特許 5769954 粉塵処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5769954

(24)【登録日】2015年7月3日

(45)【発行日】2015年8月26日

(54)【発明の名称】粉塵処理装置

(51)【国際特許分類】

   B01D 47/02 20060101AFI20150806BHJP

   B01D 47/06 20060101ALI20150806BHJP

   B23Q 11/00 20060101ALN20150806BHJP

【ＦＩ】

   B01D47/02 Z

   B01D47/06 Z

   !B23Q11/00 M

【請求項の数】2

【全頁数】6

(21)【出願番号】特願2010-263167(P2010-263167)

(22)【出願日】2010年11月26日

(65)【公開番号】特開2012-110853(P2012-110853A)

(43)【公開日】2012年6月14日

【審査請求日】2013年10月24日

(73)【特許権者】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】100075177

【弁理士】

【氏名又は名称】小野 尚純

(74)【代理人】

【識別番号】100113217

【弁理士】

【氏名又は名称】奥貫 佐知子

(72)【発明者】

【氏名】遠藤 智章

(72)【発明者】

【氏名】高橋 邦充

【審査官】 目代 博茂

(56)【参考文献】

【文献】 実開昭５８−０４３９２４（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特公昭４１−００７３８４（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】 特開２０００−０１５０３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特公昭４０−０２３８７７（ＪＰ，Ｂ１）

【文献】 実公昭４９−０２４６１６（ＪＰ，Ｙ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０１Ｄ４７／００−４７／１８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室と連通する連通口を備えた仕切り壁とを具備し、該処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、該粉塵分離室を排気手段に連通した粉塵処理装置において、
該粉塵分離室に該処理空気導入室側から該仕切り壁の連通口を通して流入する粉塵捕捉液を攪拌するための攪拌板を配設するとともに、該仕切り壁の連通口に該処理空気導入室側から該粉塵分離室に流入する粉塵捕捉液を整流する整流手段が配設されており、
該整流手段は、ハニカム構造体からなっている、
ことを特徴とする粉塵処理装置。

【請求項2】

該粉塵分離室に粉塵捕捉液を噴霧する粉塵捕捉液供給手段を備えている、請求項１記載の粉塵処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザー加工装置や研磨装置等の加工装置によって加工する際に発生する粉塵を処理するための粉塵処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体基板の表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々のデバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面にフォトダイオード等の受光素子やレーザーダイオード等の発光素子等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々のフォトダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。

【0003】

上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハをストリートに沿って分割する方法として、ウエーハに形成されたストリートに沿ってパルスレーザー光線を照射することによりレーザー加工溝を形成し、このレーザー加工溝に沿って破断する方法が実用化されている。

【0004】

上述したように被加工物であるウエーハにレーザー光線を照射すると、デブリが発生し、このデブリを含む粉塵が飛散されるため、粉塵を処理する必要がある。この粉塵を処理する装置として湿式粉塵処理装置が実用化されている。この湿式粉塵処理装置は、粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室と連通する連通口を備えた仕切り壁とを具備し、上記処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、上記粉塵分離室を排気手段に連通して構成されている。（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０００−２３７５２１号公報

【特許文献2】特開２００５−３２９３７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

而して、上記特許文献に開示された粉塵処理装置においては、処理空気導入室に導入された処理空気に含まれる粉塵を確実に捕捉することができず、必ずしも満足し得るものではない。

【0007】

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、処理空気に含まれる粉塵を確実に捕捉することができる粉塵処理装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、粉塵捕捉液を収容する処理槽と、該処理槽を処理空気導入室と粉塵分離室とに区画するとともに下部に処理空気導入室と粉塵分離室と連通する連通口を備えた仕切り壁とを具備し、該処理空気導入室を粉塵発生源に連通し、該粉塵分離室を排気手段に連通した粉塵処理装置において、
該粉塵分離室に該処理空気導入室側から該仕切り壁の連通口を通して流入する粉塵捕捉液を攪拌するための攪拌板を配設するとともに、該仕切り壁の連通口に該処理空気導入室側から該粉塵分離室に流入する粉塵捕捉液を整流する整流手段が配設されており、
該整流手段は、ハニカム構造体からなっている、
ことを特徴とする粉塵処理装置が提供される。

【0009】

上記粉塵分離室に粉塵捕捉液を噴霧する粉塵捕捉液供給手段を備えていることが望ましい。

【発明の効果】

【0010】

本発明による粉塵処理装置は、処理空気導入室と粉塵分離室と区画する仕切り壁に設けられた連通口に処理空気導入室側から粉塵分離室に流入する粉塵捕捉液を整流するためのハニカム構造体からなる整流手段が配設されているので、粉塵捕捉液の上下左右への波打が抑制され、攪拌板によって粒子が揃った水粉末を生成することができ、処理空気中の粉塵に水滴を効率よく付着することができる。また、仕切り壁の連通口にはハニカム構造体からなる整流手段が配設されているので、粉塵捕捉液の水位変化が生じても上下左右への波打を抑制する効果を維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】本発明に従って構成された粉塵処理装置の断面図。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明に従って構成された粉塵処理装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。

【0013】

図１には、本発明に従って構成された粉塵処理装置の断面図が示されている。図１に示す粉塵処理装置は、粉塵捕捉液を収容する処理槽２を具備している。この処理槽２は、底壁２１と側壁２２および上壁２３とからなっている。処理槽２内には、処理槽を処理空気導入室２aと粉塵分離室２bとに区画する仕切り壁３が配設されている。この仕切り壁３の下部には、処理空気導入室２aと粉塵分離室２bとを連通する連通口３１が設けられている。仕切り壁３に設けられた連通口３１には処理空気導入室２a側から粉塵分離室２bに流入する粉塵捕捉液１０を整流するための整流手段４が配設されている。この整流手段４は、図示の実施形態においてはハニカム構造体からなっている。

【0014】

処理空気導入室２aを形成する上壁２３には処理空気導入口２３１が設けられており、この処理空気導入口２３１が粉塵発生源としての図示しない加工装置に連通されている。図示の実施形態における粉塵処理装置は、処理空気導入室２aに粉塵捕捉液を供給するための粉塵捕捉液供給手段５を具備している。この粉塵捕捉液供給手段５は、粉塵捕捉液としての水を貯留する水タンク５１と、該水タンク５１に貯留された水を送出するポンプ５２と、該ポンプ５２によって送出された水を処理空気導入室２aに供給する粉塵捕捉液供給管５３とからなっている。粉塵捕捉液供給管５３は処理空気導入室２aを形成する上壁２３に配設され、その吐出端である図１において下端には粉塵捕捉液を霧状に噴出する噴霧ノズル５４が設けられている。

【0015】

上記粉塵分離室２bには、仕切り壁３の連通口３１に配設されたハニカム構造体からなる整流手段４と対向して攪拌板６が配設されている。この攪拌板６は、下部に整流手段４を通して粉塵分離室２bに流入する粉塵捕捉液１０を攪拌するための湾曲凹部６１を備えており、該湾曲凹部６１の下側に流通穴６２が設けられている。

【0016】

また、粉塵分離室２bには、粉塵分離室２bに収容される粉塵捕捉液１０の水位を維持するための水位維持パイプ７が配設されている。この水位維持パイプ７は一端（上端）が処理槽２の底壁２１から所定の高さ位置に開口し、その他端が底壁２１を貫通して図示しない排水手段に接続されている。

【0017】

また、粉塵分離室２bには、上記攪拌板６と水位維持パイプ７との間に水位を安定させるための水位安定板８が配設されている。この水位安定板８は、下端が処理槽２の底壁２１と水位維持パイプ７の一端（上端）の間の位置に位置付けられており、上端が処理槽２の上壁２３に接続されている。そして、水位安定板８には、粉塵分離室２bの上部と水位維持パイプ７が配設された領域の上部に形成される排気室２cとを連通する開口８１が設けられている。

【0018】

なお、排気室２cを構成する上壁２３には排出口２３２が設けられており、この排出口２３２が送風機９に接続されている。

【0019】

図示の実施形態における粉塵処理装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
処理槽２の上壁２３に設けられた処理空気導入口２３１に連通された粉塵発生源としての図示しない加工装置によって発生した粉塵を処理するためには、上記送風機９を作動するとともに粉塵捕捉液供給手段５のポンプ５２を作動する。送風機９が作動すると、排気室２cおよび水位安定板８の開口８１を介して粉塵分離室２bの空気が吸引される。この結果、処理槽２の処理空気導入室２aの処理空気および粉塵捕捉液１０が仕切り壁３の連通口３１に配設されたハニカム構造体からなる整流手段４を通して粉塵分離室２b側に流入されるとともに、処理空気導入口２３１から粉塵を含む処理空気が処理空気導入室２aに吸引される。また、処理空気導入室２aには粉塵捕捉液供給手段５を構成する粉塵捕捉液供給管５３の下端に設けられた噴霧ノズル５４から粉塵捕捉液としての水が噴霧される。この結果、処理空気導入室２aに吸引された処理空気中の粉塵に水滴が付着して仕切り壁３の連通口３１に配設されたハニカム構造体からなる整流手段４を通して粉塵分離室２bに流入するとともに、粉塵の一部は処理槽２に収容されている粉塵捕捉液１０に接触して落下する。

【0020】

一方、仕切り壁３の連通口３１に配設されたハニカム構造体からなる整流手段４を通して粉塵分離室２b側に流入した粉塵捕捉液１０は、攪拌板６の湾曲凹部６１に沿って上方に舞い上げられ、処理空気導入室２aから粉塵分離室２bに吸引された処理空気中の粉塵に水滴を付着せしめる。このとき上述したように、仕切り壁３の連通口３１にはハニカム構造体からなる整流手段４が配設されているので、粉塵捕捉液１０の上下左右への波打が抑制され、攪拌板６によって粒子が揃った水粉末を生成することができ、処理空気中の粉塵に水滴を効率よく付着することができる。また、仕切り壁３の連通口３１にはハニカム構造体からなる整流手段４が配設されているので、粉塵捕捉液１０の水位変化が生じても上下左右への波打を抑制する効果を維持することができる。

【0021】

粉塵分離室２bに吸引された処理空気中の粉塵は水滴が付着し、一部は仕切り壁３を伝って粉塵捕捉液１０に落下し、残りは処理空気とともに切り壁３を乗り越えて水位安定板８との間に侵入する。そして、水滴が付着した粉塵はそのまま粉塵捕捉液１０に落下したり、仕切り壁３や水位安定板８を伝って粉塵捕捉液１０に落下する。このようにして、水滴が付着した粉塵が粉塵捕捉液１０に落下することによって除去された処理空気は、水位安定板８に設けられた開口８１を通して排気室２cに導かれ、排出口２３２から送風機９を通して排出される。

【0022】

なお、処理槽２の粉塵分離室２bに収容される粉塵捕捉液１０は、水位が水位維持パイプ７の上端に達すると、該水位維持パイプ７を通して排出される。また、粉塵分離室２bには、上記攪拌板６と水位維持パイプ７との間に水位を安定させるための水位安定板８が配設されているので、水位維持パイプ７が位置する領域の水位は安定している。

【0023】

以上のように図示の実施形態における粉塵処理装置は、仕切り壁３の連通口３１にハニカム構造体からなる整流手段４が配設されているので、粉塵捕捉液１０の上下左右への波打が抑制され、攪拌板６によって粒子が揃った水粉末を生成することができ、処理空気中の粉塵に水滴を効率よく付着することができる。従って、処理空気中の粉塵を確実に捕捉することができる。

【符号の説明】

【0024】

２：処理槽
２a：処理空気導入室
２b：粉塵分離室
３：仕切り壁
３１：連通口
４：整流手段
５：粉塵捕捉液供給手段
５１：水タンク
５２：ポンプ
５３：粉塵捕捉液供給管
５４：噴霧ノズル
６：攪拌板
７：水位維持パイプ
８：水位安定板
９：送風機

【図1】