形成される。よって、データラインBLとデータラインSLは、各ユニット長さで、同じ寄生抵抗を有する。
いくつかの実施例において、ノードB[1] . . . B[X]の
うちの2個の隣接する
ものにより特定されるデータラインBLの各セグメントは、ノードS[1] . . . S[X]により特定されるデータラインSLの対応するセグメントと
同等、または、ほぼ同じである寄生抵抗値を有する。導電性パス210と220、または、
メモリセル110[1] . . . 110[N]のどれか一つが選択される時の任意の導電性パスと比較する
と、メモリセルにアクセスする各導電性パスは、データラインBLの長さ、または、データラインSLの長さを通過しなければならない。したがって、各導電性パス(たとえば、210、または、220)は、同様に、データラインBLとSLの寄生抵抗の影響を受ける。
【0023】
よって、駆動ユニット120と130
の双方を備えることにより、メモリカラムモジュール中の各選択されたメモリセルに
対して、データラインBLとSLの寄生抵抗に
よって寄与される電圧降下がほぼ同じになることを確保するのを助ける。よって、メモリカラムモジュールにおいて、各種位置でメモリセルにアクセスする駆動条件は、ほぼ同じである。その一方、データラインBLとSLの一端でだけ、駆動ユニットを有する設定において、駆動ユニットに近いメモリセルのデータラインBLとSLの寄生抵抗
によって寄与される電圧降下は、駆動ユニットから遠いメモリセルよりも小さい。データラインBLとSLの一端でだけ駆動ユニットを有する設定において、近接するメモリセルにアクセスするのに十分な駆動電圧は、さらに遠いメモリセルにとって十分ではなく、さらに遠いメモリセルにアクセスするのに十分な駆動電圧は、近いメモリセルにとって、過度である。その結果、
図1と
図2A−
図2Bに示される実施例と比較すると、さらに遠いメモリセルは、読み取り、または、書込み操作が失敗する傾向があり、近いメモリセルは、
過剰電圧と電流によりストレスを受けるのでさらに遠いメモリセルよりも早く、回復不能な損傷を受ける
(すなわち、異なる抵抗状態間で、
もはや切り換えが可能
ではなくなる)傾向がある。
いくつかの実施例において、データライン一端でだけ、駆動ユニットを有する設定と比較すると、例のメモリカラムモジュール100は、メモリセルが損壊する前、少なくとも2回の読み取り書き込み周期に耐えることができる。
いくつかの実施例において、例のメモリカラムモジュール100は、メモリセルが損壊する前、少なくとも100,000
回の読み取り書き込み周期に耐えることができる。
【0024】
図3は、
いくつかの実施例による抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路300の機能ブロック図である。メモリ回路300は、M個のロウとN個のカラムに配列された抵抗ベースメモリセル310のアレイ、書き込みドライバ322、書き込みマルチプレクサー324、読み取りマルチプレクサー326、センス増幅器328、ロウデコーダ332、カラムデコーダ334、エンドドライバ340、および、メモリコントローラー350を含む。メモリセル310の各カラムは、対応するデータラインBL[1] . . . BL[M]とSL[1] . . . SL[M]に結合される。メモリセル310の各ロウは、対応するワードラインWL[1] . . . WL[N]に結合される。MとNは正の整数である。メモリセルのアレイ、書き込みドライバ322、書き込みマルチプレクサー324、読み取りマルチプレクサー326、および、対応するデータラインBL[1] . . . BL[M]とSL[1] . . . SL[M]は、また、複数のメモリカラムモジュール360、たとえば、
図1に示される複数の例のメモリカラムモジュール100を有するように配列される。
そのようなものとして、いくつかの実施例において、メモリカラムモジュール360の全書き込みバッファ122は、まとめて、書き込みドライバ322と見なさ
れ、メモリカラムモジュール360の全書き込み選択回路124は、まとめて、書き込みマルチプレクサー324と見なさ
れ、メモリカラムモジュール360の全読み取り選択回路126は、まとめて、読み取りマルチプレクサー324と見なさ
れ、全駆動ユニット130は、まとめて、エンドドライバ340と見なされる。
【0025】
メモリコントローラー350は、メモリ回路300に関連する外付け回路から、各種信号を受信する。メモリコントローラー350は、読み取りイネーブル信号RENをエンドドライバ340に、書き込みイネーブル信号WEN_Bを書き込みドライバ322に伝送する。メモリコントローラー350は、アクセスされるメモリセルのアドレスの一部を示すロウアドレス信号AXを、ロウデコーダ332に伝送する。ロウデコーダ332は、
ロウアドレス信号AXに応じて、ワードラインWL[1] . . . WL[N]上で、ワードライン信号を生成、並びに、
出力する。メモリコントローラー350は、アクセスされるメモリセルのアドレスの別の部分を示すカラムアドレス信号AY、書き込まれるデータムW_DATA、および、読み取りイネーブル信号RENを、カラムデコーダ334に伝送する。カラムデコーダ334は、
カラムアドレス信号AYとデータムW_DATAに応じて、対応する制御信号、たとえば、対応する制御信号DIN_BとDINB_Bを生成
し、並びに、
カラムアドレス信号AYと読み取りイネーブル信号RENに応じて、対応する読み取りカラム選択信号RCSを生成
する。
【0026】
カラムデコーダ334は、対応する制御信号を生成して、2個以上のデータラインBL[1] . . . BL[M]をセンス増幅器328に選択する。
いくつかの実施例において、データムは、差動方式で保存され、よって、読み取り操作期間中、2個の対応するメモリカラムモジュール360のデータラインBLがセンス増幅器328に結合される。
いくつかの実施例において、データムは、非差動方式で保存され、よって、選択されたメモリカラムモジュール360のデータラインBL、全高抵抗状態メモリセルを有する第一参照カラム、および、全低抵抗状態メモリセルを有する第二参照カラムは、読み取り操作期間中、センス増幅器328に結合される。センス増幅器328は、読み取りマルチプレクサー326から、データラインBLを読み取り、読み取りデータDOUTを、メモリコントローラー350に出力する。
【0027】
メモリ回路300は、
図1で示される複数のメモリカラムモジュール100が、どのように、配列されて、メモリ回路を形成するかの例である。当業者なら分かるように、メモリカラムモジュール100
は、多くの他の可能なメモリ回路構造と連結するメモリ回路を実行する
ように使用可能である。
【0028】
図4は、
一つ以上の実施例による抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路の操作方法のフローチャートである。
図4で示される方法400を実行する前、実行中、および/または、実行後、追加操作が実行され
てもよく、
いくつかの別のプロセスが簡潔に示されて
いるにすぎないことが理解
される。
【0029】
図4と
図1に示されるように、操作410中、第一駆動ユニット120は、第一データラインBLの第一端と電圧ノードVPを結合し、第二データラインSLの第一端を電圧ノードVPから切り離すように設定される。
いくつかの実施例において、操作410は、
書き込みデータムに基づいて生成される書き込みイネーブル信号DIN_Bに応じて、第一駆動ユニット120のトランジスタ152をオンにして、データラインBLの第一端と電圧ノードVPを結合
する工程を含む。
いくつかの実施例において、操作410は、また、
書き込みイネーブル信号 DIN_Bと補完的である論理レベルを有する書き込みイネーブル信号DINB_Bに応じて、第一駆動ユニット120の別のトランジスタ154をオフにして、データラインSLの第一端を電圧ノードVPから切り
離す工程を含む。
いくつかの実施例において、操作410中、第一駆動ユニット120は、データラインBLの第一端を電圧ノードVPから切り離して、データラインSLの第一端と電圧ノードVPを結合するように設定される。
【0030】
プロセスは、その後、操作420に進み、第二駆動ユニット130は、データラインBLの第二端を第二電圧ノードVSSから切り離して、データラインSLの第二端と電圧ノードVSSを結合するように設定される。
いくつかの実施例において、操作420は、駆動ユニット130のトランジスタ172をオフにして、データラインBLの第二端を電圧ノードVSSから切り離す工程を含む。
いくつかの実施例において、操作420は、また、駆動ユニット130の別のトランジスタ174をオンにして、データラインSLの第二端と電圧ノードVSSを結合する工程を含む。
いくつかの実施例において、操作420中、第二駆動ユニット130は、データラインBLの第二端と電圧ノードVSSを結合して、データラインSLの第二端を電圧ノードVSSから切り離すように設定される。
【0031】
その後、プロセスは操作430に進み、
ワードラインWL[1] . . . WL[N]のうちの一つの対応するワードライン信号に応じて、複数の抵抗ベースメモリセル110[1] . . . 110[N]
のうちの一つにより、データラインBLとデータラインSL間に導電性パスが構築
される。
【0032】
一実施例において、抵抗ベースランダムアクセスメモリ回路は、第一データライン、第二データライン、複数の抵抗ベースメモリセル、第一駆動ユニット、および、第二駆動ユニットを含む。複数の抵抗ベースメモリセルは、第一データラインと第二データラインに平行な方向に沿って
一つずつ配列される。複数の抵抗ベースメモリセルはそれぞれ、第一データラインと結合される第一端と第二データラインと結合される第一端を有する。第一駆動ユニットは、第一データラインの第一端と第二データラインの第一端と
直接接続される。第一駆動ユニットが設定されて、第一データラインと第二データライン
のうちの一つと第一電圧ノードを電気的に結合する。第二駆動ユニットは、第一データラインの第二端と第二データラインの第二端と
直接接続される。第二駆動ユニットが設定されて、第一データラインと第二データライン
のうちの他の一つと第二電圧ノードを電気的に結合する。
【0033】
別の実施例において、抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路は、複数のメモリカラムモジュールを含む。複数のメモリカラムモジュールのそれぞれは、第一データライン、第二データライン、N抵抗ベースメモリセル、第一駆動ユニット、および、第二駆動ユニットを有する。Nは整数、且つ、2≦Nである。第一データラインは、第一データラインの第一端と第一データラインの第二端間で定義されるNノードを有する。第二データラインは、第二データラインの第一端と第二データラインの第二端間で特定されるNノードを有する。
N抵抗ベースメモリセルの
それぞれは、第一データラインのNノード
のうちの一つに接続される第一端、および、第一データラインのNノード
のうちの一つに対応する第二データラインのNノード
のうちの一つに接続される第二端を有する。第一駆動ユニットは、第一データラインの第一端と第二データラインの第一端と
直接接続される。第二駆動ユニットは、第一データラインの第二端と第二データラインの第二端と
直接接続される。第一駆動ユニットと第二駆動ユニットが設定されて、
第一データラインのN個のノードのうちの、第一データラインの第一端からカウントした初めのXノード、および、第二データラインのN個のノード
うちの、第二データラインの第二端からカウントした(N-X+1)ノードを通過する導電性パスを生成する。Xは整数、且つ、1≦X≦Nである。
【0034】
別の実施例において、抵抗ベースのランダムアクセスメモリ回路の操作方法は、第一データラインの第一端と第一電圧ノードを結合し、第二データラインの第一端を第一電圧ノードから
デカップルするように、第一駆動ユニットを設定する工程を含む。第二駆動ユニットは、第一データラインの第二端を第二電圧ノードから
デカップルし、第二データラインの第二端と第二電圧ノードを結合するように設定される。
ワードライン信号に応じて、メモリ回路の複数の抵抗ベースメモリセル
のうちの一つにより、第一データラインと第二データライン間に導電性パス
が構築される。複数の抵抗ベースメモリセルは、第一データラインと第二データラインに沿って、カラムで
配列され、複数の抵抗ベースメモリセルは、それぞれ、第一データラインと結合する第一端と第二データラインと結合する第二端を有する。
【0035】
本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。